公开(公告)号：US08703367B2

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：US13073005

申请日：2011-03-28

申请人： Hyun-Yong Cho ,  Doo-Young Jung ,  Yong-Sik Yoo ,  Ji-Young Jeong ,  Jong-Hwa Lee ,  Min-Kook Chung ,  Kil-Sung Lee ,  Myoung-Hwan Cha

发明人： Hyun-Yong Cho ,  Doo-Young Jung ,  Yong-Sik Yoo ,  Ji-Young Jeong ,  Jong-Hwa Lee ,  Min-Kook Chung ,  Kil-Sung Lee ,  Myoung-Hwan Cha

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/022

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  Y10S430/107

摘要： A positive photosensitive resin composition includes: (A) a polybenzoxazole precursor; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a polyamic acid ester compound; and (E) a solvent. The positive photosensitive resin composition can reduce film shrinkage, can have high sensitivity, high resolution, and excellent residue removal properties, and can provide good pattern shapes.

摘要翻译： 正型感光性树脂组合物包括：（A）聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物 （D）聚酰胺酸酯化合物; 和（E）溶剂。 正型感光性树脂组合物可以降低膜收缩，可以具有高灵敏度，高分辨率和优异的残留物去除性能，并且可以提供良好的图案形状。

公开(公告)号：US20130171564A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：US13603491

申请日：2012-09-05

申请人： Eun-Kyung YOON ,  Eun-Ha HWANG ,  Jong-Hwa LEE ,  Ji-Yun KWON ,  Dae-Yun KIM ,  Sang-Kyeon KIM ,  Sang-Kyun KIM ,  Sang-Soo KIM ,  Kun-Bae NOH ,  Jun-Ho LEE ,  Jin-Young LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Chung-Beom HONG

发明人： Eun-Kyung YOON ,  Eun-Ha HWANG ,  Jong-Hwa LEE ,  Ji-Yun KWON ,  Dae-Yun KIM ,  Sang-Kyeon KIM ,  Sang-Kyun KIM ,  Sang-Soo KIM ,  Kun-Bae NOH ,  Jun-Ho LEE ,  Jin-Young LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Chung-Beom HONG

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/085 ,  Y10S430/107

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition including (A) an alkali soluble resin including a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor, or a combination thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a compound represented by the following Chemical Formula 1, and (D) a solvent, and a display device and an organic light emitting device using the same. The Chemical Formula 1 is the same as defined in the detailed description.

摘要翻译： 公开了包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体或其组合的碱溶性树脂的正性感光性树脂组合物，（B）感光性重氮醌化合物，（C）由以下化学式1表示的化合物， 和（D）溶剂，以及显示装置和使用其的有机发光装置。 化学式1与详细描述中所定义的相同。

公开(公告)号：US20130137036A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：US13590330

申请日：2012-08-21

申请人： Ji-Young JEONG ,  Jin-Young LEE ,  Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Sang-Soo KIM ,  Eun-Kyung YOON ,  Jun-Ho LEE ,  Myoung-Hwan CHA ,  Eun-Ha HWANG

发明人： Ji-Young JEONG ,  Jin-Young LEE ,  Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Sang-Soo KIM ,  Eun-Kyung YOON ,  Jun-Ho LEE ,  Myoung-Hwan CHA ,  Eun-Ha HWANG

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0236 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a first polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1 and a repeating unit represented by the following Chemical Formula 2, and having a thermally polymerizable functional group at at least one of the terminal end; (B) a dissolution controlling agent including a novolac resin including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 4; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; (E) an acid generator; and (F) a solvent, a photosensitive resin film prepared using the same, and a semiconductor device including the photosensitive resin film.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含第一聚苯并恶唑前体的聚苯并恶唑前体，其包含由以下化学式1表示的重复单元和由以下化学式2表示的重复单元，并且具有热聚合性官能团 在终端中的至少一个; （B）包含由以下化学式4表示的重复单元的酚醛清漆树脂的溶解控制剂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; （E）酸产生剂; 和（F）溶剂，使用其制备的感光性树脂膜和包含感光性树脂膜的半导体装置。

公开(公告)号：US20120156616A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13241612

申请日：2011-09-23

申请人： Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

发明人： Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. In the above Chemical Formula 1, each substituent is the same as defined in the specification.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含由以下化学式1表示的重复单元的聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 在上述化学式1中，各取代基与说明书中的定义相同。

公开(公告)号：US08198002B2

公开(公告)日：2012-06-12

申请号：US12581974

申请日：2009-10-20

申请人： Doo-Young Jung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Min-Kook Chung ,  Jong-Hwa Lee ,  Kil-Sung Lee ,  Myoung-Hwan Cha

发明人： Doo-Young Jung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Min-Kook Chung ,  Jong-Hwa Lee ,  Kil-Sung Lee ,  Myoung-Hwan Cha

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0048 ,  Y10S430/107

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a first polybenzoxazole precursor that includes: a repeating unit of Chemical Formula 1 and a thermally polymerizable functional group at at least one terminal end; (B) a second polybenzoxazole precursor that includes a repeating unit of Chemical Formula 3; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）第一聚苯并恶唑前体，其包含：化学式1的重复单元和至少一个末端的热聚合性官能团; （B）包含化学式3的重复单元的第二聚苯并恶唑前体; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂。

公开(公告)号：US09256118B2

公开(公告)日：2016-02-09

申请号：US14236971

申请日：2012-07-17

申请人： Ji-Yun Kwon ,  Jong-Hwa Lee ,  Hyun-Yong Cho ,  Dae-Yun Kim ,  Sang-Kyeon Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sang-Soo Kim ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jun-Ho Lee ,  Jin-Young Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Chung-Beom Hong ,  Eun-Ha Hwang

发明人： Ji-Yun Kwon ,  Jong-Hwa Lee ,  Hyun-Yong Cho ,  Dae-Yun Kim ,  Sang-Kyeon Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sang-Soo Kim ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jun-Ho Lee ,  Jin-Young Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Chung-Beom Hong ,  Eun-Ha Hwang

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/38 ,  G03F7/105 ,  G03C1/61 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03C1/61 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/105

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor, and a combination thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a phenol compound, (D) an organic dye and (E) a solvent, wherein the organic dye (D) includes at least one red dye having an absorption wavelength of 590 to 700 nm, at least one yellow dye having an absorption wavelength of 550 to 590 nm, and at least one blue dye having an absorption wavelength of 450 to 500 nm.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）选自聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体及其组合的碱溶性树脂，（B）感光性重氮醌化合物，（C）酚化合物，（D） 有机染料和（E）溶剂，其中有机染料（D）包括至少一种吸收波长为590-700nm的红色染料，至少一种吸收波长为550至590nm的黄色染料，至少 一种蓝色染料，其吸收波长为450〜500nm。

公开(公告)号：US09176381B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US12964010

申请日：2010-12-09

申请人： Jeong-Woo Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Hyun-Yong Cho ,  Ji-Young Jeong ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Min-Kook Chung ,  Myoung-Hwan Cha ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Jeong-Woo Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Hyun-Yong Cho ,  Ji-Young Jeong ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Min-Kook Chung ,  Myoung-Hwan Cha ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0755

摘要： This disclosure relates to a positive photosensitive resin composition including (A) a resin precursor including a polybenzoxazole precursor, a polyamic acid, or a combination thereof, (B) a dissolution-controlling agent having a boiling point ranging from about 210° C. to about 400° C. and a polarity ranging from about 1 D to about 4 D, (C) an acid generator, (D) a silane-based compound, and (E) a solvent. The polybenzoxazole precursor includes a repeating unit represented by Chemical Formula 1, or both of repeating units represented by Chemical Formulae 1 and 2 and has a thermally polymerizable functional group at at least one end. The polyamic acid includes a repeating unit of Chemical Formulae 50 and 51.

摘要翻译： 本公开涉及包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰胺酸或其组合的树脂前体的正型感光性树脂组合物，（B）沸点为约210℃〜 约400℃，极性为约1D至约4D，（C）酸产生剂，（D）硅烷基化合物和（E）溶剂。 聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元或由化学式1和2表示的重复单元两者，并且在至少一端具有可热聚合的官能团。 聚酰胺酸包括化学式50和51的重复单元。

公开(公告)号：US09040213B2

公开(公告)日：2015-05-26

申请号：US13603522

申请日：2012-09-05

申请人： Hyun-Yong Cho ,  Sang-Soo Kim ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jong-Hwa Lee ,  Jun-Ho Lee ,  Eun-Ha Hwang ,  Ji-Yun Kwon ,  Jin-Young Lee

发明人： Hyun-Yong Cho ,  Sang-Soo Kim ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jong-Hwa Lee ,  Jun-Ho Lee ,  Eun-Ha Hwang ,  Ji-Yun Kwon ,  Jin-Young Lee

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin prepared by a phosphorous-containing diamine represented by the following Chemical Formula 1, (B) a photosensitive diazoquinone compound, and (C) a solvent. A photosensitive resin film prepared using the same and a semiconductor device including the photosensitive resin film are also disclosed. In Chemical Formula 1, each substituent is the same as defined in the detailed description.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）由以下化学式1表示的含磷二胺，（B）光敏性重氮醌化合物和（C）溶剂）制备的碱溶性树脂。 还公开了使用其制备的感光性树脂膜和包括感光性树脂膜的半导体装置。 在化学式1中，每个取代基与详细说明中所定义的相同。

公开(公告)号：US20130171568A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：US13603479

申请日：2012-09-05

申请人： Ji-Yun KWON ,  Jin-Hee KANG ,  Dae-Yun KIM ,  Sang-Kyeon KIM ,  Sang-Kyun KIM ,  Sang-Soo KIM ,  Kun-Bae NOH ,  Eun-Kyung YOON ,  Jong-Hwa LEE ,  Jun-Ho LEE ,  Jin-Young LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Hyun-Yong CHO ,  Chung-Beom HONG ,  Eun-Ha HWANG

发明人： Ji-Yun KWON ,  Jin-Hee KANG ,  Dae-Yun KIM ,  Sang-Kyeon KIM ,  Sang-Kyun KIM ,  Sang-Soo KIM ,  Kun-Bae NOH ,  Eun-Kyung YOON ,  Jong-Hwa LEE ,  Jun-Ho LEE ,  Jin-Young LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Hyun-Yong CHO ,  Chung-Beom HONG ,  Eun-Ha HWANG

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/105 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0757

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin including a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor, or a combination thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a phenol compound, (D) at least one organic dye having an absorption wavelength of about 400 nm to about 700 nm, and (E) a solvent, wherein the organic dye (D) is included in an amount of about 1 to about 40 parts by weight based on about 100 parts by weight of the alkali soluble resin (A), and a photosensitive resin layer and a display device using the same.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体或其组合的碱溶性树脂，（B）感光性重氮醌化合物，（C）酚化合物，（D） 一种有机染料，具有约400nm至约700nm的吸收波长，和（E）溶剂，其中所述有机染料（D）的含量为约1至约40重量份，基于约100重量份 碱溶性树脂（A）的重量和感光性树脂层以及使用其的显影装置。

公开(公告)号：US20120171610A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：US13303197

申请日：2011-11-23

申请人： Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Mi-Ra IM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Myoung-Hwan CHA

发明人： Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Mi-Ra IM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Myoung-Hwan CHA

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a novolac resin including a repeating unit represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, a photosensitive resin film prepared by using the positive photosensitive resin composition, and a semiconductor device including the photosensitive resin film.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的重复单元的酚醛清漆树脂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，使用正型感光性树脂组合物制备的感光性树脂膜和包含感光性树脂膜的半导体装置。