公开(公告)号：US20120077125A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13310625

申请日：2011-12-02

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Sanae Furuya ,  Tomoyuki Hirano ,  Takayoshi Mori

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： A resist composition for immersion exposure, including a base component that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, an acid generator component that generates acid upon exposure, and a fluorine-containing compound represented by a general formula (c-1) that is decomposable in an alkali developing solution: wherein R1 represents an organic group which may contain a polymerizable group, with the proviso that said polymerizable group has a carbon-carbon multiple bond, and the carbon atoms forming the multiple bond are not directly bonded to the carbon atom within the —C(═O)— group in general formula (c-1); and R2 represents an organic group having a fluorine atom.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括在酸作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的基础组分，暴露时产生酸的酸产生剂组分和由通式（c-1）表示的含氟化合物 ），其可以在碱性显影液中分解：其中R1表示可以含有可聚合基团的有机基团，条件是所述可聚合基团具有碳 - 碳多重键，并且形成多重键的碳原子不直接键合 通式（c-1）中的-C（= O） - 基团中的碳原子; R2表示具有氟原子的有机基团。

公开(公告)号：US08088553B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US12425706

申请日：2009-04-17

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F220/28

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) (wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R8 represents a divalent linking group; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group) and a structural unit (a0-2) represented by general formula (a0-2) (wherein R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R4 represents a branched alkyl group of 3 or more carbon atoms; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group, wherein R5 and R6 are mutually bonded to form a ring).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1）具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）（其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R8表示二价连接基团，R7表示 酸解离，溶解抑制基）和由通式（a0-2）表示的结构单元（a0-2）（其中R3表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R4表示支链烷基 3个以上的碳原子，R5和R6各自独立地表示烷基，其中R5和R6相互键合形成环）。

公开(公告)号：US08021823B2

公开(公告)日：2011-09-20

申请号：US12372964

申请日：2009-02-18

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126

摘要： There is provided a positive resist composition, including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a bivalent linking group; B represents a bivalent linking group; and R2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group).

摘要翻译： 提供了一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中表现出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂成分（B），其中， A）包括含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物（A1）：（其中，R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; A 表示二价连接基团; B表示二价连接基团; R2表示酸解离，溶解抑制基团）。

公开(公告)号：US20090312573A1

公开(公告)日：2009-12-17

申请号：US12536779

申请日：2009-08-06

申请人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Hiroaki Shimizu

发明人： Daiju Shiono ,  Takahiro Dazai ,  Hiroaki Shimizu

IPC分类号： C07C69/734 ,  C07C69/708

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C69/73 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/77 ,  C07D307/93 ,  C07D493/20 ,  C08F220/28 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A compound represented by general formula (I) shown below; and a polymeric compound having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below: wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a divalent hydrocarbon group of 2 or more carbon atoms which may have a substituent; B represents a divalent hydrocarbon group of 1 or more carbon atoms which may have a substituent; and R2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.

摘要翻译： 由下述通式（I）表示的化合物; 和具有如下所示的通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物：其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; A表示可以具有取代基的2个以上碳原子的二价烃基; B表示可以具有取代基的1个以上碳原子的二价烃基; R2代表酸解离，溶解抑制基团。

公开(公告)号：US20090269694A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12425706

申请日：2009-04-17

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Takayoshi Mori ,  Sanae Furuya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Takahiro Dazai

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F222/10 ,  C08F224/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) (wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R8 represents a divalent linking group; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group) and a structural unit (a0-2) represented by general formula (a0-2) (wherein R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R4 represents a branched alkyl group of 3 or more carbon atoms; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group, wherein R5 and R6 are mutually bonded to form a ring).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1）具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）（其中R1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R8表示二价连接基团，R7表示 酸解离，溶解抑制基）和由通式（a0-2）表示的结构单元（a0-2）（其中R3表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R4表示支链烷基 3个以上的碳原子，R5和R6各自独立地表示烷基，其中R5和R6相互键合形成环）。