公开(公告)号：US5585450A

公开(公告)日：1996-12-17

申请号：US465666

申请日：1995-06-05

申请人： Frank L. Oaks ,  Eric S. Moyer ,  Edward W. Rutter, Jr. ,  Robert F. Harris

发明人： Frank L. Oaks ,  Eric S. Moyer ,  Edward W. Rutter, Jr. ,  Robert F. Harris

IPC分类号： G03F7/008 ,  C07C247/16 ,  C07F7/08 ,  C08F2/46 ,  C08F30/08 ,  C08G61/00 ,  C08G61/06 ,  C08G61/08 ,  C08L65/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  C08F130/08

CPC分类号： C07F7/0849 ,  C07C247/16 ,  C08G61/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757 ,  C07C2101/14

摘要： An oligomerized cyclobutarene containing 80 weight percent or more of oligomers of a degree of polymerization of three or more.

摘要翻译： 含有80重量％以上聚合度为3以上的低聚物的低聚环丁烷。

公开(公告)号：US5489623A

公开(公告)日：1996-02-06

申请号：US428740

申请日：1995-04-25

申请人： David A. Babb ,  W. Frank Richey ,  Katherine S. Clement ,  Eric S. Moyer ,  Marius W. Sorenson

发明人： David A. Babb ,  W. Frank Richey ,  Katherine S. Clement ,  Eric S. Moyer ,  Marius W. Sorenson

IPC分类号： G03F7/028 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C45/65 ,  C07C45/70 ,  C07C45/71 ,  C07C45/74 ,  C07C47/277 ,  C07C47/575 ,  C07C49/255 ,  C07C49/753 ,  C07C49/84 ,  C07C50/32 ,  C07C59/68 ,  C07C59/90 ,  C07C65/28 ,  C07C65/40 ,  C07C205/35 ,  C07C205/45 ,  C07C225/22 ,  C07C255/56 ,  C07C265/12 ,  C07D311/18 ,  C08F2/48 ,  C08F14/18 ,  C08F16/14 ,  C08F16/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C205/35 ,  C07C205/45 ,  C07C225/22 ,  C07C255/56 ,  C07C265/12 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C45/65 ,  C07C45/70 ,  C07C45/71 ,  C07C45/74 ,  C07C47/277 ,  C07C47/575 ,  C07C49/255 ,  C07C49/753 ,  C07C49/84 ,  C07C50/32 ,  C07C59/68 ,  C07C59/90 ,  C07C65/28 ,  C07C65/40 ,  C07D311/18 ,  C08F16/32 ,  C07C2103/18

摘要： A polymer has at least one photoactive site and more than one perfluorocyclobutane group. New monomers containing photoactive sites or photoactive precursors and at least one perfluorovinyl group are useful for making such polymers. Processes of making such polymers and the monomers from which they are made are disclosed. The polymers are useful in coatings, photoresists, and the like.

公开(公告)号：US5426164A

公开(公告)日：1995-06-20

申请号：US996452

申请日：1992-12-24

申请人： David A. Babb ,  W. Frank Richey ,  Katherine S. Clement ,  Eric S. Moyer ,  Marius W. Sorenson

发明人： David A. Babb ,  W. Frank Richey ,  Katherine S. Clement ,  Eric S. Moyer ,  Marius W. Sorenson

IPC分类号： G03F7/028 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C45/65 ,  C07C45/70 ,  C07C45/71 ,  C07C45/74 ,  C07C47/277 ,  C07C47/575 ,  C07C49/255 ,  C07C49/753 ,  C07C49/84 ,  C07C50/32 ,  C07C59/68 ,  C07C59/90 ,  C07C65/28 ,  C07C65/40 ,  C07C205/35 ,  C07C205/45 ,  C07C225/22 ,  C07C255/56 ,  C07C265/12 ,  C07D311/18 ,  C08F2/48 ,  C08F14/18 ,  C08F16/14 ,  C08F16/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  C08F8/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C205/35 ,  C07C205/45 ,  C07C225/22 ,  C07C255/56 ,  C07C265/12 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C45/65 ,  C07C45/70 ,  C07C45/71 ,  C07C45/74 ,  C07C47/277 ,  C07C47/575 ,  C07C49/255 ,  C07C49/753 ,  C07C49/84 ,  C07C50/32 ,  C07C59/68 ,  C07C59/90 ,  C07C65/28 ,  C07C65/40 ,  C07D311/18 ,  C08F16/32 ,  C07C2103/18

摘要： A polymer has at least one photoactive site and more than one perfluorocyclobutane group. New monomers containing photoactive sites or photoactive precursors and at least one perfluorovinyl group are useful for making such polymers. Processes of making such polymers and the monomers from which they are made are disclosed. The polymers are useful in coatings, photoresists, and the like.

摘要翻译： 聚合物具有至少一个光活性位点和多于一个全氟环丁烷基团。 含有光活性位点或光活性前体和至少一个全氟乙烯基的新单体可用于制备这种聚合物。 公开了制备这些聚合物和制备它们的单体的方法。 聚合物可用于涂料，光致抗蚀剂等。

公开(公告)号：US09086626B2

公开(公告)日：2015-07-21

申请号：US14007671

申请日：2012-03-28

申请人： Peng-Fei Fu ,  Eric S. Moyer ,  Jason Suhr

发明人： Peng-Fei Fu ,  Eric S. Moyer ,  Jason Suhr

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0757

摘要： A coatable resin solution capable of forming a coating when applied to the surface of a substrate that is photo-patternable and developable as a dielectric material upon exposure to ultraviolet radiation is provided. The resin solution comprises a silsequioxane-based (SSQ-based) resin, at least one initiator, and an organic solvent. The SSQ-based resin includes both a hydride component and at least one photo-curable component. The resulting coating exhibits a dielectric constant that is less than or equal to about 3.5.

摘要翻译： 提供了一种可涂覆的树脂溶液，当涂布在基材的表面上时，其可以在曝光于紫外线照射下作为电介质材料可光刻图形显影。 树脂溶液包含基于硅氧烷的（SSQ）树脂，至少一种引发剂和有机溶剂。 SSQ型树脂包括氢化物组分和至少一种可光固化组分。 所得涂层的介电常数小于或等于约3.5。

公开(公告)号：US5464925A

公开(公告)日：1995-11-07

申请号：US248906

申请日：1994-05-25

申请人： Eric S. Moyer ,  Denise J. D. Moyer

发明人： Eric S. Moyer ,  Denise J. D. Moyer

IPC分类号： C07D209/48 ,  C08G73/10

CPC分类号： C07D209/48 ,  C08G73/101

摘要： The present invention is an oligomer represented by the formula: ##STR1## wherein X is a moiety selected from the group consisting of: ##STR2## where each Y is independently S, O, CH.sub.2, C.dbd.O, CH.sub.3 --C--CH.sub.3, O.dbd.S.dbd.O, or CF.sub.3 --C--CF.sub.3.In another aspect, the present invention is a polymer of the above-described oligomer.

摘要翻译： 本发明是由下式表示的低聚物：其中X是选自下组的部分：其中每个Y独立地为S， O，CH2，C = O，CH3-C-CH3，O = S = O或CF3-C-CF3。 另一方面，本发明是上述低聚物的聚合物。