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公开(公告)号:TWI591369B
公开(公告)日:2017-07-11
申请号:TW104119277
申请日:2015-06-15
发明人: 村上昌臣 , MURAKAMI, MASAOMI , 三上充 , MIKAMI, MAKOTO , 村上幸司 , MURAKAMI, KOUJI , 野田朗 , NODA, AKIRA , 伊森徹 , IMORI, TORU
IPC分类号: G01T1/24 , H01L31/0296 , H01L31/0224 , H01L31/115
CPC分类号: G01T1/24 , H01L24/05 , H01L24/06 , H01L24/09 , H01L27/144 , H01L27/146 , H01L27/14634 , H01L27/14636 , H01L27/14676 , H01L27/14696 , H01L31/02005 , H01L31/022408 , H01L31/0296 , H01L31/02966 , H01L31/08 , H01L31/115 , H01L2224/0345 , H01L2224/03464 , H01L2224/0558 , H01L2224/05583 , H01L2224/05584 , H01L2224/05644 , H01L2224/05655 , H01L2224/05664
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公开(公告)号:TWI532199B
公开(公告)日:2016-05-01
申请号:TW103122915
申请日:2014-07-02
发明人: 楊勝州 , YOUNG, SHENG JOUE , 劉宜鑫 , LIU, YI HSING , 姬梁文 , JI, LIANG WEN
IPC分类号: H01L31/0224 , H01L31/0296 , H01L31/18
CPC分类号: Y02P70/521
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公开(公告)号:TWI683428B
公开(公告)日:2020-01-21
申请号:TW107131988
申请日:2018-09-12
发明人: 山田浩平 , YAMADA, KOHEI , 村上幸司 , MURAKAMI, KOJI , 野田朗 , NODA, AKIRA
IPC分类号: H01L27/14 , H01L31/115 , H01L31/0296 , H01L31/0224 , H01L31/0236 , G01T1/24
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公开(公告)号:TW201341481A
公开(公告)日:2013-10-16
申请号:TW102111764
申请日:2013-04-01
申请人: 旺能光電股份有限公司 , DELSOLAR CO., LTD.
发明人: 廖曰淳 , LIAO, YUEH CHUN , 楊豐瑜 , YANG, FENG YU , 丁晴 , TING, CHING
IPC分类号: C09D1/00 , C09D5/24 , H01L21/368 , H01L31/0296
CPC分类号: C09D11/037 , C09D11/322 , C09D11/52 , H01L21/02554 , H01L21/02568 , H01L21/02601 , H01L21/02628 , H01L31/0749 , Y02E10/541
摘要: 一種形成漿料之方法包括形成金屬離子與金屬錯合物離子之至少其中之一、形成金屬硫化物奈米粒子、形成一第一溶液,使得第一溶液包括金屬硫化物奈米粒子以及金屬離子與金屬錯合物離子之至少其中之一,其中金屬硫化物奈米粒子、金屬離子與金屬錯合物離子所包含之金屬係選自由週期表第I、II、III或IV族元素、以及在金屬硫化物奈米粒子、金屬離子及金屬錯合物離子之金屬並不包含一硫化物半導體材料之所有金屬元素時,重複金屬硫化物奈米粒子、金屬離子與金屬錯合物離子之至少其中之一之形成步驟,且形成作為漿料的第一溶液。
简体摘要: 一种形成浆料之方法包括形成金属离子与金属错合物离子之至少其中之一、形成金属硫化物奈米粒子、形成一第一溶液,使得第一溶液包括金属硫化物奈米粒子以及金属离子与金属错合物离子之至少其中之一,其中金属硫化物奈米粒子、金属离子与金属错合物离子所包含之金属系选自由周期表第I、II、III或IV族元素、以及在金属硫化物奈米粒子、金属离子及金属错合物离子之金属并不包含一硫化物半导体材料之所有金属元素时,重复金属硫化物奈米粒子、金属离子与金属错合物离子之至少其中之一之形成步骤,且形成作为浆料的第一溶液。
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公开(公告)号:TW202005066A
公开(公告)日:2020-01-16
申请号:TW108137609
申请日:2018-09-12
发明人: 山田浩平 , YAMADA, KOHEI , 村上幸司 , MURAKAMI, KOJI , 野田朗 , NODA, AKIRA
IPC分类号: H01L27/14 , H01L31/115 , H01L31/0296 , H01L31/0224 , G01T1/24
摘要: 本發明提供一種放射線檢測元件,其於由含有碲化鎘或碲化鋅鎘之化合物半導體結晶所構成之基板之表面具備多個電極部與電極間之絕緣部,於上述多個電極部與基板之間存在含有碲之氧化物之中間層,將距上述電極間之絕緣部之端部500 nm之內側之碲氧化物層之厚度設為100 nm以下,而即便於如製成電極之密接性較高且為了獲得高精細之放射線繪製圖像而電極間之間隔較窄之放射線檢測元件的情形時,亦不會產生因多個電極間之絕緣不充分而引起之性能不良。
简体摘要: 本发明提供一种放射线检测组件,其于由含有碲化镉或碲化锌镉之化合物半导体结晶所构成之基板之表面具备多个电极部与电极间之绝缘部,于上述多个电极部与基板之间存在含有碲之氧化物之中间层,将距上述电极间之绝缘部之端部500 nm之内侧之碲氧化物层之厚度设为100 nm以下,而即便于如制成电极之密接性较高且为了获得高精细之放射线绘制图像而电极间之间隔较窄之放射线检测组件的情形时,亦不会产生因多个电极间之绝缘不充分而引起之性能不良。
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公开(公告)号:TW201721232A
公开(公告)日:2017-06-16
申请号:TW105131618
申请日:2016-09-30
申请人: 英帆薩斯公司 , INVENSAS CORPORATION
发明人: 沈 虹 , SHEN, HONG , 王 亮 , WANG, LIANG , 高 桂蓮 , GAO, GUILIAN , 西塔朗 亞卡爾古德R , SITARAM, ARKALGUD R.
IPC分类号: G02B27/01 , G06T1/20 , H01L27/146 , H01L31/0232 , H01L31/028 , H01L31/0296 , H01L31/0304 , H01L31/032 , H04N5/33 , H04N5/374 , H04N9/04 , H04N9/097 , H04N9/43 , H04N9/76
CPC分类号: H04N9/43 , G02B27/1013 , G06T1/20 , H01L27/1462 , H01L27/14634 , H01L27/14645 , H01L27/1465 , H01L27/14685 , H01L27/1469 , H01L31/02322 , H01L31/028 , H01L31/0296 , H01L31/0304 , H01L31/032 , H04N5/332 , H04N5/374 , H04N9/045 , H04N9/097 , H04N9/76
摘要: 本發明提供使用整合在3D封裝中的單色CMOS影像感測器的HD彩色視頻。用於彩色視頻的範例3DIC包括分束器,以將接收到的影像流的光分成多個光輸出。多個單色CMOS影像感測器是每一者被耦合至多個光輸出中的一者,以用接收到的光的各自成分波長感測單色影像流。每一個單色CMOS影像感測器是被特別地建構、摻雜、控制以及調整以符合其各自波長的光。平行處理的積分器或中介件晶片將各自的單色影像流非均勻地合併成全頻譜彩色視頻流,包括紅外線或紫外線流的平行處理。單色影像流的平行處理提供在低光位準下HD或4K HD彩色視頻的重建。一個中介件晶片的平行處理亦提升速度、空間分辨率、感測性、低光效能和色彩重建。
简体摘要: 本发明提供使用集成在3D封装中的单色CMOS影像传感器的HD彩色视频。用于彩色视频的范例3DIC包括分束器,以将接收到的影像流的光分成多个光输出。多个单色CMOS影像传感器是每一者被耦合至多个光输出中的一者,以用接收到的光的各自成分波长传感单色影像流。每一个单色CMOS影像传感器是被特别地建构、掺杂、控制以及调整以符合其各自波长的光。平行处理的积分器或中介件芯片将各自的单色影像流非均匀地合并成全频谱彩色视频流,包括红外线或紫外线流的平行处理。单色影像流的平行处理提供在低光位准下HD或4K HD彩色视频的重建。一个中介件芯片的平行处理亦提升速度、空间分辨率、传感性、低光性能和色彩重建。
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公开(公告)号:TW201603294A
公开(公告)日:2016-01-16
申请号:TW103122915
申请日:2014-07-02
发明人: 楊勝州 , YOUNG, SHENG JOUE , 劉宜鑫 , LIU, YI HSING , 姬梁文 , JI, LIANG WEN
IPC分类号: H01L31/0224 , H01L31/0296 , H01L31/18
CPC分类号: Y02P70/521
摘要: 一種具有氧化鋅奈米片構造層之紫外光檢測器,其包含:一基板、一形成於該基板之表面之金屬電極層,該金屬電極層至少包含兩個電極;及一形成於該基板及該金屬電極層表面且為站立片狀型態之複數個氧化鋅奈米片,兩兩相鄰之間的該氧化鋅奈米片形成複數個奈米間隔通道,每個該氧化鋅奈米片主要朝向c軸方向(c-axis)生成;本發明所形成氧化鋅奈米片構造為薄膜型態的二維奈米結構,亦即在水平的方向(X與Y軸)並未受到奈米尺度的限制,而在Z軸的方向有著奈米尺度的表現,使得本發明能廣泛應用於氣體感測器、光感測器或發光二極體等等元件。
简体摘要: 一种具有氧化锌奈米片构造层之紫外光检测器,其包含:一基板、一形成于该基板之表面之金属电极层,该金属电极层至少包含两个电极;及一形成于该基板及该金属电极层表面且为站立片状型态之复数个氧化锌奈米片,两两相邻之间的该氧化锌奈米片形成复数个奈米间隔信道,每个该氧化锌奈米片主要朝向c轴方向(c-axis)生成;本发明所形成氧化锌奈米片构造为薄膜型态的二维奈米结构,亦即在水平的方向(X与Y轴)并未受到奈米尺度的限制,而在Z轴的方向有着奈米尺度的表现,使得本发明能广泛应用于气体传感器、光传感器或发光二极管等等组件。
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公开(公告)号:TW201602621A
公开(公告)日:2016-01-16
申请号:TW104119277
申请日:2015-06-15
发明人: 村上昌臣 , MURAKAMI, MASAOMI , 三上充 , MIKAMI, MAKOTO , 村上幸司 , MURAKAMI, KOUJI , 野田朗 , NODA, AKIRA , 伊森徹 , IMORI, TORU
IPC分类号: G01T1/24 , H01L31/0296 , H01L31/0224 , H01L31/115
CPC分类号: G01T1/24 , H01L24/05 , H01L24/06 , H01L24/09 , H01L27/144 , H01L27/146 , H01L27/14634 , H01L27/14636 , H01L27/14676 , H01L27/14696 , H01L31/02005 , H01L31/022408 , H01L31/0296 , H01L31/02966 , H01L31/08 , H01L31/115 , H01L2224/0345 , H01L2224/03464 , H01L2224/0558 , H01L2224/05583 , H01L2224/05584 , H01L2224/05644 , H01L2224/05655 , H01L2224/05664
摘要: 本發明係一種放射線檢出器用UBM電極構造體,放射線檢出器及其製造方法,其中,提供:抑制形成UBM層時之金屬電極層之劣化,實現充分之電性特性之放射線檢出器用UBM電極構造體,放射線檢出器及其製造方法者。本發明之放射線檢出器用UBM電極構造體,係具有CdTe或CdZnTe所成之基板的放射線檢出器用UBM電極構造體,其中,具備:經由無電解電鍍而形成於前述基板上之Pt或Au電極層,和經由濺鍍而形成於前述Pt或Au電極層上之Ni層,和經由濺鍍而形成於前述Ni層上之Au層者。
简体摘要: 本发明系一种放射线检出器用UBM电极构造体,放射线检出器及其制造方法,其中,提供:抑制形成UBM层时之金属电极层之劣化,实现充分之电性特性之放射线检出器用UBM电极构造体,放射线检出器及其制造方法者。本发明之放射线检出器用UBM电极构造体,系具有CdTe或CdZnTe所成之基板的放射线检出器用UBM电极构造体,其中,具备:经由无电解电镀而形成于前述基板上之Pt或Au电极层,和经由溅镀而形成于前述Pt或Au电极层上之Ni层,和经由溅镀而形成于前述Ni层上之Au层者。
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公开(公告)号:TW201527589A
公开(公告)日:2015-07-16
申请号:TW103143577
申请日:2014-12-12
申请人: 法國電氣股份有限公司 , ELECTRICITE DE FRANCE , 國家科學研究中心 , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE-CNRS-
发明人: 海德布蘭特 塞保德 , HILDEBRANDT, THIBAUD , 納葛比 尼加 , NAGHAVI, NEGAR , 羅耐斯 尼可拉斯 , LOONES, NICOLAS , 史奈德 娜漢利亞 , SCHNEIDER, NATHANAELLE
IPC分类号: C23C18/16 , H01L31/0296 , H01L31/0304 , H01L31/073 , H01L31/0735
CPC分类号: C23C2/04 , C23C18/1204 , C23C18/1216 , H01L31/1828
摘要: 本案關於一種用於基於至少金屬與硫的層的沈積的化學浴。還關於一種這種層的沈積方法。這種浴的溶液包含:- 金屬鹽,包含從週期表的鋅族與鋁族元素至少其一中選擇的金屬,以及- 硫前驅物。 化學浴更包含過硫酸鹽化合物。
简体摘要: 本案关于一种用于基于至少金属与硫的层的沉积的化学浴。还关于一种这种层的沉积方法。这种浴的溶液包含:- 金属盐,包含从周期表的锌族与铝族元素至少其一中选择的金属,以及- 硫前驱物。 化学浴更包含过硫酸盐化合物。
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公开(公告)号:TW201341486A
公开(公告)日:2013-10-16
申请号:TW102111761
申请日:2013-04-01
申请人: 旺能光電股份有限公司 , DELSOLAR CO., LTD.
发明人: 廖曰淳 , LIAO, YUEH CHUN , 楊豐瑜 , YANG, FENG YU , 丁晴 , TING, CHING
IPC分类号: C09D5/24 , C09D11/00 , H01L31/032 , H01L31/0296
CPC分类号: C09D11/322 , B82Y30/00 , C09D11/037 , C09D11/52 , H01L21/02557 , H01L21/02568 , H01L21/02601 , H01L21/02628 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , H01L31/0749 , Y02E10/541
摘要: 一種漿料成分包含有一溶劑系統、複數個金屬硫化物奈米粒子、金屬離子與金屬錯合物離子之至少其中之一以及鈉源。金屬離子與該金屬錯合物離子之至少其中之一分佈於金屬硫化物奈米粒子的表面上,且用於在溶劑系統中分散金屬硫化物奈米粒子。鈉源分散於溶劑系統中及/或包含於金屬硫化物奈米粒子、金屬離子與金屬錯合物離子之至少其中之一中。金屬硫化物奈米粒子、金屬離子與金屬錯合物離子所包含之金屬係選自由週期表第I、II、III及IV族元素以及鈉所構成之組合,並且包含一硫化物半導體材料之所有金屬元素。
简体摘要: 一种浆料成分包含有一溶剂系统、复数个金属硫化物奈米粒子、金属离子与金属错合物离子之至少其中之一以及钠源。金属离子与该金属错合物离子之至少其中之一分布于金属硫化物奈米粒子的表面上,且用于在溶剂系统中分散金属硫化物奈米粒子。钠源分散于溶剂系统中及/或包含于金属硫化物奈米粒子、金属离子与金属错合物离子之至少其中之一中。金属硫化物奈米粒子、金属离子与金属错合物离子所包含之金属系选自由周期表第I、II、III及IV族元素以及钠所构成之组合,并且包含一硫化物半导体材料之所有金属元素。
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