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公开(公告)号：TWI460074B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW098133728
申请日：2009-10-05
发明人： 烏里格 艾爾伯特 , UHLIG, ALBRECHT , 蓋達 約瑟夫 , GAIDA, JOSEF , 蘇查特朗克 克里斯多福 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 鮑伊爾 麥克 , BOYLE, MIKE , 瓦修 布萊恩 , WASHO, BRIAN
IPC分类号： B32B33/00 , C23C18/36 , C23C18/44 , H01L23/485
CPC分类号： H01L24/05 , C23C18/1601 , C23C18/1651 , C23C18/18 , C23C18/36 , C23C18/44 , C23C18/54 , H01L24/03 , H01L2224/0401 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05164 , H01L2224/05644 , H01L2224/05664 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01011 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01016 , H01L2924/01019 , H01L2924/01022 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01033 , H01L2924/01046 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/15747 , Y10T428/1275 , Y10T428/12889 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
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公开(公告)号：TW201641745A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105108607
申请日：2016-03-18
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
IPC分类号： C23C18/30 , C23C18/31 , H01L21/228 , H01L21/3205 , H01L31/18
CPC分类号： H01L21/32053 , C23C18/1642 , C23C18/1655 , C23C18/1678 , C23C18/1692 , C23C18/1879 , C23C18/34 , C23C18/36 , C23C18/38 , H01L21/288 , H01L21/76838
摘要： 本發明係關於一種用於活化矽基材之活化組合物，其係包含鈀離子源、氟離子源及至少兩種芳香族酸之水溶液。本發明進一步係關於其使用及視情況用於此等經處理之基材之隨後金屬化之方法。該方法可用於半導體及太陽能電池製造中。
简体摘要： 本发明系关于一种用于活化硅基材之活化组合物，其系包含钯离子源、氟离子源及至少两种芳香族酸之水溶液。本发明进一步系关于其使用及视情况用于此等经处理之基材之随后金属化之方法。该方法可用于半导体及太阳能电池制造中。
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公开(公告)号：TWI680206B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW105108607
申请日：2016-03-18
IPC分类号： C23C18/30 , C23C18/31 , H01L21/228 , H01L21/3205 , H01L31/18
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公开(公告)号：TW201723226A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105138828
申请日：2016-11-25
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 華特 安德瑞絲 , WALTER, ANDREAS , 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 貝克 湯瑪士 , BECK, THOMAS , 史坦伯格 吉哈德 , STEINBERGER, GERHARD , 貝瑞 霍格 , BERA, HOLGER , 布魯諾 赫卡 , BRUNNER, HEIKO , 弗羅斯 伯恩德 , FROESE, BERND
CPC分类号： H05K3/187 , C23C18/1651 , C23C18/1683 , C23C18/32 , C23C18/44 , H01L21/288 , H05K3/244
摘要： 本發明係關於水性電鍍浴組合物及藉由無電電鍍將鈀層沈積至基板上之方法。根據本發明之水性電鍍浴組合物包含鈀離子源、鈀離子還原劑及不飽和化合物。根據本發明之水性電鍍浴組合物由於該等不飽和化合物而在將鈀沈積速率保持在令人滿意之期望值的同時具有改良之對抗不想要的分解之穩定性。該水性電鍍浴組合物亦具有延長之壽命。本發明之該等不飽和化合物容許在浴壽命期間將該沈積速率調整至令人滿意之範圍，並容許在較低溫度下無電沈積鈀層。
简体摘要： 本发明系关于水性电镀浴组合物及借由无电电镀将钯层沉积至基板上之方法。根据本发明之水性电镀浴组合物包含钯离子源、钯离子还原剂及不饱和化合物。根据本发明之水性电镀浴组合物由于该等不饱和化合物而在将钯沉积速率保持在令人满意之期望值的同时具有改良之对抗不想要的分解之稳定性。该水性电镀浴组合物亦具有延长之寿命。本发明之该等不饱和化合物容许在浴寿命期间将该沉积速率调整至令人满意之范围，并容许在较低温度下无电沉积钯层。
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公开(公告)号：TWI682064B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW104111686
申请日：2015-04-10
发明人： 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 葛魯姆特 凱瑟林娜 , GRUMMT, KATHARINA , 克拉莫 朱利亞 , CRAMER, JULIA
IPC分类号： C23C18/44 , H01L21/288
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公开(公告)号：TWI649449B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW105138830
申请日：2016-11-25
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 華特 安德瑞絲 , WALTER, ANDREAS , 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 貝克 湯瑪士 , BECK, THOMAS , 史坦伯格 吉哈德 , STEINBERGER, GERHARD , 貝瑞 霍格 , BERA, HOLGER , 布魯諾 赫卡 , BRUNNER, HEIKO , 魯克布勞德 斯帆 , RUECKBROD, SVEN
IPC分类号： C23C18/44
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公开(公告)号：TWI553753B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW101121398
申请日：2012-06-14
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 烏利格 艾爾伯奇特 , UHLIG, ALBRECHT , 蓋達 喬瑟夫 , GAIDA, JOSEF , 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF
CPC分类号： H01L23/4827 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05157 , H01L2224/05164 , H01L2224/05644 , H01L2224/05664 , H01L2224/45144 , H01L2224/45147 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01019 , H01L2924/01024 , H01L2924/01025 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01033 , H01L2924/0104 , H01L2924/01042 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01061 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01075 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/10253 , H01L2924/00014 , H01L2924/01015
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公开(公告)号：TW201542874A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104111686
申请日：2015-04-10
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 葛魯姆特 凱瑟林娜 , GRUMMT, KATHARINA , 克拉莫 朱利亞 , CRAMER, JULIA
IPC分类号： C23C18/44 , H01L21/288
CPC分类号： C23C18/44 , C23C18/1637 , C23C18/1651 , C23C18/54 , H01L21/288 , H05K3/187 , H05K3/24 , H05K3/244
摘要： 本發明係關於一種鍍浴組合物及一種藉由無電鍍覆將鈀層沉積在基板上之方法。根據本發明之含水酸性鍍浴包括鈀離子源、還原劑、鈀離子之氮化錯合劑及選自由包括至少兩個殘基之芳香族化合物組成之群的水溶性穩定劑，其中至少一殘基係親水殘基及至少一殘基具有負中介效應。該鍍浴具有提高之抗不想要分解的穩定性，同時維持充分鍍覆速率。
简体摘要： 本发明系关于一种镀浴组合物及一种借由无电镀覆将钯层沉积在基板上之方法。根据本发明之含水酸性镀浴包括钯离子源、还原剂、钯离子之氮化错合剂及选自由包括至少两个残基之芳香族化合物组成之群的水溶性稳定剂，其中至少一残基系亲水残基及至少一残基具有负中介效应。该镀浴具有提高之抗不想要分解的稳定性，同时维持充分镀覆速率。
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公开(公告)号：TWI692547B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW105138830
申请日：2016-11-25
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 華特 安德瑞絲 , WALTER, ANDREAS , 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 貝克 湯瑪士 , BECK, THOMAS , 史坦伯格 吉哈德 , STEINBERGER, GERHARD , 貝瑞 霍格 , BERA, HOLGER , 布魯諾 赫卡 , BRUNNER, HEIKO , 魯克布勞德 斯帆 , RUECKBROD, SVEN
IPC分类号： C23C18/44
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公开(公告)号：TW201738410A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105138830
申请日：2016-11-25
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 華特 安德瑞絲 , WALTER, ANDREAS , 蘇誠傳克 克里斯多夫 , SUCHENTRUNK, CHRISTOF , 貝克 湯瑪士 , BECK, THOMAS , 史坦伯格 吉哈德 , STEINBERGER, GERHARD , 貝瑞 霍格 , BERA, HOLGER , 布魯諾 赫卡 , BRUNNER, HEIKO , 魯克布勞德 斯帆 , RUECKBROD, SVEN
IPC分类号： C23C18/44
CPC分类号： C23C18/44 , C23C18/1844 , H01L21/288 , H05K3/187 , H05K3/243
摘要： 本發明係關於水性電鍍浴組合物及藉由無電電鍍將鈀層沈積至基板上之方法。根據本發明之水性電鍍浴組合物包含鈀離子源、鈀離子還原劑及含氰化物基團之芳香族化合物。根據本發明之水性電鍍浴組合物由於該等含氰化物基團之芳香族化合物而在將鈀沈積速率保持在令人滿意之期望值的同時具有改良之對抗不想要的分解之穩定性。該水性電鍍浴組合物亦具有延長之壽命。本發明之該等含氰化物基團之芳香族化合物容許在浴壽命期間將該沈積速率調整至令人滿意之範圍，並容許在較低溫度下無電沈積鈀層。
简体摘要： 本发明系关于水性电镀浴组合物及借由无电电镀将钯层沉积至基板上之方法。根据本发明之水性电镀浴组合物包含钯离子源、钯离子还原剂及含氰化物基团之芳香族化合物。根据本发明之水性电镀浴组合物由于该等含氰化物基团之芳香族化合物而在将钯沉积速率保持在令人满意之期望值的同时具有改良之对抗不想要的分解之稳定性。该水性电镀浴组合物亦具有延长之寿命。本发明之该等含氰化物基团之芳香族化合物容许在浴寿命期间将该沉积速率调整至令人满意之范围，并容许在较低温度下无电沉积钯层。
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