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    Monitoring a single-wafer processing system
    1.
    发明授权
    Monitoring a single-wafer processing system 有权
    监控单晶圆处理系统

    公开(公告)号：US07340377B2

    公开(公告)日：2008-03-04

    申请号：US11456020

    申请日：2006-07-06

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： G06F11/30

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

    摘要： A method of monitoring a single-wafer processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing a wafer in a processing chamber; determining a measured dynamic process response for a rate of change for a process parameter; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; determining a dynamic estimation error using a difference between the predicted dynamic process response and the expected process response; and comparing the dynamic estimation error to operational limits.

    摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术来实时监测单晶片处理系统的方法，其包括在处理室中处理晶片; 确定针对过程参数的变化率的测量的动态过程响应; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 使用预测的动态过程响应和预期过程响应之间的差来确定动态估计误差; 并将动态估计误差与运算极限进行比较。

    MONITORING A SYSTEM DURING LOW-PRESSURE PROCESSES
    2.
    发明申请
    MONITORING A SYSTEM DURING LOW-PRESSURE PROCESSES 有权
    在低压过程中监测系统

    公开(公告)号：US20070239375A1

    公开(公告)日：2007-10-11

    申请号：US11278379

    申请日：2006-03-31

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： G06F19/00

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

    摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber; determining a measured dynamic process response for a rate of change for a process parameter; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; determining a dynamic estimation error using a difference between the predicted dynamic process response and the expected process response; and comparing the dynamic estimation error to operational limits.

    摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术实时监控处理系统的方法，所述技术包括处理处理室中的一个或多个晶片; 确定针对过程参数的变化率的测量的动态过程响应; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 使用预测的动态过程响应和预期过程响应之间的差来确定动态估计误差; 并将动态估计误差与运算极限进行比较。

    Adaptive real time control of a reticle/mask system
    3.
    发明授权
    Adaptive real time control of a reticle/mask system 失效
    光罩/掩模系统的自适应实时控制

    公开(公告)号：US07025280B2

    公开(公告)日：2006-04-11

    申请号：US10769623

    申请日：2004-01-30

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： G06F7/66 ,  G06F17/50 ,  C23C16/00 ,  H05B3/02

    CPC分类号： G03F1/68 ,  G03F1/78 ,  H01L21/67248

    摘要： An adaptive real time thermal processing system is presented that includes a multivariable controller. Generally, the method includes creating a dynamic model of the thermal processing system; incorporating reticle/mask curvature in the dynamic model; coupling a diffusion-amplification model into the dynamic thermal model; creating a multivariable controller; parameterizing the nominal setpoints into a vector of intelligent setpoints; creating a process sensitivity matrix; creating intelligent setpoints using an efficient optimization method and process data; and establishing recipes that select appropriate models and setpoints during run-time.

    摘要翻译： 提出了一种包括多变量控制器的自适应实时热处理系统。 通常，该方法包括创建热处理系统的动态模型; 在动态模型中结合掩模/掩模曲率; 将扩散扩增模型耦合到动态热模型中; 创建一个多变量控制器; 将标称设定值参数化为智能设定点的向量; 创建一个过程敏感性矩阵; 使用有效的优化方法和过程数据创建智能设定点; 并建立在运行期间选择合适的模型和设定值的配方。

    Monitoring a thermal processing system
    6.
    发明授权
    Monitoring a thermal processing system 有权
    监控热处理系统

    公开(公告)号：US07406644B2

    公开(公告)日：2008-07-29

    申请号：US11278012

    申请日：2006-03-30

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： G01R31/28

    CPC分类号： H01L22/20

    摘要： A method of monitoring a thermal processing system in real-time using a built-in self test (BIST) table to detect, diagnose and/or predict fault conditions and/or degraded performance. The method includes positioning a plurality of wafers in a processing chamber in the thermal processing system, performing a self test process, determining a real-time transient error from a measured transient response and a baseline transient response determined by a BIST rule stored in the BIST table, and comparing the transient error to operational limits and warning limits established by the BIST rule for the self test process.

    摘要翻译： 使用内置自检（BIST）表来实时监测热处理系统的方法来检测，诊断和/或预测故障状况和/或降级的性能。 该方法包括将多个晶片定位在热处理系统中的处理室中，执行自测试过程，从测量的瞬态响应确定实时瞬态误差，以及由存储在BIST中的BIST规则确定的基线瞬态响应 表，并将瞬态误差与BIST规则为自检过程建立的运行极限和警告限制进行比较。

    Method and apparatus for monolayer deposition (MLD)
    7.
    发明授权
    Method and apparatus for monolayer deposition (MLD) 有权
    单层沉积方法和装置（MLD）

    公开(公告)号：US07838072B2

    公开(公告)日：2010-11-23

    申请号：US11043199

    申请日：2005-01-26

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： C23C16/00

    CPC分类号： C23C16/45527 ,  C23C16/52

    摘要： An adaptive real time thermal processing system is presented that includes a multivariable controller. The method includes creating a dynamic model of the MLD processing system and incorporating virtual sensors in the dynamic model. The method includes using process recipes comprising intelligent set points, dynamic models, and/or virtual sensors.

    摘要翻译： 提出了一种包括多变量控制器的自适应实时热处理系统。 该方法包括创建MLD处理系统的动态模型，并将虚拟传感器并入动态模型中。 该方法包括使用包括智能设定点，动态模型和/或虚拟传感器的过程配方。

    Monitoring a system during low-pressure processes
    9.
    发明授权
    Monitoring a system during low-pressure processes 有权
    在低压过程中监控系统

    公开(公告)号：US07302363B2

    公开(公告)日：2007-11-27

    申请号：US11278379

    申请日：2006-03-31

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： G06F11/30

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

    摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber; determining a measured dynamic process response for a rate of change for a process parameter; executing a real-time dynamic model to generate a predicted dynamic process response; determining a dynamic estimation error using a difference between the predicted dynamic process response and the expected process response; and comparing the dynamic estimation error to operational limits.

    摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术实时监控处理系统的方法，所述技术包括处理处理室中的一个或多个晶片; 确定针对过程参数的变化率的测量的动态过程响应; 执行实时动态模型以产生预测的动态过程响应; 使用预测的动态过程响应和预期过程响应之间的差来确定动态估计误差; 并将动态估计误差与运算极限进行比较。

    METHOD FOR CREATING A BUILT-IN SELF TEST (BIST) TABLE FOR MONITORING A MONOLAYER DEPOSITION (MLD) SYSTEM
    10.
    发明申请
    METHOD FOR CREATING A BUILT-IN SELF TEST (BIST) TABLE FOR MONITORING A MONOLAYER DEPOSITION (MLD) SYSTEM 失效
    用于创建用于监测单层沉积（MLD）系统的内置自检（BIST）表的方法

    公开(公告)号：US20070259285A1

    公开(公告)日：2007-11-08

    申请号：US11278386

    申请日：2006-03-31

    申请人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    发明人： Sanjeev Kaushal ,  Pradeep Pandey ,  Kenji Sugishima

    IPC分类号： G03C8/00

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/52 ,  G05B23/0254 ,  G05B2219/37514 ,  G05B2219/37533 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

    摘要： A method of monitoring a processing system in real-time using low-pressure based modeling techniques that include processing one or more of wafers in a processing chamber, calculating dynamic estimation errors for the precursor and/or purging process, and determining if the dynamic estimation errors can be associated with pre-existing BIST rules for the process. When the dynamic estimation error cannot be associated with a pre-existing BIST rule, the method includes either modifying the BIST table by creating a new BIST rule for the process, or stopping the process when a new BIST rule cannot be created.

    摘要翻译： 一种使用基于低压的建模技术来实时监测处理系统的方法，所述建模技术包括处理处理室中的一个或多个晶片，计算前体和/或清洗过程的动态估计误差，以及确定动态估计 错误可以与进程的预先存在的BIST规则相关联。 当动态估计错误不能与预先存在的BIST规则相关联时，该方法包括通过为进程创建一个新的BIST规则来修改BIST表，或者在无法创建新的BIST规则时停止该过程。