公开(公告)号：TW201342434A

公开(公告)日：2013-10-16

申请号：TW102101667

申请日：2013-01-16

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 阿門德哈雷德Z ,  AHMED, KHALED Z. ,  古柏羅吉帕布 ,  GOPALRAJA, PRABU ,  諾里阿提夫 ,  NOORI, ATIF ,  張鎂 ,  CHANG, MEI

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L29/772

摘要： 本文所述者為用於形成包含銦及砷的膜之設備與方法。特別地，可在「負載鎖定」狀態下的兩個或更多個腔室的配置中形成這些膜。這些膜可包括諸如鋁及/或鎵等額外成分作為摻質。這樣的膜可用於具有低接觸阻抗的金屬/矽觸點。本文也揭露了包括包含砷化銦之膜的元件。

简体摘要： 本文所述者为用于形成包含铟及砷的膜之设备与方法。特别地，可在“负载锁定”状态下的两个或更多个腔室的配置中形成这些膜。这些膜可包括诸如铝及/或镓等额外成分作为掺质。这样的膜可用于具有低接触阻抗的金属/硅触点。本文也揭露了包括包含砷化铟之膜的组件。

公开(公告)号：TWI450338B

公开(公告)日：2014-08-21

申请号：TW095137757

申请日：2006-10-13

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 蔡泰正 ,  CHUA, THAI CHENG ,  阿門德哈雷德Z ,  AHMED, KHALED Z. ,  扎爾尼克可力 ,  CZARNIK, CORY ,  克洛斯飛利浦亞倫 ,  KUAUS, PHILIP ALLAN ,  歐森克里斯多佛席恩 ,  OLSEN, CHRISTOPHER SEAN

IPC分类号： H01L21/336

CPC分类号： H01L21/31662 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/02252 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/02332 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/28185 ,  H01L21/28202 ,  H01L21/3144 ,  H01L21/3185 ,  H01L21/823857 ,  H01L29/518 ,  Y10S438/908

公开(公告)号：TW201413828A

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：TW102130617

申请日：2013-08-27

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 阿門德哈雷德Z ,  AHMED, KHALED Z. ,  安瑟斯傑佛瑞W ,  ANTHIS, JEFFREY W.

IPC分类号： H01L21/336 ,  H01L21/31

摘要： 本發明所描述者係提供用以在鍺或III-V族材料上形成矽酸鉭層的裝置與方法。這樣的矽酸鉭層可具有約0.01至約0.15的Si/(Ta+Si)原子比例。可藉由氧化矽與氧化鉭的原子層沉積，接著藉由氧化矽與氧化鉭層的內擴散，以形成矽酸鉭層。

简体摘要： 本发明所描述者系提供用以在锗或III-V族材料上形成硅酸钽层的设备与方法。这样的硅酸钽层可具有约0.01至约0.15的Si/(Ta+Si)原子比例。可借由氧化硅与氧化钽的原子层沉积，接着借由氧化硅与氧化钽层的内扩散，以形成硅酸钽层。

公开(公告)号：TWI598938B

公开(公告)日：2017-09-11

申请号：TW102101667

申请日：2013-01-16

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 阿門德哈雷德Z ,  AHMED, KHALED Z. ,  古柏羅吉帕布 ,  GOPALRAJA, PRABU ,  諾里阿提夫 ,  NOORI, ATIF ,  張鎂 ,  CHANG, MEI

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L29/772

公开(公告)号：TWI415193B

公开(公告)日：2013-11-11

申请号：TW096115996

申请日：2007-05-04

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 蔡泰正 ,  CHUA, THAI CHENG ,  扎爾尼克可力 ,  CZARNIK, CORY ,  海格德斯安德利亞G ,  HEGEDUS, ANDREAS G. ,  歐森克里斯多佛席恩 ,  OLSEN, CHRISTOPHER SEAN ,  阿門德哈雷德Z ,  AHMED, KHALED Z. ,  克悟思飛立普亞倫 ,  KRAUS, PHILIP ALLAN

IPC分类号： H01L21/336

CPC分类号： H01L21/3144 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/02252 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02332 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/28185 ,  H01L21/28202 ,  H01L21/31662 ,  H01L21/3185 ,  H01L21/823857 ,  H01L29/518