公开(公告)号：US07838072B2

公开(公告)日：2010-11-23

申请号：US11043199

申请日：2005-01-26

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/45527 ,  C23C16/52

摘要： An adaptive real time thermal processing system is presented that includes a multivariable controller. The method includes creating a dynamic model of the MLD processing system and incorporating virtual sensors in the dynamic model. The method includes using process recipes comprising intelligent set points, dynamic models, and/or virtual sensors.

摘要翻译： 提出了一种包括多变量控制器的自适应实时热处理系统。 该方法包括创建MLD处理系统的动态模型，并将虚拟传感器并入动态模型中。 该方法包括使用包括智能设定点，动态模型和/或虚拟传感器的过程配方。

公开(公告)号：US07526699B2

公开(公告)日：2009-04-28

申请号：US11278386

申请日：2006-03-31

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： G06F11/00 ,  G11C29/00 ,  G06F11/30 ,  G06F19/00 ,  G01R31/26

CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber, calculating dynamic estimation errors for the precursor and/or purging process, and determining if the dynamic estimation errors can be associated with pre-existing BIST rules for the process. When the dynamic estimation error cannot be associated with a pre-existing BIST rule, the method includes either modifying the BIST table by creating a new BIST rule for the process, or stopping the process when a new BIST rule cannot be created.

摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术来实时监测处理系统的方法，所述建模技术包括处理处理室中的一个或多个晶片，计算前体和/或清洗过程的动态估计误差，以及确定动态估计 错误可以与进程的预先存在的BIST规则相关联。 当动态估计错误不能与预先存在的BIST规则相关联时，该方法包括通过为进程创建一个新的BIST规则来修改BIST表，或者在无法创建新的BIST规则时停止该过程。

公开(公告)号：US07302363B2

公开(公告)日：2007-11-27

申请号：US11278379

申请日：2006-03-31

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： G06F11/30

CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber; determining a measured dynamic process response for a rate of change for a process parameter; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; determining a dynamic estimation error using a difference between the predicted dynamic process response and the expected process response; and comparing the dynamic estimation error to operational limits.

摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术实时监控处理系统的方法，所述技术包括处理处理室中的一个或多个晶片; 确定针对过程参数的变化率的测量的动态过程响应; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 使用预测的动态过程响应和预期过程响应之间的差来确定动态估计误差; 并将动态估计误差与运算极限进行比较。

公开(公告)号：US20070259285A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US11278386

申请日：2006-03-31

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： G03C8/00

CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber, calculating dynamic estimation errors for the precursor and/or purging process, and determining if the dynamic estimation errors can be associated with pre-existing BIST rules for the process. When the dynamic estimation error cannot be associated with a pre-existing BIST rule, the method includes either modifying the BIST table by creating a new BIST rule for the process, or stopping the process when a new BIST rule cannot be created.

摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术来实时监测处理系统的方法，所述建模技术包括处理处理室中的一个或多个晶片，计算前体和/或清洗过程的动态估计误差，以及确定动态估计 错误可以与进程的预先存在的BIST规则相关联。 当动态估计错误不能与预先存在的BIST规则相关联时，该方法包括通过为进程创建一个新的BIST规则来修改BIST表，或者在无法创建新的BIST规则时停止该过程。

公开(公告)号：US07452793B2

公开(公告)日：2008-11-18

申请号：US11094715

申请日：2005-03-30

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Kenji Sugishima ,  Pradeep Pandey

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Kenji Sugishima ,  Pradeep Pandey

IPC分类号： H01L21/425

CPC分类号： H01L21/67248 ,  H01L21/67288 ,  H01L22/12

摘要： A method of determining wafer curvature in real-time is presented. The method includes establishing a first temperature profile for a hotplate surface, where the hotplate surface is divided into a plurality of temperature control zones. The method further includes positioning a wafer at a first height above the hotplate surface and determining a second temperature profile for the hotplate surface. The wafer curvature is then determined by using the second temperature profile. Also, a dynamic model of a processing system is presented and wafer curvature can be incorporated into the dynamic model.

摘要翻译： 提出了一种实时确定晶片曲率的方法。 该方法包括建立热板表面的第一温度曲线，其中将热板表面分成多个温度控制区。 该方法还包括将晶片定位在加热板表面上方的第一高度处，并确定用于加热板表面的第二温度分布。 然后通过使用第二温度分布来确定晶片曲率。 此外，呈现处理系统的动态模型，并且可以将晶片曲率并入到动态模型中。

公开(公告)号：US07444572B2

公开(公告)日：2008-10-28

申请号：US11217276

申请日：2005-09-01

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： G01R31/28 ,  G06F11/30

CPC分类号： H01L22/10 ,  G05B19/41875 ,  G05B23/0254 ,  H01L21/67248 ,  Y02P90/22

摘要： A method of creating and/or modifying a built-in self test (BIST) table for monitoring a thermal processing system in real-time that includes positioning a plurality of wafers in a processing chamber in the thermal processing system; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; creating a measured dynamic process response; determining a dynamic estimation error; determining if the determined dynamic estimation error can be associated with a pre-existing BIST rule in the BIST table; creating a new BIST rule when the dynamic estimation error cannot be associated with any pre-existing BIST rule in the BIST table; and stopping the process when a new BIST rule cannot be created.

摘要翻译： 一种创建和/或修改内置自检（BIST）表的方法，用于实时监测热处理系统，包括将多个晶片定位在热处理系统中的处理室中; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 创建一个测量的动态过程响应; 确定动态估计误差; 确定所确定的动态估计误差是否可以与BIST表中的预先存在的BIST规则相关联; 当动态估计错误不能与BIST表中的任何预先存在的BIST规则相关联时，创建新的BIST规则; 并在无法创建新的BIST规则时停止该进程。

公开(公告)号：US20070234953A1

公开(公告)日：2007-10-11

申请号：US11278382

申请日：2006-03-31

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： B05C5/00

CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/1112 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  G05B2223/02 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber; determining a measured dynamic process response for a rate of change for a process parameter; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; determining a dynamic estimation error using a difference between the predicted dynamic process response and the expected process response; and comparing the dynamic estimation error to operational limits.

摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术实时监控处理系统的方法，所述技术包括处理处理室中的一个或多个晶片; 确定针对过程参数的变化率的测量的动态过程响应; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 使用预测的动态过程响应和预期过程响应之间的差来确定动态估计误差; 并将动态估计误差与运算极限进行比较。

公开(公告)号：US20070061652A1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：US11217276

申请日：2005-09-01

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

IPC分类号： G01R31/28

CPC分类号： H01L22/10 ,  G05B19/41875 ,  G05B23/0254 ,  H01L21/67248 ,  Y02P90/22

摘要： A method of creating and/or modifying a built-in self test (BIST) table for monitoring a thermal processing system in real-time that includes positioning a plurality of wafers in a processing chamber in the thermal processing system; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; creating a measured dynamic process response; determining a dynamic estimation error; determining if the determined dynamic estimation error can be associated with a pre-existing BIST rule in the BIST table; creating a new BIST rule when the dynamic estimation error cannot be associated with any pre-existing BIST rule in the BIST table; and stopping the process when a new BIST rule cannot be created.

摘要翻译： 一种创建和/或修改内置自检（BIST）表的方法，用于实时监测热处理系统，包括将多个晶片定位在热处理系统中的处理室中; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 创建一个测量的动态过程响应; 确定动态估计误差; 确定所确定的动态估计误差是否可以与BIST表中的预先存在的BIST规则相关联; 当动态估计错误不能与BIST表中的任何预先存在的BIST规则相关联时，创建新的BIST规则; 并在无法创建新的BIST规则时停止该进程。

公开(公告)号：US07165011B1

公开(公告)日：2007-01-16

申请号：US11217230

申请日：2005-09-01

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima ,  Anthony Dip ,  David Smith ,  Raymond Joe ,  Sundar Gandhi

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima ,  Anthony Dip ,  David Smith ,  Raymond Joe ,  Sundar Gandhi

IPC分类号： G06F11/30 ,  G06F15/00

CPC分类号： H01L22/10 ,  G05B23/0254 ,  H01L21/67248

摘要： A method of monitoring a thermal processing system in real-time using a built-in self test (BIST) table that includes positioning a plurality of wafers in a processing chamber in the thermal processing system; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response for the processing chamber during the processing time; creating a first measured dynamic process response; determining a dynamic estimation error using a difference between the predicted dynamic process response and the measured dynamic process response; and comparing the dynamic estimation error to operational thresholds established by one or more rules in the BIST table.

摘要翻译： 一种使用内置自检（BIST）表实时监测热处理系统的方法，其包括将多个晶片定位在热处理系统中的处理室中; 执行实时动态模型以在处理时间期间为处理室生成预测的动态过程响应; 创建第一个测量动态过程响应; 使用预测的动态过程响应和测量的动态过程响应之间的差来确定动态估计误差; 以及将动态估计误差与由BIST表中的一个或多个规则建立的操作阈值进行比较。

公开(公告)号：US07101816B2

公开(公告)日：2006-09-05

申请号：US10747842

申请日：2003-12-29

申请人： Sanjeev Kaushal ,  Kenji Sugishima ,  Pradeep Pandey

发明人： Sanjeev Kaushal ,  Kenji Sugishima ,  Pradeep Pandey

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： H01L21/67248

摘要： Methods for adaptive real time control of a system for thermal processing substrates, such as semiconductor wafers and display panels. Generally, the method includes creating a dynamic model of the thermal processing system, incorporating wafer bow in the dynamic model, coupling a diffusion-amplification model into the dynamic thermal model, creating a multivariable controller, parameterizing the nominal setpoints, creating a process sensitivity matrix, creating intelligent setpoints using an efficient optimization method and process data, and establishing recipes that select appropriate models and setpoints during run-time.

摘要翻译： 用于热处理衬底（例如半导体晶片和显示面板）的系统的自适应实时控制的方法。 通常，该方法包括创建热处理系统的动态模型，将动态模型中的晶圆弓结合在一起，将扩散放大模型耦合到动态热模型中，创建多变量控制器，参数化标称设定点，创建过程灵敏度矩阵 ，使用有效的优化方法和过程数据创建智能设定点，以及建立在运行时选择合适的模型和设定值的配方。