公开(公告)号：TWI594971B

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：TW104121964

申请日：2015-07-07

申请人： 菲洛公司 ,  FERRO CORPORATION

发明人： 西墨斯 華特 ,  SYMES, WALTER ,  普林茲巴赫 葛高利R ,  PRINZBACH, GREGORY R. ,  馬隆尼 約翰J ,  MALONEY, JOHN J. ,  亨利 詹姆士E ,  HENRY, JAMES E. ,  布朗 奧維爾W ,  BROWN, ORVILLE W. ,  斯利哈蘭 斯利尼瓦山 ,  SRIDHARAN, SRINIVASAN ,  何 逸山 ,  HER, YIE-SHEIN ,  王志丞 ,  葛雷帝 小喬治艾德華 ,  GRADDY, GEORGE EDWARD JR ,  沙科思科 喬治E ,  SAKOSKE, GEORGE E.

IPC分类号： C04B35/468 ,  H01G4/12

CPC分类号： H01G4/129 ,  C03C8/18 ,  C04B35/16 ,  C04B35/18 ,  C04B35/195 ,  C04B35/22 ,  C04B35/453 ,  C04B35/465 ,  C04B35/468 ,  C04B35/4682 ,  C04B35/475 ,  C04B35/478 ,  C04B35/62218 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/64 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/3208 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3236 ,  C04B2235/3281 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3298 ,  C04B2235/3409 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/3436 ,  C04B2235/445 ,  C04B2235/6025 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/725 ,  C04B2235/77 ,  C09D5/24 ,  H01G4/105 ,  H01G4/12 ,  H01G4/1209 ,  H01G4/1227

公开(公告)号：TW201711954A

公开(公告)日：2017-04-01

申请号：TW105118789

申请日：2016-06-15

申请人： 聖戈本歐洲研習中心 ,  SAINT-GOBAIN CENTRE DE RECHERCHES ET D'ETUDES EUROPEEN

发明人： 納哈斯 納畢 ,  NAHAS, NABIL ,  巴鴻 愛歐戴 ,  BAHON, ELODIE ,  伯桑洛克斯 依維斯 ,  BOUSSANT-ROUX, YVES

IPC分类号： C01B21/064 ,  C04B26/02

CPC分类号： C04B26/04 ,  C01B21/064 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/60 ,  C01P2006/10 ,  C01P2006/16 ,  C01P2006/80 ,  C04B26/08 ,  C04B26/10 ,  C04B26/32 ,  C04B35/583 ,  C04B35/6261 ,  C04B35/6262 ,  C04B35/6268 ,  C04B35/62695 ,  C04B38/009 ,  C04B2111/00465 ,  C04B2111/00844 ,  C04B2235/386 ,  C04B2235/528 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/728 ,  C04B2235/767 ,  C04B14/327 ,  C04B20/002 ,  C04B2103/0041 ,  C04B38/0054 ,  C04B38/0058

摘要： 本發明關於基本上由以氮化硼為底的聚集體所構成之粉末，該粉末展現包含以重量百分比表示之介於40與45%之間的硼、介於53與57%之間的氮、少於400ppm(重量計)之鈣、總計少於5%之其他元素的整體化學組成，以及多於90%之氮化硼(包括端值)，以重量百分比表示且以組合結晶相為基準，平均圓度為大於或等於0.90、中位孔徑為小於或等於1.5μm，且視孔隙度為小於或等於55%。

简体摘要： 本发明关于基本上由以氮化硼为底的聚集体所构成之粉末，该粉末展现包含以重量百分比表示之介于40与45%之间的硼、介于53与57%之间的氮、少于400ppm(重量计)之钙、总计少于5%之其他元素的整体化学组成，以及多于90%之氮化硼(包括端值)，以重量百分比表示且以组合结晶相为基准，平均圆度为大于或等于0.90、中位孔径为小于或等于1.5μm，且视孔隙度为小于或等于55%。

公开(公告)号：TW201634424A

公开(公告)日：2016-10-01

申请号：TW105107497

申请日：2016-03-11

申请人： JX金屬股份有限公司 ,  JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION

发明人： 山口洋平 ,  YAMAGUCHI, YOHEI

IPC分类号： C04B35/01 ,  C04B35/622 ,  C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C04B35/01 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/5409 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/6585 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/94 ,  C04B2235/963 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/3423 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3491

摘要： 本發明之一目的在於提供變形少且強度高之圓筒形濺射靶件、圓筒形燒結體、圓筒形成形體及此些之製造方法。或者其一目的在於提供均質性高之圓筒形濺射靶件、圓筒形燒結體、圓筒形成形體及此些之製造方法。根據本發明之一實施型態之濺射靶件包含圓筒形燒結體。圓筒形燒結體之相對密度為99.7%以上且為99.9%以下。而且，圓筒形濺射靶件包含彼此相鄰且之間具有指定間隔之多個圓筒形燒結體，相鄰之多個圓筒形燒結體之間之相對密度之差異可為0.1%以下。

简体摘要： 本发明之一目的在于提供变形少且强度高之圆筒形溅射靶件、圆筒形烧结体、圆筒形成形体及此些之制造方法。或者其一目的在于提供均质性高之圆筒形溅射靶件、圆筒形烧结体、圆筒形成形体及此些之制造方法。根据本发明之一实施型态之溅射靶件包含圆筒形烧结体。圆筒形烧结体之相对密度为99.7%以上且为99.9%以下。而且，圆筒形溅射靶件包含彼此相邻且之间具有指定间隔之多个圆筒形烧结体，相邻之多个圆筒形烧结体之间之相对密度之差异可为0.1%以下。

公开(公告)号：TWI537232B

公开(公告)日：2016-06-11

申请号：TW100139182

申请日：2011-10-27

申请人： 康寧公司 ,  CORNING INCORPORATED

发明人： 藍哲思潘拉夫艾爾弗雷德 ,  LANGENSIEPEN, RALPH ALFRED ,  麥英特西喬瑟夫詹姆士 ,  MCINTOSH, JOSEPH JAMES ,  堤蒙斯翠西L ,  TIMMONS, TRACEY L.

IPC分类号： C04B35/447 ,  C04B35/626

CPC分类号： C04B35/505 ,  C03B17/064 ,  C04B35/447 ,  C04B35/6262 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5472 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6565 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/721 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/95 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9615

公开(公告)号：TWI518018B

公开(公告)日：2016-01-21

申请号：TW100117526

申请日：2011-05-19

申请人： 霓佳斯股份有限公司 ,  NICHIAS CORPORATION

发明人： 渡邊和久 ,  WATANABE, KAZUHISA ,  岩田耕治 ,  IWATA, KOUJI ,  中山正章 ,  NAKAYAMA, MASAAKI

IPC分类号： B65G39/04 ,  C03B35/18

CPC分类号： B65H27/00 ,  B65H2401/12 ,  C04B28/24 ,  C04B33/36 ,  C04B35/117 ,  C04B35/18 ,  C04B35/195 ,  C04B35/22 ,  C04B35/6303 ,  C04B35/6316 ,  C04B35/636 ,  C04B35/803 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3481 ,  C04B2235/349 ,  C04B2235/5224 ,  C04B2235/5228 ,  C04B2235/5232 ,  C04B2235/526 ,  C04B2235/5264 ,  C04B2235/528 ,  C04B2235/5292 ,  C04B2235/5296 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/6027 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/61 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9615 ,  C04B14/04 ,  C04B14/303 ,  C04B14/4656 ,  C04B40/0268

公开(公告)号：TW201509865A

公开(公告)日：2015-03-16

申请号：TW103114230

申请日：2014-04-18

申请人： 住友化學股份有限公司 ,  SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED ,  福岡縣 ,  FUKUOKA PREFECTURAL GOVERNMENT

发明人： 中田邦彥 ,  NAKATA, KUNIHIKO ,  藤吉国孝 ,  FUJIYOSHI, KUNITAKA

IPC分类号： C04B35/00 ,  C01G15/00 ,  C01G9/02 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C04B35/63 ,  C04B35/645

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C04B35/453 ,  C04B35/638 ,  C04B35/6455 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/549 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/77

摘要： 本發明之課題在於提供可以低成本製造In-Ga-Zn系複合氧化物(IGZO)靶材，而且可實現高相對密度97~100%之IGZO燒結體之製造方法、IGZO燒結體及靶材。 本發明之In-Ga-Zn系複合氧化物燒結體係以式：InxGayZnzOa [式中、x/(x+y)=0.2~0.8、z/(x+y+z)=0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z]所示之In-Ga-Zn系複合氧化物燒結體，且體電阻值未達1.0×10-3Ω．cm。

简体摘要： 本发明之课题在于提供可以低成本制造In-Ga-Zn系复合氧化物(IGZO)靶材，而且可实现高相对密度97~100%之IGZO烧结体之制造方法、IGZO烧结体及靶材。 本发明之In-Ga-Zn系复合氧化物烧结体系以式：InxGayZnzOa [式中、x/(x+y)=0.2~0.8、z/(x+y+z)=0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z]所示之In-Ga-Zn系复合氧化物烧结体，且体电阻值未达1.0×10-3Ω．cm。

公开(公告)号：TW201423778A

公开(公告)日：2014-06-16

申请号：TW102144690

申请日：2013-12-05

申请人： 3M新設資產公司 ,  3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

发明人： 許銀光 ,  HUR, EUN-KWANG ,  徐政柱 ,  SUH, JUNG-JU ,  趙成兒 ,  CHO, SEUNG-AH ,  崔錫元 ,  CHOI, SUK-WON

IPC分类号： H01F10/20 ,  H01F41/02 ,  H01Q17/00

CPC分类号： H01Q7/06 ,  C04B35/26 ,  C04B2235/3241 ,  C04B2235/3277 ,  C04B2235/3279 ,  C04B2235/3281 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3298 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/6025 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/945 ,  H01F1/344 ,  H01F7/0273 ,  H01Q1/2225 ,  H04B5/0031 ,  H04B5/0081

摘要： 本發明揭示：一種鐵氧體生片，其包含形成於該鐵氧體生片之一頂表面中之一圖案；一經燒結鐵氧體片；包含經燒結鐵氧體片之一複合鐵氧體片；及一導電迴路天線模組。該圖案包含複數個溝槽，每一溝槽具有一寬度W及具有一曲率半徑R之一圓形底部，其中W與R之一比率(W:R)係在1:0.1至1:0.5之範圍內。

简体摘要： 本发明揭示：一种铁氧体生片，其包含形成于该铁氧体生片之一顶表面中之一图案；一经烧结铁氧体片；包含经烧结铁氧体片之一复合铁氧体片；及一导电回路天线模块。该图案包含复数个沟槽，每一沟槽具有一宽度W及具有一曲率半径R之一圆形底部，其中W与R之一比率(W:R)系在1:0.1至1:0.5之范围内。

公开(公告)号：TW201036935A

公开(公告)日：2010-10-16

申请号：TW099102115

申请日：2010-01-26

申请人： 賀迅專業化學公司

发明人： 蘇倫 約瑟夫 ,  史崔克 彼得 ,  安妮瑞斯 克里多斯 ,  多第茲哥 史提芬

IPC分类号： C04B

CPC分类号： C04B35/1015 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/6303 ,  C04B35/63476 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3218 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5472 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/61 ,  C04B2235/721 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/96

摘要： 本發明係關於一種用天然及/或合成無機非金屬原料、至少一黏合劑及可能之其他添加劑所構成的混合物製成的陶瓷製品。為了提供一種至少可在腐蝕及侵蝕方面消除先前技術之習知缺點的陶瓷製品，本發明建議用一混合物製造該陶瓷製品，該混合物含有a）至少10wt％(以該混合物之全部固體物質的重量為參照)之氧化物成分，b）0.05wt％至2.7wt％(以該混合物之全部固體物質的重量為參照)的至少一有機系黏合劑，該黏合劑在該混合物中起稀釋作用，及c）3wt％至10wt％(以該混合物之全部固體物質的重量為參照)之含水分散劑，該陶瓷製品在600℃以上之溫度下使用後含碳量低於0.1wt％(以該陶瓷製品之總重為參照)。

简体摘要： 本发明系关于一种用天然及/或合成无机非金属原料、至少一黏合剂及可能之其他添加剂所构成的混合物制成的陶瓷制品。为了提供一种至少可在腐蚀及侵蚀方面消除先前技术之习知缺点的陶瓷制品，本发明建议用一混合物制造该陶瓷制品，该混合物含有a）至少10wt％(以该混合物之全部固体物质的重量为参照)之氧化物成分，b）0.05wt％至2.7wt％(以该混合物之全部固体物质的重量为参照)的至少一有机系黏合剂，该黏合剂在该混合物中起稀释作用，及c）3wt％至10wt％(以该混合物之全部固体物质的重量为参照)之含水分散剂，该陶瓷制品在600℃以上之温度下使用后含碳量低于0.1wt％(以该陶瓷制品之总重为参照)。

公开(公告)号：TW200640826A

公开(公告)日：2006-12-01

申请号：TW095110231

申请日：2006-03-24

申请人： 日本子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.

发明人： 小林義政 YOSHIMASA KOBAYASHI ,  早瀨徹 TORU HAYASE ,  山田直仁 NAOHITO YAMADA

IPC分类号： C04B ,  H01L

CPC分类号： C04B35/581 ,  C04B35/6303 ,  C04B35/645 ,  C04B37/021 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/6581 ,  C04B2235/77 ,  C04B2237/366 ,  C04B2237/403 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/6831

摘要： 〔課題〕提供具有優異均熱性之陶瓷元件。〔解決手段〕陶瓷元件10係具備陶瓷燒結體11、與陶瓷燒結體11連接而形成之包含金屬元素的金屬元件12。陶瓷燒結體11中金屬元件12周邊之變質層11a之厚度t被抑制在300μm以下。

简体摘要： 〔课题〕提供具有优异均热性之陶瓷组件。〔解决手段〕陶瓷组件10系具备陶瓷烧结体11、与陶瓷烧结体11连接而形成之包含金属元素的金属组件12。陶瓷烧结体11中金属组件12周边之变质层11a之厚度t被抑制在300μm以下。

公开(公告)号：TW200420521A

公开(公告)日：2004-10-16

申请号：TW093101940

申请日：2004-01-29

申请人： TDK股份有限公司 TDK CORPORATION

发明人： 佐藤茂樹 SHIGEKI SATO ,  外海透 THORU TONOGAI ,  櫻井俊雄 TOSHIO SAKURAI ,  小林央始 HISASHI KOBAYASHI ,  中村知子 TOMOKO NAKAMURA ,  野村武史 TAKESHI NOMURA

IPC分类号： C04B

CPC分类号： C04B35/634 ,  C04B35/4682 ,  C04B35/62625 ,  C04B35/6264 ,  C04B35/62665 ,  C04B35/63 ,  C04B35/632 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3239 ,  C04B2235/3241 ,  C04B2235/3436 ,  C04B2235/3454 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/61 ,  C04B2235/963 ,  H01G4/1227 ,  H01G4/30

摘要： 本發明係關於一種綠片用塗料、綠片、綠片用塗料之製造方法、綠片之製造方法及電子組件之製造方法；也就是說，本發明係一種具有陶瓷粉體、黏合劑樹脂、可塑劑和溶劑之綠片用塗料，黏合劑樹脂係包含聚乙烯基丁縮醛樹脂，該聚丁縮醛樹脂之聚合度係1000以上、1700以下，樹脂之丁縮醛化度之公稱值係65％以上、小於78％，殘留乙醯基量係未滿6％。

简体摘要： 本发明系关于一种绿片用涂料、绿片、绿片用涂料之制造方法、绿片之制造方法及电子组件之制造方法；也就是说，本发明系一种具有陶瓷粉体、黏合剂树脂、可塑剂和溶剂之绿片用涂料，黏合剂树脂系包含聚乙烯基丁缩醛树脂，该聚丁缩醛树脂之聚合度系1000以上、1700以下，树脂之丁缩醛化度之公称值系65％以上、小于78％，残留乙酰基量系未满6％。