公开(公告)号：US20050173992A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10775720

申请日：2004-02-09

申请人： Pai Yang ,  Tim Teng ,  Kazuhiro Hirano ,  Bausan Yuan

发明人： Pai Yang ,  Tim Teng ,  Kazuhiro Hirano ,  Bausan Yuan

IPC分类号： H02K41/03 ,  H02P25/06 ,  H02K41/00 ,  H02P3/00 ,  H02P5/00

CPC分类号： H02P25/06 ,  H02K41/03 ,  H02K2201/18

摘要： A stage assembly (220) for moving a device (200) includes a stage (208), an attraction-only type actuator pair (426) that moves the stage (208), and a control system (24). In one embodiment, the actuator pair (426) includes a first electromagnet (436F), a first conductor (438F) and a first target (440F) having a first target surface (442F). The actuator pair also includes a second electromagnet (436S), a second conductor (438S) and a second target (440S) having a second target surface (442S). The first electromagnet (436F) is positioned at a first angle θ1 relative to a first target surface (442F) and the second electromagnet (436S) is positioned at a second angle θ2 relative to the second target surface (442S). The control system (24) directs a first current to one or more of the electromagnets based on at least one of the angles θ1, θ2. Further, one or more electromagnets (436) can include a first measurement point and a second measurement point. The control system (24) can direct current to the actuator pair (426) based on the relative distance between the first and second measurement points and the corresponding target surface (442).

摘要翻译： 用于移动装置（200）的平台组件（220）包括台（208），移动台（208）的仅吸引型致动器对（426）和控制系统（24）。 在一个实施例中，致动器对（426）包括具有第一目标表面（442F）的第一电磁体（436F），第一导体（438F）和第一靶（440F）。 致动器对还包括具有第二目标表面（442S）的第二电磁体（436S），第二导体（438S）和第二靶（440S）。 第一电磁体（436F）相对于第一目标表面（442F）位于第一角度θ1，并且第二电磁体（436S）位于第二角度θ 2 相对于第二目标表面（442S）。 控制系统（24）基于角度θ1，θ2 2中的至少一个将第一电流引导到一个或多个电磁体。 此外，一个或多个电磁体（436）可以包括第一测量点和第二测量点。 控制系统（24）可以基于第一和第二测量点与相应的目标表面（442）之间的相对距离将电流引导到致动器对（426）。

公开(公告)号：US6008610A

公开(公告)日：1999-12-28

申请号：US45218

申请日：1998-03-20

申请人： Bausan Yuan ,  Kazuaki Saiki

发明人： Bausan Yuan ,  Kazuaki Saiki

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G05B11/18

CPC分类号： G03F7/70358 ,  G03F7/70725

摘要： A position control apparatus for synchronously controlling the movement of fine stages in a high-precision scanning positioning instrument. The position control apparatus uses actuators to adjust the fine stages with six degrees of freedom. By adjusting the fine stages, any synchronous errors between the fine stages during scanning may be dynamically corrected. Further, the fine stages may be adjusted during periods of acceleration and deceleration to reduce the settling time and consequently increasing throughput. Encoders directly attached to the actuators produce signals that are used in a velocity feedback loop. The locations of the fine stages are measured by interferometers. The position control apparatus uses a position control circuit to control the actuators to compensate for synchronous error.

摘要翻译： 一种位置控制装置，用于同步控制高精度扫描定位装置中精细台阶的移动。 位置控制装置使用致动器以六自由度来调节细级。 通过调整精细阶段，可以动态校正扫描期间精细阶段之间的任何同步误差。 此外，可以在加速和减速期间调整细小阶段以减少建立时间并因此提高生产量。 直接连接到执行器的编码器产生用于速度反馈回路的信号。 精细级的位置由干涉仪测量。 位置控制装置使用位置控制电路来控制致动器来补偿同步误差。

公开(公告)号：US07583361B2

公开(公告)日：2009-09-01

申请号：US11369493

申请日：2006-03-07

申请人： Yi-Ping Hsin ,  Hideyuki Hashimoto ,  Jin Nishikawa ,  Bausan Yuan ,  Douglas C. Watson

发明人： Yi-Ping Hsin ,  Hideyuki Hashimoto ,  Jin Nishikawa ,  Bausan Yuan ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70725

摘要： A precision assembly (210) for positioning a device (226) includes a stage (260) that retains the device (226), a dual mover assembly (228) that moves the stage (260), and the device (226) along a movement axis (266), a measurement system (222) and a control system (224). The dual mover assembly (228) includes a first mover (262) that moves the stage (260) along the movement axis (266) and a second mover (264) that moves the device (226) along the movement axis (266). The second mover (264) is rigidly coupled to the first mover (262) so that movement of the first mover (262) results in movement of the second mover (264). Further, the total output of the dual mover assembly (228) along the movement axis (266) is equal to the sum of the movement of the first mover (262) and the movement of the second mover (264). The measurement system (222) measures a movement position along the movement axis (266). The control system (224) controls the dual mover assembly (228) utilizing the movement position. The control system (224) is designed to effectively decouple the control of the first mover (262) from the control of the second mover (264). Further, the control system (224) includes a quantization feedforward loop.

摘要翻译： 用于定位设备（226）的精密组件（210）包括保持所述设备（226）的平台（260），使所述平台（260）移动的所述双推进器组件（228），以及沿着 运动轴（266），测量系统（222）和控制系统（224）。 双推动器组件（228）包括沿着移动轴线（266）移动平台（260）的第一移动器（262）和沿着移动轴线（266）移动设备（226）的第二移动器（264）。 第二移动器（264）刚性地联接到第一移动器（262），使得第一移动器（262）的运动导致第二移动器（264）的运动。 此外，沿着移动轴线（266）的双推动器组件（228）的总输出等于第一移动器（262）与第二移动器（264）的运动的总和。 测量系统（222）测量沿着移动轴线（266）的移动位置。 控制系统（224）利用移动位置控制双推动器组件（228）。 控制系统（224）被设计成有效地将第一移动器（262）的控制与第二移动器（264）的控制分离。 此外，控制系统（224）包括量化前馈回路。

公开(公告)号：US20080291464A1

公开(公告)日：2008-11-27

申请号：US12042253

申请日：2008-03-04

申请人： Michael R. Sogard ,  Bausan Yuan ,  Masahiko Okumura ,  Yosuke Shirala ,  Kiyoshi Uchikawa ,  Saburo Kamiya ,  Akikazu Tanimoto

发明人： Michael R. Sogard ,  Bausan Yuan ,  Masahiko Okumura ,  Yosuke Shirala ,  Kiyoshi Uchikawa ,  Saburo Kamiya ,  Akikazu Tanimoto

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B9/02027 ,  G01B9/02021 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/709

摘要： Process tools and methods are disclosed that involve interferometric and other measurements of movements and positions relative to a process position, such as movements and positions of a stage relative to a lithographic optical system. An exemplary apparatus includes a stage that places a workpiece relative to the tool, and that is movable in at least one direction relative to the tool. At least one first interferometer system is situated relative to the stage to determine stage position in a movement direction relative to the process position. A movement-measuring device determines displacement of the tool from the process position. Using data from the interferometer system and movement-measuring device a processor determines a position of the stage relative to the tool. The processor also corrects the determined position for displacement of the tool.

摘要翻译： 公开了涉及相对于处理位置的移动和位置的干涉测量和其它测量的处理工具和方法，例如相对于平版印刷光学系统的平台的移动和位置。 一种示例性的设备包括：相对于工具放置工件并相对于工具在至少一个方向上可移动的平台。 至少一个第一干涉仪系统相对于台架设置以确定相对于处理位置的运动方向的台阶位置。 移动测量装置确定工具从过程位置的位移。 使用来自干涉仪系统和运动测量装置的数据，处理器确定舞台相对于工具的位置。 处理器还校正所确定的工具位移的位置。

公开(公告)号：US07417714B2

公开(公告)日：2008-08-26

申请号：US11258249

申请日：2005-10-24

申请人： Michael Binnard ,  Wen-Hou Ma ,  Toshio Ueta ,  Pai-Hsueh Yang ,  Ting-Chien Teng ,  Bausan Yuan

发明人： Michael Binnard ,  Wen-Hou Ma ,  Toshio Ueta ,  Pai-Hsueh Yang ,  Ting-Chien Teng ,  Bausan Yuan

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/709

摘要： A stage assembly (220) that moves a work piece (200) about a first axis and along a first axis includes a first stage (238), a second stage (240) that retains the work piece (200), a second mover assembly (244), a measurement system, and an initialization system (1081A). The second mover assembly (244) moves the second stage (240) relative to the first stage (238) about the first axis. The measurement system (22) monitors the position of the second stage (240) about the first axis when the second stage (240) is positioned within a working range about the first axis. The initialization system (1081A) facilitates movement of the second stage (240) about the first axis when the second stage (240) is rotated about the first axis outside the working range. The second mover assembly (244) can include a mover (255) and a dampener (410) that reduces the transmission of vibration from the first stage (238) to the second stage (240). In addition, the stage assembly (220) can include a control system (24) that directs power to the mover (255) to position the second stage (240) and to compensate for vibration of the first stage (238).

摘要翻译： 围绕第一轴线并沿着第一轴线移动工件（200）的台架组件（220）包括第一台（238），保持工件（200）的第二台（240），第二推动组件 （244），测量系统和初始化系统（1081A）。 第二移动器组件（244）围绕第一轴线相对于第一阶段（238）移动第二阶段（240）。 当第二级（240）位于围绕第一轴的工作范围内时，测量系统（22）监测第二级（240）围绕第一轴的位置。 当第二级（240）围绕工作范围外的第一轴线旋转时，初始化系统（1081A）有助于第二级（240）围绕第一轴的移动。 第二移动器组件（244）可以包括减小从第一级（238）到第二级（240）的振动传递的移动器（255）和阻尼器（410）。 另外，台架组件（220）可以包括控制系统（24），该控制系统（24）将电力引导到动子（255）以定位第二级（240）并补偿第一级（238）的振动。

公开(公告)号：US07366642B2

公开(公告)日：2008-04-29

申请号：US11115673

申请日：2005-04-26

申请人： Yi-Ping Hsin ,  Gabor D. Szoboszlay ,  Kazuhiro Hirano ,  Kazuo Masaki ,  Christopher B. Smith ,  Ryoichi Kawaguchi ,  Bausan Yuan

发明人： Yi-Ping Hsin ,  Gabor D. Szoboszlay ,  Kazuhiro Hirano ,  Kazuo Masaki ,  Christopher B. Smith ,  Ryoichi Kawaguchi ,  Bausan Yuan

IPC分类号： G06F15/00

CPC分类号： G03F7/70766 ,  G03F7/70725

摘要： Embodiments of the invention relate to a cable force feedforward approach that takes into account the cable force in the counter-mass trajectory computation to reduce or eliminate vibration of the lens body caused by the cable force disturbance and corrective force exerted by the trim motors. In one embodiment, a method provides cable force feedforward control for a counter-mass of a stage with a cable connected to the counter-mass and using the cable force feedforward control to control one or more trim motors to produce a trim motor output force to be applied to the counter-mass, the counter-mass moving in response to a reaction force from movement of the stage. The method comprises measuring a counter-mass position y of the counter-mass in response to forces applied to the counter-mass; measuring a cable force ƒ exerted on the counter-mass by the cable which is connected to the counter-mass; generating a cable force function {circumflex over (ƒ)}(y, {dot over (y)}) of the measured cable force ƒ versus the counter-mass position y; and computing the trim motor output force u as u ≅ - f + w · f ^ ⁡ ( y , y . ) , where w is a weighting function having a value from 0 to 1 and is selected for optimization.

公开(公告)号：US20070097340A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：US11262882

申请日：2005-10-31

申请人： Bausan Yuan ,  Ping-Wei Chang ,  Ryoichi Kawaguchi ,  Kazuo Masaki ,  Susumu Makinouchi ,  Ting-Chien Teng

发明人： Bausan Yuan ,  Ping-Wei Chang ,  Ryoichi Kawaguchi ,  Kazuo Masaki ,  Susumu Makinouchi ,  Ting-Chien Teng

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/709 ,  F16F7/1005 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/70833

摘要： Methods and apparatus for actively damping vibrations associated with a optical assembly of a photolithographic system are disclosed. According to one aspect of the present invention, an assembly that provides damping to a structure of a photolithographic apparatus that is subject to structural oscillations includes a counter mass, an active mechanism, an a controller. The active mechanism is coupled to the structure, supports the counter mass, and applies a force to the structure to counteract structural oscillations in the structure. The controller controls the force applied by the active mechanism on the structure, and utilizes information associated with movement of the structure to control the force.

摘要翻译： 公开了用于主动衰减与光刻系统的光学组件相关的振动的方法和装置。 根据本发明的一个方面，一种对经受结构振荡的光刻设备的结构提供阻尼的组件包括反质量块，活动机构，控制器。 主动机构耦合到结构，支撑反质量，并向结构施加力以抵消结构中的结构振荡。 控制器控制主动机构施加在结构上的力，并利用与结构的运动相关联的信息来控制力。

公开(公告)号：US20060038972A1

公开(公告)日：2006-02-23

申请号：US10919771

申请日：2004-08-17

申请人： Bausan Yuan

发明人： Bausan Yuan

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/709

摘要： Methods and apparatus for isolating or separating a reticle stage arrangement from a lens assembly are disclosed. According to one aspect of the present invention, an apparatus includes a reticle stage assembly, a lens assembly, and an isolator assembly. The isolator assembly is arranged to substantially prevent vibrations from being transmitted from the reticle stage assembly to the lens assembly. In one embodiment, the apparatus also includes a frame structure that supports the lens assembly and the reticle stage assembly.

摘要翻译： 公开了用于将掩模版台装置与透镜组件隔离或分离的方法和装置。 根据本发明的一个方面，一种装置包括光罩台组件，透镜组件和隔离器组件。 隔离器组件布置成基本上防止振动从标线片台组件传递到透镜组件。 在一个实施例中，该装置还包括支撑透镜组件和标线片台组件的框架结构。

公开(公告)号：US06509953B1

公开(公告)日：2003-01-21

申请号：US09020876

申请日：1998-02-09

申请人： Kazuaki Saiki ,  Bausan Yuan

发明人： Kazuaki Saiki ,  Bausan Yuan

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F9/70

摘要： A high-precision scanning positioning system with magnification and orthogonality correction. A scanning position system, such as a microlithographic system, has a mask fine stage and a plate fine stage mounted on a coarse stage that moves at a constant velocity during exposure. By moving one fine stage relative to the other fine stage in the same or opposite direction of the scan during the exposure of the plate, an increase or decrease in magnification may be achieved. Likewise, by moving one fine stage relative to the other fine stage perpendicular to the direction of the scan during the exposure, a change in orthogonality may be achieved, and by rotating one fine stage relative to the other, correction of any rotation error may be achieved. A position control apparatus controls the motion of the fine stage relative to the other fine stage, such that the scanning position system can simultaneously correct synchronous error between the fine stages and reduce settling time while changing the magnification and orthogonality.

摘要翻译： 具有放大和正交校正的高精度扫描定位系统。 诸如微光刻系统的扫描位置系统具有掩模精细级和安装在粗暴平台上的平板精细平台，其在曝光期间以恒定速度移动。 通过在平板曝光期间在扫描的相同或相反方向上相对于另一个细小阶段移动一个细小阶段，可以实现放大率的增加或减少。 类似地，通过在曝光期间相对于垂直于扫描方向的另一个精细阶段移动一个精细阶段，可以实现正交性的改变，并且通过相对于另一个旋转一个精细阶段，任何旋转误差的校正可以是 实现了 位置控制装置控制精细级相对于另一细级的运动，使得扫描位置系统可以同时校正精细级之间的同步误差，并且在改变放大率和正交性的同时减少建立时间。

公开(公告)号：US06472777B1

公开(公告)日：2002-10-29

申请号：US09524448

申请日：2000-03-14

申请人： Ting-Chien Teng ,  Bausan Yuan

发明人： Ting-Chien Teng ,  Bausan Yuan

IPC分类号： H02K4100

CPC分类号： G03F9/7053 ,  G03F7/70758 ,  H02K11/00 ,  H02K41/02 ,  H02K2201/18

摘要： In a stage assembly, for instance a fine stage using a pair of push-pull electro-magnetic actuators to move the stage back and forth along an axis, there is typically a sensor to determine the actual stage location. This sensor's home position must correspond to the actual stage position where the two opposed actuators are observed to exert forces of the same magnitude but opposing directions on this stage. Since the actuators depend on the sensor reading to exert their forces correctly, misalignment of the home position will decrease system performance. The calibration of this sensor is accomplished using actual system feedback signals, which are the currents drawn by the two opposed actuators, during run time conditions. The sensor is considered calibrated (meaning a virtual “null” position) when each of the two opposed actuators draws the same amount of current. If this is not the case a feedback process calibrates the sensor.

摘要翻译： 在舞台组件中，例如使用一对推挽电磁致动器沿着轴线来回移动舞台的精细舞台，通常具有确定实际舞台位置的传感器。 该传感器的原始位置必须对应于实际的舞台位置，其中观察到两个相对的致动器在该舞台上施加相同大小但相反方向的力。 由于执行器依赖于传感器读数来正确施加力，所以原位置的偏移将降低系统性能。 在运行时间条件下，使用实际的系统反馈信号来完成该传感器的校准，该系统反馈信号是两个相对的致动器所绘制的电流。 当两个相对的执行器中的每一个绘制相同的电流量时，传感器被认为是校准的（意味着虚拟的“零”位置）。 如果不是这样，反馈过程校准传感器。