公开(公告)号：TWI679231B

公开(公告)日：2019-12-11

申请号：TW105106516

申请日：2016-03-03

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  千坂博樹 ,  CHISAKA, HIROKI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI

IPC: C08K5/3445 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  H01B3/30 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1333

公开(公告)号：TWI669293B

公开(公告)日：2019-08-21

申请号：TW106142408

申请日：2015-08-28

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  日商大賽璐股份有限公司 ,  DAICEL CORPORATION

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  大內康秀 ,  OHUCHI, YASUHIDE ,  千坂博樹 ,  CHISAKA, HIROKI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI ,  前田幸嗣 ,  MAEDA, YUKITSUGU ,  井本文 ,  IMOTO, TAKAFUMI ,  藤田浩平 ,  FUJITA, KOUHEI ,  赤井泰之 ,  AKAI, YASUYUKI

IPC: C07D233/60 ,  C23F11/14

公开(公告)号：TW201920501A

公开(公告)日：2019-06-01

申请号：TW107133333

申请日：2018-09-21

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  松本純 ,  MATSUMOTO, NAOZUMI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI

IPC: C09B67/22 ,  C08F2/44 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G02B5/20 ,  H01L51/52

Abstract: 本發明之課題在於提供一種賦予具有高遮光性之硬化膜且藉由低溫下之烘烤仍安定地硬化之感光性樹脂組成物、使該感光性樹脂組成物硬化而成之硬化膜、具備該硬化膜之顯示裝置，與使用前述感光性樹脂組成物之圖型形成方法。又，提供一種對於具備發光元件之基板，不會對發光元件造成熱損傷之遮光膜形成製程。 　　其解決手段為使用一種感光性樹脂組成物，其係包含(A)黏合劑樹脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合起始劑、(D)著色劑，及(E)熱硬化性化合物之感光性樹脂組成物，其中(D)著色劑係組合(D1)碳黑及／或無機黑色顏料，與(D2)有機顏料，且T2／T1為0.80以上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题在于提供一种赋予具有高遮光性之硬化膜且借由低温下之烘烤仍安定地硬化之感光性树脂组成物、使该感光性树脂组成物硬化而成之硬化膜、具备该硬化膜之显示设备，与使用前述感光性树脂组成物之图型形成方法。又，提供一种对于具备发光组件之基板，不会对发光组件造成热损伤之遮光膜形成制程。 　　其解决手段为使用一种感光性树脂组成物，其系包含(A)黏合剂树脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合起始剂、(D)着色剂，及(E)热硬化性化合物之感光性树脂组成物，其中(D)着色剂系组合(D1)碳黑及／或无机黑色颜料，与(D2)有机颜料，且T2／T1为0.80以上。

公开(公告)号：TWI649622B

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：TW103145284

申请日：2014-12-24

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  黒子麻祐美 ,  KUROKO, MAYUMI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

公开(公告)号：TWI667545B

公开(公告)日：2019-08-01

申请号：TW104125627

申请日：2015-08-06

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  山口尚人 ,  YAMAGUCHI, NAOTO ,  黒子麻祐美 ,  KUROKO, MAYUMI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/028 ,  C08K9/06 ,  H01L21/027 ,  G02F1/133

公开(公告)号：TWI667305B

公开(公告)日：2019-08-01

申请号：TW104117778

申请日：2015-06-02

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  黒子麻祐美 ,  KUROKO, MAYUMI ,  千坂博樹 ,  CHISAKA, HIROKI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI

IPC: C09D17/00 ,  C09C1/58 ,  C09C3/08

公开(公告)号：TW201829644A

公开(公告)日：2018-08-16

申请号：TW106136324

申请日：2017-10-23

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 松本直純 ,  MATSUMOTO, NAOZUMI ,  大內康秀 ,  OHUCHI, YASUHIDE ,  石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  黒子麻祐美 ,  KUROKO, MAYUMI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI

IPC: C09B67/46 ,  B01F17/54 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  C08G63/676 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  H05B33/02 ,  H01L51/50

Abstract: 本發明提供一種著色劑分散液、包含該著色劑分散液之感光性樹脂組合物、該感光性樹脂組合物之硬化物、具備該硬化物之有機EL元件、使用上述感光性樹脂組合物之圖案之形成方法、及使用上述著色劑分散液之感光性樹脂組合物之製造方法；上述著色劑分散液包含經良好分散之顏料，於調配至感光性樹脂組合物中之情形時可獲得能夠形成產生氣體量較少之硬化膜之感光性樹脂組合物。 本發明係於含有包含顏料(E1)與分散劑(E2)之著色劑(E)之著色劑分散液中，使用包含特定結構之倍半矽氧烷化合物之分散劑(E2)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种着色剂分散液、包含该着色剂分散液之感光性树脂组合物、该感光性树脂组合物之硬化物、具备该硬化物之有机EL组件、使用上述感光性树脂组合物之图案之形成方法、及使用上述着色剂分散液之感光性树脂组合物之制造方法；上述着色剂分散液包含经良好分散之颜料，于调配至感光性树脂组合物中之情形时可获得能够形成产生气体量较少之硬化膜之感光性树脂组合物。 本发明系于含有包含颜料(E1)与分散剂(E2)之着色剂(E)之着色剂分散液中，使用包含特定结构之倍半硅氧烷化合物之分散剂(E2)。

公开(公告)号：TWI682925B

公开(公告)日：2020-01-21

申请号：TW104128396

申请日：2015-08-28

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  大內康秀 ,  OHUCHI, YASUHIDE ,  千坂博樹 ,  CHISAKA, HIROKI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI ,  前田幸嗣 ,  MAEDA, YUKITSUGU ,  井本文 ,  IMOTO, TAKAFUMI ,  藤田浩平 ,  FUJITA, KOUHEI ,  赤井泰之 ,  AKAI, YASUYUKI

IPC: C07D233/60 ,  C23F11/00 ,  G03F7/004 ,  C23C22/00 ,  G03F7/039 ,  H05K3/28

公开(公告)号：TWI676862B

公开(公告)日：2019-11-11

申请号：TW104120180

申请日：2015-06-23

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 田所恵典 ,  TADOKORO, YOSHINORI ,  石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  木下哲郎 ,  KINOSHITA, TETSURO

IPC: G03F7/031 ,  G03F7/085 ,  H01L21/027

公开(公告)号：TW201808913A

公开(公告)日：2018-03-16

申请号：TW106142408

申请日：2015-08-28

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 石川達郎 ,  ISHIKAWA, TATSURO ,  野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  大內康秀 ,  OHUCHI, YASUHIDE ,  千坂博樹 ,  CHISAKA, HIROKI ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI ,  前田幸嗣 ,  MAEDA, YUKITSUGU ,  井本文 ,  IMOTO, TAKAFUMI ,  藤田浩平 ,  FUJITA, KOUHEI ,  赤井泰之 ,  AKAI, YASUYUKI

IPC: C07D233/60 ,  C23F11/14

CPC classification number: C07D233/60 ,  C08K5/3445 ,  C23C22/02 ,  C23C22/05 ,  C23F11/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  H05K1/09 ,  H05K3/28 ,  H05K3/4644 ,  H05K2201/032

Abstract: 本發明係提供可供予遷移(migration)或配線表面之氧化之抑制效果優異之表面處理液的新規咪唑化合物，提供含有該咪唑化合物之金屬表面處理液，提供使用該金屬表面處理液之金屬之表面處理方法、及使用該表面處理液之層合體之製造方法。 本發明係使用在所定之位置被所定之結構的芳香族基與可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之結構之飽和脂肪酸或飽和脂肪酸酯之表面處理液，將金屬進行表面處理。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供可供予迁移(migration)或配线表面之氧化之抑制效果优异之表面处理液的新规咪唑化合物，提供含有该咪唑化合物之金属表面处理液，提供使用该金属表面处理液之金属之表面处理方法、及使用该表面处理液之层合体之制造方法。 本发明系使用在所定之位置被所定之结构的芳香族基与可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之结构之饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯之表面处理液，将金属进行表面处理。