公开(公告)号：US6127668A

公开(公告)日：2000-10-03

申请号：US1941

申请日：1997-12-31

申请人： Euy Hyeon Baek

发明人： Euy Hyeon Baek

IPC分类号： H01L27/14 ,  H01L27/146 ,  H01L27/148 ,  H01L31/0232 ,  H04N5/335 ,  H04N5/359 ,  H04N5/369 ,  H04N5/3722 ,  H04N5/3728 ,  H01J40/14

CPC分类号： H01L27/14627 ,  H01L27/14806 ,  H01L27/14818 ,  H01L27/14831 ,  H01L31/0232

摘要： A solid state image pickup device including implanting impurity ions into a planarizing layer and/or a microlens layer thereon for changing a refractive index thereof, and method for fabricating such a device. The planarizing layer and the microlens layer are formed over components of the solid state image pickup device including a plurality of photoelectric conversion regions and charge coupled device (CCD) regions, each charge coupled device transferring an image charge generated in the photoelectric conversion regions in one direction.

摘要翻译： 一种固态摄像装置，包括将杂质离子注入平坦化层和/或其上的微透镜层以改变其折射率，以及制造这种器件的方法。 平坦化层和微透镜层形成在包括多个光电转换区域和电荷耦合器件（CCD）区域的固态图像拾取器件的部件上，每个电荷耦合器件将在光电转换区域中产生的图像电荷传送到一个 方向。

公开(公告)号：US06232590B1

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：US09325415

申请日：1999-06-04

申请人： Euy Hyeon Baek

发明人： Euy Hyeon Baek

IPC分类号： H01L27148

CPC分类号： H01L27/14685 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14806

摘要： Solid state image sensor and method for fabricating the same, which can provide the same focal distances of lights incident to a photodiode through a microlens for improving a sensitivity of a CCD, the solid state image sensor including photodiode regions for generating video charges from incident lights, and charge coupled devices each formed between the photodiodes for transferring the video charges in one direction, wherein impurity ions are implanted in a portion of each of microlenses formed over, and one to one matched to the photodiode regions for varying a refractive index.

摘要翻译： 固态图像传感器及其制造方法，其可以通过微透镜提供入射到光电二极管的光的相同焦距，以提高CCD的灵敏度，固态图像传感器包括用于从入射光产生视频电荷的光电二极管区域 以及每个形成在光电二极管之间的电荷耦合器件，用于沿一个方向传送视频电荷，其中杂质离子注入在形成于每个微透镜的一部分中，并且与光电二极管区域匹配以改变折射率。

公开(公告)号：US5835274A

公开(公告)日：1998-11-10

申请号：US783901

申请日：1997-01-16

申请人： Euy Hyeon Baek

发明人： Euy Hyeon Baek

IPC分类号： G02B3/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/68 ,  G03F7/20 ,  H01L27/14 ,  H01L27/146 ,  H01L31/02 ,  G02B27/10

CPC分类号： G02B3/0018 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70433

摘要： A mask for patterning a microlens includes a glass substrate, a main light-blocking region formed on a predetermined area of the glass substrate, and auxiliary light-blocking regions formed around the main light-blocking region or on a part of the main light-blocking region such that as the intervals between the main and auxiliary light-blocking regions become longer, the intensity of light transmitted thereto becomes greater.

摘要翻译： 用于图案化微透镜的掩模包括玻璃基板，形成在玻璃基板的预定区域上的主遮光区域，以及形成在主遮光区域周围或主要部分的一部分上的辅助遮光区域， 阻挡区域，使得随着主遮光区域和辅助遮光区域之间的间隔变长，透射的光的强度变大。