利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

131 条记录 (耗时 0.038 秒)

    Fast substrate loading on polishing head without membrane inflation step
    15.
    发明授权
    Fast substrate loading on polishing head without membrane inflation step 有权
    抛光头上的快速衬底加载，无膜充气步骤

    公开(公告)号：US07527271B2

    公开(公告)日：2009-05-05

    申请号：US11757069

    申请日：2007-06-01

    申请人： Jeonghoon Oh ,  Andrew Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

    发明人： Jeonghoon Oh ,  Andrew Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

    IPC分类号： B23B31/30

    CPC分类号： H01L21/6838 ,  B24B37/30 ,  H01L21/67005 ,  Y10T29/5313 ,  Y10T279/11

    摘要： The present invention relates to an apparatus and method for improving and speeding up substrate loading process. One embodiment provides a method for vacuum chucking a substrate. The method comprises venting a center chamber of a flexible membrane configured for mounting the substrate, moving the substrate such that a backside of the substrate is in full contact with the flexible membrane, and vacuuming the center chamber to vacuum chuck the backside of the substrate to the flexible membrane.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善和加速基板加载过程的装置和方法。 一个实施例提供了用于真空吸附衬底的方法。 该方法包括将配置用于安装衬底的柔性膜的中心室排出，移动衬底，使得衬底的背面与柔性膜完全接触，并且抽真空中心室以将衬底的背面真空吸附到 柔性膜。

    ROTATIONAL ALIGNMENT MECHANISM FOR LOAD CUPS
    16.
    发明申请
    ROTATIONAL ALIGNMENT MECHANISM FOR LOAD CUPS 审中-公开
    用于负载CUPS的旋转对准机构

    公开(公告)号：US20070281589A1

    公开(公告)日：2007-12-06

    申请号：US11757193

    申请日：2007-06-01

    申请人： Jeonghoon Oh ,  Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga

    发明人： Jeonghoon Oh ,  Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga

    IPC分类号： B24B51/00 ,  B24B1/00

    CPC分类号： B24B37/345 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68764

    摘要： The present invention generally relates to a substrate transferring system having an alignment mechanism of a surface and to two points. One embodiment of the present invention provides a load cup for transferring a substrate. The load cup comprises a cup having a substrate supporting surface configured to support the substrate thereon, and two alignment pins protruding from the cup outside the substrate supporting surface, wherein the two alignment pins are both positioned at a first distance away from a center of the substrate supporting surface, and the cup is pivotable about a pivoting point positioned at a second distance away from the center.

    摘要翻译： 本发明一般涉及一种具有表面对准机构和两点的基片转印系统。 本发明的一个实施例提供一种用于转移衬底的负载杯。 负载杯包括具有构造成支撑其上的基板的基板支撑表面的杯和从基板支撑表面外部的杯突出的两个对准销，其中两个对准销都位于远离中心的第一距离处 基板支撑表面，并且杯可围绕位于远离中心的第二距离的枢转点枢转。

    Flexible membrane for multi-chamber carrier head
    18.
    发明授权
    Flexible membrane for multi-chamber carrier head 有权
    多室载体头柔性膜

    公开(公告)号：US07198561B2

    公开(公告)日：2007-04-03

    申请号：US11321006

    申请日：2005-12-28

    申请人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Steven M. Zuniga

    发明人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Steven M. Zuniga

    IPC分类号： B24B29/00

    CPC分类号： B24B37/30

    摘要： A flexible membrane for use with a carrier head of a substrate chemical mechanical polishing apparatus has a central portion with an outer surface providing a substrate receiving surface, a perimeter portion for connecting the central portion to a base of the carrier head, and at least one flap extending from an inner surface of the central portion. The flap includes a laterally extending first section and a vertically extending second section connecting the laterally extending first section to the central portion.

    摘要翻译： 用于与基底化学机械抛光装置的载体头一起使用的柔性膜具有中心部分，其外表面提供基底接收表面，周边部分用于将中心部分连接到载体头部的基部，以及至少一个 翼片从中心部分的内表面延伸。 翼片包括横向延伸的第一部分和将横向延伸的第一部分连接到中心部分的垂直延伸的第二部分。

    Carrier head with multiple chambers
    19.
    发明授权
    Carrier head with multiple chambers 有权
    具有多个腔室的承载头

    公开(公告)号：US07207871B1

    公开(公告)日：2007-04-24

    申请号：US11245867

    申请日：2005-10-06

    申请人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen ,  Thomas Brezoczky ,  Steven T. Mear

    发明人： Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen ,  Thomas Brezoczky ,  Steven T. Mear

    IPC分类号： B24B5/00

    CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B49/16

    摘要： A system for chemical mechanical polishing having a carrier head with pressurizeable chambers that can be configured into pressure zones is described. The system includes a carrier head with a membrane for contacting a substrate during polishing. Pressurizeable chambers behind the membrane are in communication with pressure inputs. The pressure inputs can each supply a different pressure to the pressurizeable chambers. Some of the pressurizeable chambers can be in communication with more than one pressure input. Zones of pressure can be arranged, where each zone includes one or more pressurizeable chambers. The zones can be configurable by altering the pressurizeable chambers that make up each zone.

    摘要翻译： 描述了一种用于化学机械抛光的系统，该系统具有可被构造成压力区的具有可加压室的载体头。 该系统包括具有用于在抛光期间接触基底的膜的载体头部。 膜后面的可加压室与压力输入连通。 压力输入可以为可加压室提供不同的压力。 一些可加压室可以与多于一个的压力输入连通。 可以布置压力区域，其中每个区域包括一个或多个可加压室。 这些区域可以通过改变构成每个区域的可加压室来配置。

    Flexible membrane for carrier head
    20.
    发明授权
    Flexible membrane for carrier head 有权
    用于载体头的柔性膜

    公开(公告)号：US07727055B2

    公开(公告)日：2010-06-01

    申请号：US11741692

    申请日：2007-04-27

    申请人： Steven M. Zuniga ,  Andrew J. Nagengast ,  Jeonghoon Oh

    发明人： Steven M. Zuniga ,  Andrew J. Nagengast ,  Jeonghoon Oh

    IPC分类号： B24B5/35

    CPC分类号： B24B37/30 ,  Y10T428/24174 ,  Y10T428/24182

    摘要： A carrier head that has a base assembly, a retaining ring assembly, a carrier ring, and a flexible membrane is described. The flexible membrane has a main portion and an outer annular portion, wherein a junction between the main portion and the outer annular portion comprises a peripheral edge hinge and an annular recess above the hinge along the outer wall of the outer annular portion.

    摘要翻译： 描述了具有基座组件，保持环组件，载体环和柔性膜的承载头。 柔性膜具有主要部分和外部环形部分，其中主要部分和外部环形部分之间的接合处包括周边边缘铰链和沿着外部环形部分的外壁的铰链上方的环形凹部。