公开(公告)号：US08741539B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13241332

申请日：2011-09-23

申请人： Seung-Bae Oh ,  Hwan-Sung Cheon ,  Sung-Wook Cho ,  Min-Soo Kim ,  Jee-Yun Song ,  Yoo-Jeong Choi

发明人： Seung-Bae Oh ,  Hwan-Sung Cheon ,  Sung-Wook Cho ,  Min-Soo Kim ,  Jee-Yun Song ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40

CPC分类号： H01L21/31144 ,  G03F7/094 ,  H01L21/02112 ,  H01L21/0332

摘要： A hard mask composition, a method of forming a pattern, and a semiconductor integrated circuit device, the hard mask composition including a solvent; and a compound, the compound including a structural unit represented by the following Chemical Formula 1:

摘要翻译： 硬掩模组合物，形成图案的方法和半导体集成电路器件，所述硬掩模组合物包括溶剂; 和化合物，所述化合物包括由以下化学式1表示的结构单元：

公开(公告)号：US08502334B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US13236851

申请日：2011-09-20

申请人： Kil-Sung Lee ,  Jae-Hyun Kim ,  Chang-Min Lee ,  Eui-June Jeong ,  Min-Soo Kim ,  Hwan-Sung Cheon ,  Tu-Won Chang

发明人： Kil-Sung Lee ,  Jae-Hyun Kim ,  Chang-Min Lee ,  Eui-June Jeong ,  Min-Soo Kim ,  Hwan-Sung Cheon ,  Tu-Won Chang

IPC分类号： H01L31/0232 ,  H01L31/0203 ,  H01L27/146 ,  H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/469 ,  C07D303/40 ,  C08K3/22 ,  C08F222/40

CPC分类号： H01L27/14627 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/14685

摘要： Disclosed is an image sensor including a photo-sensing device, a color filter positioned on the photo-sensing device, a microlens positioned on the color filter, and an insulation layer positioned between the photo-sensing device and the color filter, and including a trench exposing the photo-sensing device and a filler filled in the trench. The filler has light transmittance of about 85% or more at a visible ray region, and a higher refractive index than the insulation layer. A method of manufacturing the image sensor is also provided.

摘要翻译： 公开了一种图像传感器，其包括光敏元件，位于感光元件上的滤色器，位于滤色器上的微透镜，以及位于感光元件与滤色片之间的绝缘层， 沟槽暴露感光装置和填充在沟槽中的填充物。 填料在可见光区域的透光率约为85％以上，折射率高于绝缘层。 还提供了一种制造图像传感器的方法。

公开(公告)号：US20130122422A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：US13589483

申请日：2012-08-20

申请人： Ji-Yun KWON ,  Nam-Gwang KIM ,  Shahrokh MOTALLEBI ,  In-Jae LEE ,  Sun-Hee JIN ,  Jae-Hyun KIM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Gyu-Seok HAN

发明人： Ji-Yun KWON ,  Nam-Gwang KIM ,  Shahrokh MOTALLEBI ,  In-Jae LEE ,  Sun-Hee JIN ,  Jae-Hyun KIM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Gyu-Seok HAN

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/033

CPC分类号： G02B5/223 ,  C09B23/06 ,  C09B23/083 ,  C09B23/086 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/105

摘要： Disclosed are photosensitive resin composition that includes a dye including a methine-based compound represented by the following Chemical Formula 1, wherein each substituent of Chemical Formula 1 is the same as defined in the detailed description, and a metal complex, and a color filter using the same.

摘要翻译： 公开了包含由以下化学式1表示的次甲基类化合物的染料的感光性树脂组合物，其中化学式1的各取代基与详细说明中所定义的相同，并且使用金属络合物和使用 一样。

公开(公告)号：US20120270994A1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：US13540202

申请日：2012-07-02

申请人： Min-Soo KIM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Sung-Wook CHO ,  Seung-Bae OH ,  Jee-Yun SONG

发明人： Min-Soo KIM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Sung-Wook CHO ,  Seung-Bae OH ,  Jee-Yun SONG

IPC分类号： C08L29/14 ,  C08F216/34

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F12/22 ,  C08F212/32 ,  C08F232/08

摘要： An aromatic ring-containing polymer for an underlayer of a resist, including a unit structure represented by Chemical Formula 1:

摘要翻译： 用于抗蚀剂底层的含芳环的聚合物，包括由化学式1表示的单元结构：

公开(公告)号：US20120156616A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13241612

申请日：2011-09-23

申请人： Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

发明人： Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. In the above Chemical Formula 1, each substituent is the same as defined in the specification.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含由以下化学式1表示的重复单元的聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 在上述化学式1中，各取代基与说明书中的定义相同。

公开(公告)号：US20120153511A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13241479

申请日：2011-09-23

申请人： Jee-Yun SONG ,  Min-Soo KIM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Seung-Bae OH ,  Yoo-Jeong CHOI

发明人： Jee-Yun SONG ,  Min-Soo KIM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Seung-Bae OH ,  Yoo-Jeong CHOI

IPC分类号： H01L23/498 ,  H01L21/308 ,  C09D7/12

CPC分类号： H01L21/31144 ,  G03F7/094 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0271

摘要： A hard mask composition includes a solvent and an aromatic ring-containing compound represented by the following Chemical Formula 1:

摘要翻译： 硬掩模组合物包括溶剂和由以下化学式1表示的含芳环的化合物：

公开(公告)号：US20110027722A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：US12848459

申请日：2010-08-02

申请人： Sung-Wook Cho ,  Kyong-Ho Yoon ,  Min-Soo Kim ,  Seung-Bae Oh ,  Jee-Yun Song ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Sung-Wook Cho ,  Kyong-Ho Yoon ,  Min-Soo Kim ,  Seung-Bae Oh ,  Jee-Yun Song ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G77/00 ,  C08L83/00

CPC分类号： C08G77/60 ,  C08G77/04 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： An aromatic ring-containing polymer for a resist underlayer, the polymer including a unit represented by the following Chemical Formula 1: wherein, R1 and R2 are independently hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, or an aromatic group, A is a functional group derived from an aromatic compound with a heteroatom or without a heteroatom, and n is an integer of one or more.

摘要翻译： 用于抗蚀剂底层的含芳环的聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1表示的单元：其中，R 1和R 2独立地为氢，C 1至C 10烷基或芳族基团，A为官能团 衍生自具有杂原子或不含杂原子的芳香族化合物，n为1以上的整数。

公开(公告)号：US20140319659A1

公开(公告)日：2014-10-30

申请号：US14088509

申请日：2013-11-25

申请人： Hyo-Young KWON ,  Min-Gyum KIM ,  Jun-Ho LEE ,  Hwan-Sung CHEON

发明人： Hyo-Young KWON ,  Min-Gyum KIM ,  Jun-Ho LEE ,  Hwan-Sung CHEON

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/092

摘要： A resist underlayer composition, a method of forming patterns, and semiconductor integrated circuit device, the composition including a solvent; and a compound including a moiety represented by the following Chemical Formula 1:

摘要翻译： 抗蚀剂下层组合物，形成图案的方法和半导体集成电路器件，所述组合物包括溶剂; 和包含由以下化学式1表示的部分的化合物：

公开(公告)号：US08841064B2

公开(公告)日：2014-09-23

申请号：US13294223

申请日：2011-11-11

申请人： Myoung-Hwan Cha ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Myoung-Hwan Cha ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03C1/06 ,  G03C1/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/031 ,  G03F7/023 ,  H01L23/29 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： H01L23/296 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a dissolution controlling agent including the compound represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, and a photosensitive resin film prepared by using the same.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的化合物的溶解控制剂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，以及使用其制备的感光性树脂膜。

公开(公告)号：US20140179835A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：US14140607

申请日：2013-12-26

申请人： Min Gyum KIM ,  Seung HAN ,  Hwan Sung CHEON

发明人： Min Gyum KIM ,  Seung HAN ,  Hwan Sung CHEON

IPC分类号： C08K3/36

CPC分类号： C08K3/36 ,  C07F9/28 ,  C07F9/54 ,  C07F9/6571 ,  C08G59/04 ,  C08G59/62 ,  C08K3/013 ,  C08L63/00 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00 ,  C08K3/0033

摘要： An epoxy resin composition includes: an epoxy resin; a curing agent; a curing accelerator; and an inorganic filler, wherein the curing accelerator includes a 4-valent ammonium salt or a 4-valent phosphonium salt represented by Formula 1, wherein A1 is nitrogen or phosphorus; R1, R2, R3 and R4 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C30 hydrocarbon group, or a substituted or unsubstituted C1 to C30 hydrocarbon group including a hetero atom; X1, X2, X3, X4, X5 and X6 are each independently an oxygen atom (O), a sulfur atom (S), or NH; and Y1, Y2 and Y3 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C30 hydrocarbon group, or a substituted or unsubstituted C1 to C30 hydrocarbon group including a hetero atom.

摘要翻译： 环氧树脂组合物包括：环氧树脂; 固化剂; 固化促进剂; 和无机填料，其中固化促进剂包括由式1表示的4价铵盐或4价鏻盐，其中A1为氮或磷; R 1，R 2，R 3和R 4各自独立地为取代或未取代的C 1〜C 30烃基，或者取代或未取代的包含杂原子的C 1〜C 30烃基; X1，X2，X3，X4，X5和X6各自独立地为氧原子（O），硫原子（S）或NH; Y 1，Y 2和Y 3各自独立地为取代或未取代的C1〜C30烃基，或者含有杂原子的取代或未取代的C1〜C30烃基。