公开(公告)号：US09052494B2

公开(公告)日：2015-06-09

申请号：US12750488

申请日：2010-03-30

申请人： Shiow-Hwei Hwang ,  Gregory L. Kirk ,  Hwan J. Jeong ,  David Shafer ,  Russel Hudyma

发明人： Shiow-Hwei Hwang ,  Gregory L. Kirk ,  Hwan J. Jeong ,  David Shafer ,  Russel Hudyma

IPC分类号： G01N21/00 ,  G02B17/08 ,  G01N21/95 ,  G03F1/84

CPC分类号： G02B17/084 ,  G01N21/9501 ,  G03F1/84

摘要： An optical system may include an objective having at least four mirrors including an outermost mirror with aspect ratio 0.7, central obscuration 0.7 and field of view >0.8 mm. An optical imaging system may comprise an objective and two or more imaging paths. The imaging paths may provide two or more simultaneous broadband images of a sample in two or more modes. The modes may have different illumination and/or collection pupil apertures or different pixel sizes at the sample.

摘要翻译： 光学系统可以包括具有至少四个反射镜的物镜，其包括具有纵横比<20:1的最外镜和包括折射光学元件的聚焦光学元件。 该目标提供数值孔径> 0.7，瞳孔中心遮蔽<35％的成像。 物镜可以具有两个或更多个反射镜，一个具有折射模块的反射镜，该折射模块密封最外镜的中心开口。 宽带成像系统可以包括一个物镜和两个或更多个在数值孔径> 0.7和视场> 0.8mm处提供成像的成像路径。 光学成像系统可以包括物镜和两个或更多个成像路径。 成像路径可以以两种或更多种模式提供样本的两个或更多个同时宽带图像。 这些模式可以在样品处具有不同的照明和/或收集光瞳孔径或不同的像素尺寸。

公开(公告)号：US08817273B2

公开(公告)日：2014-08-26

申请号：US13454870

申请日：2012-04-24

申请人： Hwan J. Jeong ,  Silvio J. Rabello ,  Thomas Andre Casavant

发明人： Hwan J. Jeong ,  Silvio J. Rabello ,  Thomas Andre Casavant

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： A dark field diffraction based overlay metrology device illuminates an overlay target that has at least three pads for an axis, the three pads having different programmed offsets. The overlay target may be illuminated using two obliquely incident beams of light from opposite azimuth angles or using normally incident light. Two dark field images of the overlay target are collected using ±1st diffraction orders to produce at least six independent signals. For example, the +1st diffraction order may be collected from one obliquely incident beam of light and the −1st diffraction order may be collected from the other obliquely incident beam of light. Alternatively, the ±1st diffraction orders may be separately detected from the normally incident light to produce the two dark field images of the overlay target. The six independent signals from the overlay target are used to determine an overlay error for the sample along the axis.

摘要翻译： 基于暗场衍射的覆盖测量装置照亮具有用于轴的至少三个焊盘的覆盖目标，所述三个焊盘具有不同的编程偏移。 可以使用来自相反方位角的两个倾斜入射光束或使用正常入射的光照亮覆盖目标。 使用±1衍射级收集覆盖目标的两个暗场图像以产生至少六个独立信号。 例如，可以从一个倾斜入射光束收集+ 1衍射级，并且可以从另一个倾斜入射光束收集第一衍射级。 或者，可以从正常入射光单独检测±1衍射级，以产生覆盖目标的两个暗场图像。 来自覆盖目标的六个独立信号用于确定沿着轴的样本的覆盖误差。

公开(公告)号：US20130155399A9

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：US12750488

申请日：2010-03-30

申请人： Shiow-Hwei Hwang ,  Gregory L. Kirk ,  Hwan J. Jeong ,  David Shafer ,  Russell Hudyma

发明人： Shiow-Hwei Hwang ,  Gregory L. Kirk ,  Hwan J. Jeong ,  David Shafer ,  Russell Hudyma

IPC分类号： G01N21/88 ,  G02B17/08

CPC分类号： G02B17/084 ,  G01N21/9501 ,  G03F1/84

摘要： An optical system may include an objective having at least four mirrors including an outermost mirror with aspect ratio 0.7, central obscuration 0.7 and field of view >0.8 mm. An optical imaging system may comprise an objective and two or more imaging paths. The imaging paths may provide two or more simultaneous broadband images of a sample in two or more modes. The modes may have different illumination and/or collection pupil apertures or different pixel sizes at the sample.

摘要翻译： 光学系统可以包括具有至少四个反射镜的物镜，其包括具有纵横比<20:1的最外镜和包括折射光学元件的聚焦光学元件。 该目标提供数值孔径> 0.7，瞳孔中心遮蔽<35％的成像。 物镜可以具有两个或更多个反射镜，一个具有折射模块的反射镜，该折射模块密封最外镜的中心开口。 宽带成像系统可以包括一个物镜和两个或更多个在数值孔径> 0.7和视场> 0.8mm处提供成像的成像路径。 光学成像系统可以包括物镜和两个或更多个成像路径。 成像路径可以以两种或更多种模式提供样本的两个或更多个同时宽带图像。 这些模式可以在样品处具有不同的照明和/或收集光瞳孔径或不同的像素尺寸。

公开(公告)号：US07199946B2

公开(公告)日：2007-04-03

申请号：US11145829

申请日：2005-06-06

申请人： Hwan J. Jeong

发明人： Hwan J. Jeong

IPC分类号： G02B17/00 ,  G01N21/00

CPC分类号： G02B17/0804 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/0636 ,  G02B17/0852

摘要： Systems configured to provide illumination of a specimen during inspection are provided. One system includes catoptric elements configured to direct light from a light source to a line across the specimen at an oblique angle of incidence. The catoptric elements include positive and negative elements configured such that pupil distortions of the positive and negative elements are substantially canceled. Another system includes a dioptric element and a catoptric element. The dioptric element and the catoptric element are configured to direct light from a light source to a line across the specimen at an oblique angle of incidence. The dioptric and catoptric elements are also configured such that pupil distortions of the dioptric and catoptric elements are substantially canceled.

摘要翻译： 提供被配置为在检查期间提供样品的照明的系统。 一个系统包括反射元件，其被配置为将光从光源引导到以倾斜入射角穿过样本的线。 反射元件包括正和负元件，其被配置为使得正和负元件的光瞳畸变被基本上消除。 另一个系统包括一个折射元件和一个折射元件。 折射元件和反射元件被构造成将来自光源的光以倾斜的入射角引导到跨越样本的线。 折射和折射元件也被配置为使得屈光度和折射元件的瞳孔变形基本上被消除。

公开(公告)号：US06751373B2

公开(公告)日：2004-06-15

申请号：US10119871

申请日：2002-04-10

申请人： Hwan J. Jeong

发明人： Hwan J. Jeong

IPC分类号： G02B628

CPC分类号： G02B6/2938 ,  G02B6/29362 ,  G02B6/32 ,  H04J14/02 ,  H04J14/0201

摘要： A WDM demultiplexer/multiplexer comprising a plurality of narrow band reflective filters linearly disposed along an optical axis, each narrow band reflective filter reflecting a single channel or group of channels and transmitting the remaining channels, is described. In a demultiplexing mode, an optical signal initially carrying channels at &lgr;1&lgr;2 . . . &lgr;N travels along the optical axis. Each narrow band reflective filter reflects a distinct channel and is tilted with respect to the optical axis such that it directs the reflected beam away from the optical axis to an output. Each narrow band reflective filter is substantially transparent to the remaining channels of the optical signal, such that the remainder of the optical signal proceeds along the optical axis substantially undisturbed. Advantageously, the device is highly robust against tilt variations or other mechanical variations in the narrow band reflective filters, because such variations are not compounded as the optical signal travels through the device. When many channels “N” require multiplexing/demultiplexing, the incoming beam may be split into “m” separate beams and sent to “m” separate narrowband reflective filter arrays, each comprising about N/m narrowband reflective filters. An optimal number of beams “m” for best energy efficiency may be computed based on specified system parameters.

摘要翻译： WDM解复用器/多路复用器包括沿着光轴线性设置的多个窄带反射滤光器，每个窄带反射滤光器反射单个信道或一组信道并发送剩余信道。 在解复用模式中，最初在λ1λ2处承载信道的光信号。 。 。 λN沿着光轴行进。 每个窄带反射滤光器反射不同的通道并且相对于光轴倾斜，使得其将反射的光束从光轴引导到输出。 每个窄带反射滤光器对光信号的剩余通道基本上是透明的，使得光信号的其余部分基本上不受干扰地沿着光轴行进。 有利地，该装置对于窄带反射滤光器中的倾斜变化或其他机械变化是高度鲁棒的，因为当光信号穿过该装置时，这种变化不会复合。 当许多通道“N”需要多路复用/解复用时，输入波束可以被分成“m”个单独的波束并发送到“m”个分开的窄带反射滤波器阵列，每个窄带反射滤波器阵列包括约N / m个窄带反射滤波器。 可以基于指定的系统参数来计算用于最佳能量效率的最佳数量的“m”。

公开(公告)号：US5557469A

公开(公告)日：1996-09-17

申请号：US331059

申请日：1994-10-28

申请人： David A. Markle ,  Hwan J. Jeong

发明人： David A. Markle ,  Hwan J. Jeong

IPC分类号： G02B13/24 ,  G02B13/22 ,  G02B13/26 ,  G02B15/00 ,  G02B15/14 ,  G02B17/08 ,  G02B26/08 ,  G02B27/18 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B17/00

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B13/22 ,  G02B13/26 ,  G02B15/00 ,  G02B17/008 ,  G02B26/0875 ,  G03F7/70825

摘要： An optical system to project an image from an illuminated object to an image plane with a selected magnification factor. This system includes a lens system having a fixed magnification factor and at least one flat plate that is optically compatible with the lens system and which when bent into a cylindrical shape varies the fixed magnification factor of the lens system along one axis of the image. This variable magnification technique is applicable to all lens system types, including a Wynne Dyson type projection system. In addition, a Wynne Dyson optical projection system that includes an optical block in place of the usual fold prism is discussed. The optical block reduces changes in distortion caused by heat transferred from the reticle. The block permits the inclusion of a dichroic beamsplitter diagonally through the optical block which presents minimal attenuation of the exposure illumination. The beamsplitter reflects a portion of the light returning from the image plane to a conjugate focal plane where alignment between the image and the pattern on the substrate can be viewed with a microscope. Illumination projected through the conjugate image plane permits the pattern on the substrate to be viewed directly without interference from the object pattern.

摘要翻译： 一种光学系统，用于将图像从被照明物体投射到具有所选放大系数的图像平面。 该系统包括具有固定放大系数的透镜系统和与透镜系统光学兼容的至少一个平板，并且当弯曲成圆柱形时，透镜系统的固定放大系数沿图像的一个轴线改变。 这种可变放大技术适用于所有透镜系统类型，包括Wynne Dyson型投影系统。 此外，还讨论了一种Wynne Dyson光学投影系统，其包括代替普通折叠棱镜的光学块。 光学块可减少由于光栅传递的热量引起的失真变化。 该块允许将二向色分束器对角地包括在光学块中，其呈现曝光照明的最小衰减。 分束器将从图像平面返回的光的一部分反射到共轭焦平面，可以用显微镜观察图像与基板上的图案之间的对准。 通过共轭图像投射的照明允许直接观察衬底上的图案而不受目标图案的干扰。

公开(公告)号：US5303001A

公开(公告)日：1994-04-12

申请号：US994239

申请日：1992-12-21

申请人： Hwan J. Jeong ,  Shafer David R.

发明人： Hwan J. Jeong ,  Shafer David R.

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： G02B17/0856 ,  G02B17/008 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70225

摘要： An illumination system for use in a unit magnification optical projection system (such as a Half-Field Dyson system) is provided. In a Half-Field Dyson system, a reticle and a wafer are parallel to each other with a window being provided on the reticle to allow for projection of the reticle pattern onto the wafer. The present invention provides uniform bright illumination over the reticle pattern with little or no spill over through the reticle window.

摘要翻译： 提供了一种用于单位放大率光学投影系统（如半场戴森系统）的照明系统。 在半场Dyson系统中，标线片和晶片彼此平行，在掩模版上设置有窗口以允许将掩模版图案投影到晶片上。 本发明在掩模版图案上提供均匀的明亮照明，其中很少或不会溢出通过分划板窗。