公开(公告)号：US20110033620A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12848782

申请日：2010-08-02

申请人： Alexander S. Polyak ,  Tom K. Cho ,  Oscar Gomez

发明人： Alexander S. Polyak ,  Tom K. Cho ,  Oscar Gomez

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/4586 ,  H01L21/68742

摘要： A method and apparatus for a lift pin is described. In one embodiment, a lift pin head is described. The lift pin head includes a base member having a body made of a first material having a first coefficient of thermal expansion, and a tip disposed on the base member, the base member having a body made of a second material that is flexible at room temperature and having a second coefficient of thermal expansion, the first coefficient of thermal expansion being less than the second coefficient of thermal expansion.

摘要翻译： 描述了用于升降销的方法和装置。 在一个实施例中，描述了提升销头。 提升销头包括具有由具有第一热膨胀系数的第一材料制成的主体的基座构件和设置在基座构件上的尖端，所述基座构件具有由在室温下是柔性的第二材料制成的主体 并且具有第二热膨胀系数，所述第一热膨胀系数小于所述第二热膨胀系数。

公开(公告)号：US20110014396A1

公开(公告)日：2011-01-20

申请号：US12836484

申请日：2010-07-14

申请人： Alexander S. Polyak

发明人： Alexander S. Polyak

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C14/50 ,  C23C16/4586 ,  H01J37/32431 ,  H01L21/68742

摘要： A method and apparatus for a linear motion device is described. In one embodiment, linear motion device includes a housing having a bore formed therethrough along a longitudinal axis and at least two raceways formed at least partially in the housing having a plurality of bearing elements movably disposed therein. Each of the at least two raceways include a first channel disposed in a first radial plane relative to the longitudinal axis, and a second channel connected to the first channel and disposed in the first radial plane inward of the first channel, the second channel including a longitudinal slit allowing at least a portion of the plurality of bearing elements to extend into the bore.

摘要翻译： 描述了用于线性运动装置的方法和装置。 在一个实施例中，线性运动装置包括具有沿着纵向轴线形成在其中的孔的壳体，以及至少部分地形成在壳体中的至少两个滚道，其具有可移动地设置在其中的多个轴承元件。 所述至少两个滚道中的每一个包括相对于纵轴设置在第一径向平面中的第一通道和连接到第一通道并且设置在第一径向平面内的第一通道内的第二通道，第二通道包括 纵向狭缝，允许多个轴承元件的至少一部分延伸到孔中。

公开(公告)号：US20130171757A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：US13732662

申请日：2013-01-02

申请人： HARI K. PONNEKANTI ,  Alexander S. Polyak ,  James L'Heureux ,  Michael S. Cox ,  Christopher T. Lane ,  Edward P. Hammond, IV ,  Hemant P. Mungekar ,  Susanne Schlaefer ,  Wolfgang Buschbeck ,  Juergen Henrich ,  Andreas Lopp

发明人： HARI K. PONNEKANTI ,  Alexander S. Polyak ,  James L'Heureux ,  Michael S. Cox ,  Christopher T. Lane ,  Edward P. Hammond, IV ,  Hemant P. Mungekar ,  Susanne Schlaefer ,  Wolfgang Buschbeck ,  Juergen Henrich ,  Andreas Lopp

IPC分类号： H01L31/18

CPC分类号： H01L31/18 ,  C23C14/568 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6776

摘要： The present invention generally provides a high throughput substrate processing system that is used to form one or more regions of a solar cell device. In one configuration of a processing system, one or more solar cell passivating or dielectric layers are deposited and further processed within one or more processing chambers contained within the high throughput substrate processing system. The processing chambers may be, for example, plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) chambers, low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) chambers, atomic layer deposition (ALD) chambers, physical vapor deposition (PVD) or sputtering chambers, thermal processing chambers (e.g., RTA or RTO chambers), substrate reorientation chambers (e.g., flipping chambers) and/or other similar processing chambers.

摘要翻译： 本发明通常提供用于形成太阳能电池器件的一个或多个区域的高通量衬底处理系统。 在处理系统的一种配置中，一个或多个太阳能电池钝化或电介质层被沉积并在包含在高通量衬底处理系统内的一个或多个处理室内进一步处理。 处理室可以是例如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）室，低压化学气相沉积（LPCVD）室，原子层沉积（ALD）室，物理气相沉积（PVD）或溅射室，热处理室 （例如，RTA或RTO室），基板重新定向室（例如，翻转室）和/或其它类似的处理室。

公开(公告)号：US20130059092A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13605449

申请日：2012-09-06

申请人： HEMANT P. MUNGEKAR ,  Alexander S. Polyak ,  Michael S. Cox

发明人： HEMANT P. MUNGEKAR ,  Alexander S. Polyak ,  Michael S. Cox

IPC分类号： C23C16/513 ,  H05H1/24

CPC分类号： H01J37/3244 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45557 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32779

摘要： A method and apparatus for processing a substrate is described. One embodiment of the invention provides an apparatus for forming thin films. The apparatus comprises a chamber defining an internal volume, a plasma source disposed within the internal volume, and at least one gas injection source disposed adjacent the plasma source within the internal volume, wherein the at least one gas injection source comprises a first channel and a second channel for delivering gases to the internal volume, the first channel delivering a gas at a first pressure or a first density and the second channel delivering a gas at a second pressure or a second density, the first pressure or the first density being different than the second pressure or the second density.

摘要翻译： 描述了用于处理衬底的方法和设备。 本发明的一个实施例提供了一种用于形成薄膜的装置。 该装置包括限定内部体积的室，设置在内部体积内的等离子体源以及在内部体积内与等离子体源相邻设置的至少一个气体注入源，其中至少一个气体注入源包括第一通道和 用于将气体输送到内部容积的第二通道，所述第一通道以第一压力或第一密度输送气体，所述第二通道输送处于第二压力或第二密度的气体，所述第一压力或所述第一密度不同于 第二压力或第二密度。

公开(公告)号：US6080270A

公开(公告)日：2000-06-27

申请号：US892610

申请日：1997-07-14

申请人： M. Shams Tabrez ,  Dwight C. Chew ,  Patrick J. Stafford ,  Richard C. Riddle ,  Alexander S. Polyak

发明人： M. Shams Tabrez ,  Dwight C. Chew ,  Patrick J. Stafford ,  Richard C. Riddle ,  Alexander S. Polyak

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01J37/32 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  C23F1/02 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01J37/32229 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32357 ,  H05B6/701 ,  H05B6/705 ,  H05B6/707 ,  H05B6/806

摘要： A compact microwave downstream plasma system includes, within a significantly small portable housing unit, a power supply, a microwave generator, a non-linear waveguide, a circulator, a dummy load, a plasma applicator, and an igniter. The microwave generator supplies microwaves to the guide to the applicator. The guide includes several curved regions that allow for a more compact design. The applicator is configured to generate a plasma and output reactants that can be used to remove photoresist layers from a wafer within a process reactor.

摘要翻译： 紧凑型微波下游等离子体系统在显着小的便携式外壳单元内包括电源，微波发生器，非线性波导，循环器，虚拟负载，等离子体施加器和点火器。 微波发生器向施加器的引导器提供微波。 导轨包括几个弯曲区域，允许更紧凑的设计。 施加器被配置为产生等离子体并输出可用于从工艺反应器内的晶片去除光致抗蚀剂层的反应物。