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公开(公告)号:TWI460074B
公开(公告)日:2014-11-11
申请号:TW098133728
申请日:2009-10-05
发明人: 烏里格 艾爾伯特 , UHLIG, ALBRECHT , 蓋達 約瑟夫 , GAIDA, JOSEF , 蘇查特朗克 克里斯多福 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 鮑伊爾 麥克 , BOYLE, MIKE , 瓦修 布萊恩 , WASHO, BRIAN
IPC分类号: B32B33/00 , C23C18/36 , C23C18/44 , H01L23/485
CPC分类号: H01L24/05 , C23C18/1601 , C23C18/1651 , C23C18/18 , C23C18/36 , C23C18/44 , C23C18/54 , H01L24/03 , H01L2224/0401 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05164 , H01L2224/05644 , H01L2224/05664 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01011 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01016 , H01L2924/01019 , H01L2924/01022 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01033 , H01L2924/01046 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/15747 , Y10T428/1275 , Y10T428/12889 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
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2.供可黏合的晶圓表面用之壓力減低的Ni-P/Pd堆疊 STRESS-REDUCED NI-P/PD STACKS FOR BONDABLE WAFER SURFACES 审中-公开
简体标题: 供可黏合的晶圆表面用之压力减低的Ni-P/Pd堆栈 STRESS-REDUCED NI-P/PD STACKS FOR BONDABLE WAFER SURFACES公开(公告)号:TW201029842A
公开(公告)日:2010-08-16
申请号:TW098133728
申请日:2009-10-05
申请人: 亞妥帖德國股份有限公司
发明人: 烏里格 艾爾伯特 , 蓋達 約瑟夫 , 蘇查特朗克 克里斯多福 , 鮑伊爾 麥克 , 瓦修 布萊恩
CPC分类号: H01L24/05 , C23C18/1601 , C23C18/1651 , C23C18/18 , C23C18/36 , C23C18/44 , C23C18/54 , H01L24/03 , H01L2224/0401 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05164 , H01L2224/05644 , H01L2224/05664 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01011 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01016 , H01L2924/01019 , H01L2924/01022 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01033 , H01L2924/01046 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/15747 , Y10T428/1275 , Y10T428/12889 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
摘要: 本發明係關於一種具有可黏合的金屬塗層之基板,其Al或Cu表面上依序包含:(a)Ni-P層,(b)Pd層,和任意地,(c)Au層,其中該Ni-P層(a)的厚度是0.2至10微米,該Pd層(b)的厚度是0.05至1.0微米,而該任意的Au層(c)的厚度是0.01至0.5微米,且其中該Ni-P層(a)的P含量為10.5至14重量%。所得Ni-P/Pd堆疊的澱積內應力不高於34.48MPa(5,000psi)。此外,本發明揭示一種用以製備該基板之方法。
简体摘要: 本发明系关于一种具有可黏合的金属涂层之基板,其Al或Cu表面上依序包含:(a)Ni-P层,(b)Pd层,和任意地,(c)Au层,其中该Ni-P层(a)的厚度是0.2至10微米,该Pd层(b)的厚度是0.05至1.0微米,而该任意的Au层(c)的厚度是0.01至0.5微米,且其中该Ni-P层(a)的P含量为10.5至14重量%。所得Ni-P/Pd堆栈的淀积内应力不高于34.48MPa(5,000psi)。此外,本发明揭示一种用以制备该基板之方法。
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