公开(公告)号：US4199688A

公开(公告)日：1980-04-22

申请号：US962768

申请日：1978-11-21

申请人： Susumu Ozasa

发明人： Susumu Ozasa

IPC分类号： H01J37/305 ,  G01Q20/02 ,  G01Q30/06 ,  H01J37/21 ,  H01J37/304 ,  H01L21/027 ,  A61K27/02

CPC分类号： H01J37/21 ,  H01J37/3045

摘要： An apparatus for electron beam lithography for automatically focusing a shaped electron beam uniformly projects an electron beam onto a reference aperture plate having an opening of a prescribed shape. The electron beam in the shape of the opening of the aperture thus obtained is reduced or concentrated and then projected onto a specimen, to thereby project the specimen as a microscopic pattern. The apparatus periodically changes the direction of the electron beam disposed between an electron gun emitting the electron beam and the reference aperture plate, and detects the deviation of the position of the final-image electron beam corresponding to the angle of deflection of the electron beam. The focal distance of a final-stage electron lens is adjusted so as to minimize positional deviation and thereby focus the projected electron beam.

摘要翻译： 用于自动聚焦成形电子束的电子束光刻装置将电子束均匀地投射到具有规定形状的开口的参考孔板上。 将由此获得的孔的开口形状的电子束减小或浓缩，然后投影到样本上，从而将样本投影为微观图案。 设备周期性地改变设置在发射电子束的电子枪和参考孔板之间的电子束的方向，并且检测对应于电子束的偏转角的最终图像电子束的位置的偏差。 调整最终级电子透镜的焦距，使位置偏移最小化，从而聚焦投射的电子束。

公开(公告)号：US5523567A

公开(公告)日：1996-06-04

申请号：US330458

申请日：1994-10-28

申请人： Shigeru Kawamata ,  Susumu Ozasa

发明人： Shigeru Kawamata ,  Susumu Ozasa

IPC分类号： H01J37/22 ,  H01J37/28

CPC分类号： H01J37/28 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/2803

摘要： In an electron microscope for observing an image of a sample using secondary electrons emitted from the sample by two-dimensionally scanning an electron beam on the sample, a low magnification and wide view image of the sample is formed on one frame memory. The frame memory for storing on picture of the image is divided into an appropriate number of areas. The image data of the sample, obtained by consecutively moving the sample to the sample areas, is stored to the corresponding areas of the frame memory.

摘要翻译： 在通过二次扫描样品上的电子束从样品发射的二次电子观察样品的图像的电子显微镜中，在一个帧存储器上形成样品的低倍率和宽视野图像。 用于存储图像的图像的帧存储器被划分为适当数量的区域。 通过将样本连续移动到采样区域获得的样本的图像数据被存储到帧存储器的对应区域。

公开(公告)号：US4692579A

公开(公告)日：1987-09-08

申请号：US735184

申请日：1985-05-17

申请人： Norio Saitou ,  Susumu Ozasa ,  Masahide Okumura ,  Mitsuo Ooyama ,  Tsutomu Komoda ,  Katsuhiro Harada ,  Minpei Fujinami ,  Kazumi Iwadate

发明人： Norio Saitou ,  Susumu Ozasa ,  Masahide Okumura ,  Mitsuo Ooyama ,  Tsutomu Komoda ,  Katsuhiro Harada ,  Minpei Fujinami ,  Kazumi Iwadate

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/30488 ,  H01J2237/31764

摘要： An electron beam lithography apparatus comprises: a spot electron beam generator; device for exposing a desired pattern onto a wafer using the spot beam; device for dividing the pattern into small regions; and device for designating an origin of the small region and also digitally scanning the portion inside the small region by a fixed correction amount by use of the spot beam, and thereby to reduce the settling time of the D/A converter in association with the digital scanning.

摘要翻译： 电子束光刻设备包括：点电子束发生器; 使用点光束将期望图案曝光到晶片上的装置; 用于将图案分割成小区域的装置; 以及用于指定小区域的原点的装置，并且还通过使用点光束以固定的校正量对小区域内的部分进行数字扫描，从而减少D / A转换器与数字的相关的建立时间 扫描。

公开(公告)号：US4658143A

公开(公告)日：1987-04-14

申请号：US711824

申请日：1985-03-14

申请人： Katsumi Tokiguchi ,  Hidemi Koike ,  Noriyuki Sakudo ,  Osami Okada ,  Ken Ninomiya ,  Susumu Ozasa

发明人： Katsumi Tokiguchi ,  Hidemi Koike ,  Noriyuki Sakudo ,  Osami Okada ,  Ken Ninomiya ,  Susumu Ozasa

IPC分类号： H01J27/02 ,  H01J27/18 ,  H01J37/08 ,  H01J27/00

CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J27/022 ,  H01J27/18

摘要： An ion source equipped with an ion beam exit slit for extracting ions from plasma generated in feed gas introduced into a discharge chamber, and with gas inlet or inlets for introducing the feed gas into the discharge chamber in close proximity of the ion beam exit slit. Ion extraction can be made stably without any deposit on the ion beam exit slit even when a boron halide is used as the feed gas. The effect of the ion source can be further enhanced by adding oxygen, hydrogen or gas of an oxygen-containing compound to the feed gas, and by using a microwave.

摘要翻译： 离子源配备有用于从引入到放电室的进料气体中产生的等离子体提取离子的离子束出口狭缝，以及用于将进料气体引入离子束出口狭缝附近的放电室的气体入口或入口。 即使使用卤化硼作为原料气体，也可以稳定地进行离子提取，而不会在离子束出口狭缝上沉积。 通过向原料气中加入含氧化合物的氧气，氢气或气体，以及使用微波可以进一步提高离子源的效果。

公开(公告)号：US4396901A

公开(公告)日：1983-08-02

申请号：US227940

申请日：1981-01-23

申请人： Norio Saitou ,  Susumu Ozasa ,  Katsuhiro Kuroda

发明人： Norio Saitou ,  Susumu Ozasa ,  Katsuhiro Kuroda

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01J37/304 ,  H01J29/70 ,  G06K7/10

CPC分类号： H01J37/304

摘要： In a method for correcting deflection distortion which develops in an apparatus for delineating a pattern on a sample by scanning a charged particle beam thereover, the corrections of the deflection distortions are made in accordance with the height (deformation) of a portion-to-be-delineated on a sample (for example, a wafer) on the basis of correction magnitudes of the deflection distortions at respective reference levels of a mark as obtained by scanning the charged particle beam on the mark which has at least two reference levels having unequal heights in the direction of an optical axis.

摘要翻译： 在用于校正通过扫描样品上的图案的装置中产生的偏转失真的方法中，通过扫描带电粒子束而产生的偏转变形的校正根据待部分的高度（变形） 基于在通过扫描带电粒子束在具有至少两个具有不等高度的参考水平的标记上获得的标记的各个参考水平处的偏转失真的校正幅度的样本（例如，晶片）上线性化 沿光轴的方向。