公开(公告)号：US07592407B2

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：US11259179

申请日：2005-10-27

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： C07C69/52

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D309/10 ,  C08F220/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  Y02P20/55

摘要： A polymerizable fluorinated compound having formula (2a) or (2b) wherein R1 and R2 are H or C1-C20 alkyl or fluoroalkyl, R3 is H, F or C1-C4 alkyl or fluoroalkyl, and R is H or a protective group is polymerized into a fluorinated polymer which is used as a base polymer to formulate a resist composition having transparency to laser light of wavelength≦300 nm, alkali development amenability, and dry etch resistance.

摘要翻译： 具有式（2a）或（2b）的可聚合氟化化合物，其中R 1和R 2是H或C 1 -C 20烷基或氟代烷基，R 3是H，F或C 1 -C 4烷基或氟代烷基，R是H或保护基团是聚合的 转化成氟化聚合物，其用作基础聚合物以配制对波长<= 300nm的激光具有透明度的抗蚀剂组合物，碱显影易化性和耐干蚀刻性。

公开(公告)号：US20090208873A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12371455

申请日：2009-02-13

申请人： Yuji HARADA ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji HARADA ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F118/02 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer obtained through copolymerization of a monomer having a hexafluoroalcohol pendant whose hydroxyl moiety has been protected and a monomer having an acid labile group is useful as an additive to a photoresist composition for immersion lithography. When processed by immersion lithography, the resist composition exhibits good water repellency and water slip and produces few development defects.

摘要翻译： 通过使具有羟基部分被保护的六氟醇侧基的单体和具有酸不稳定基团的单体的共聚合得到的聚合物可用作浸渍光刻用光致抗蚀剂组合物的添加剂。 当通过浸渍光刻处理时，抗蚀剂组合物表现出良好的拒水性和水滑动，并且产生很少的显影缺陷。

公开(公告)号：US07378218B2

公开(公告)日：2008-05-27

申请号：US11345325

申请日：2006-02-02

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A fluorinated polymer comprising recurring units of formulae (1a) to (1d) and having a Mw of 1,000-500,000 is provided. R1 is an acid labile group, R2 is a single bond or methylene, a1, a2, a3, and a4 are numbers from more than 0 to less than 1, and 0

摘要翻译： 提供了包含式（1a）至（1d）的重复单元并且Mw为1,000-500,000的含氟聚合物。 R 1是酸不稳定基团，R 2是单键或亚甲基，a1，a2，a3和a4是大于0至小于1的数， 并且0

公开(公告)号：US20080085466A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11905727

申请日：2007-10-03

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： G03C1/73 ,  C08G63/06 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/11 ,  C09D133/066 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： A resist protective coating material comprises a polymer comprising repeat units having formulae (1a) and (1b) and having a Mw of 1,000-500,000. R1a and R1b are H, F or alkyl or fluoroalkyl, R2a, R2b, R3a and R3b are H or alkyl, or R2a and R2b, and R3a and R3b may bond together to form a ring, 0

摘要翻译： 抗蚀剂保护涂层材料包括包含具有式（1a）和（1b）的重复单元并且具有1,000-500,000的Mw的聚合物。 R 1a和R 1b是H，F或烷基或氟代烷基，R 2a，R 2b，R b， R 3a和R 3b是H或烷基，或R 2a和R 2b和R 3a， / SUP>和R 3b可以键合在一起形成环，0

公开(公告)号：US07332616B2

公开(公告)日：2008-02-19

申请号：US11672917

申请日：2007-02-08

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai

IPC分类号： C07D333/64 ,  C07D333/72 ,  C07D409/02 ,  C07D307/00 ,  C07C69/52 ,  C07C67/02 ,  C07C43/18

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/54 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397

摘要： The present invention provides a polymer which has at least one or more of a repeating unit represented by a following general formula (1a), a repeating unit represented by a following general formula (2a) and a repeating unit represented by a following general formula (3b), and a repeating unit represented by a following general formula (1c), and a positive resist composition which contains as a base resin the polymer. Thereby, there can be provided a positive-resist composition having high sensitivity and high resolution in exposure with a high energy beam, wherein line edge roughness is small since swelling at the time of development is suppressed, and the residue after development is few.

摘要翻译： 本发明提供一种聚合物，其具有以下通式（1a）表示的重复单元，下述通式（2a）表示的重复单元和下述通式（ 3b）和由以下通式（1c）表示的重复单元和含有聚合物作为基础树脂的正性抗蚀剂组合物。 因此，可以提供一种在高能量束曝光时具有高灵敏度和高分辨率的正光刻胶组合物，其中线边缘粗糙度小，因为在显影时的膨胀被抑制，并且显影后的残留物很少。

公开(公告)号：US20070231738A1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：US11730289

申请日：2007-03-30

申请人： Tatsushi Kaneko ,  Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada

发明人： Tatsushi Kaneko ,  Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： There is disclosed a resist composition comprising, at least, a polymer including repeating units represented by the following general formula (1). There can-be provided a resist composition that has a good barrier property against water, prevents resist components from leaching to water, has high receding contact angle against water, does not require a protective film, has an excellent process applicability, suitable for the liquid immersion lithography and makes it possible to form micropatterns with high precision.

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其至少包含由以下通式（1）表示的重复单元的聚合物。 可以提供对水具有良好的阻隔性的抗蚀剂组合物，防止抗蚀剂成分浸出到水中，对水具有高后退接触角，不需要保护膜，具有优异的工艺适用性，适用于液体 浸没式光刻技术，可以高精度地形成微图案。

公开(公告)号：US07276623B2

公开(公告)日：2007-10-02

申请号：US11440107

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： C07C69/00 ,  G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046

摘要： Ester compounds having formula (1) wherein R1 is fluorine or C1-C10 fluoroalkyl, R2 is C1-C10 alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group are novel. They can be polymerized into polymers which are used to formulate resist compositions, which are processed by the lithography involving ArF exposure, offering many advantages including improved resolution and transparency, minimal line edge roughness, improved etch resistance, and especially minimal surface roughness after etching.

摘要翻译： 式（1）其中R 1是氟或C 1 -C 10氟烷基的酯化合物，其中R 1是氢或C 1 -C 10 - 是C 1 -C 10亚烷基或氟代亚烷基，R 3是酸不稳定基团是新的。 它们可以聚合成用于配制抗蚀剂组合物的聚合物，其通过涉及ArF曝光的光刻加工，提供许多优点，包括改进的分辨率和透明度，最小的线边缘粗糙度，改善的耐蚀刻性，以及蚀刻后特别是最小的表面粗糙度。

公开(公告)号：US20060269871A1

公开(公告)日：2006-11-30

申请号：US11440126

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of formula (1) wherein R1 is F or fluoroalkyl, R2 is alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group and having a Mw of 1,000-500,000 is used to formulate a resist composition, which is processed by the lithography involving ArF exposure and offers many advantages including resolution, minimal line edge roughness, etch resistance, and minimal surface roughness after etching. The composition performs well when processed by the ArF immersion lithography with liquid interposed between the projection lens and the wafer.

摘要翻译： 包含式（1）的重复单元的聚合物，其中R 1是F或氟代烷基，R 2是亚烷基或氟代亚烷基，R 3是 使用Mw为1,000-500,000的酸不稳定基团来配制抗蚀剂组合物，其通过涉及ArF曝光的光刻进行处理，并提供许多优点，包括分辨率，最小线边缘粗糙度，耐蚀刻性和蚀刻后的最小表面粗糙度 。 当通过ArF浸没式光刻法处理介于投影透镜和晶片之间的液体时，组合物表现良好。

公开(公告)号：US20060269870A1

公开(公告)日：2006-11-30

申请号：US11440107

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046

摘要： Ester compounds having formula (1) wherein R1 is fluorine or C1-C10 fluoroalkyl, R2 is C1-C10 alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group are novel. They can be polymerized into polymers which are used to formulate resist compositions, which are processed by the lithography involving ArF exposure, offering many advantages including improved resolution and transparency, minimal line edge roughness, improved etch resistance, and especially minimal surface roughness after etching.

摘要翻译： 式（1）其中R 1是氟或C 1 -C 10氟烷基的酯化合物，其中R 1是氢或C 1 -C 10 - 是C 1 -C 10亚烷基或氟代亚烷基，R 3是酸不稳定基团是新的。 它们可以聚合成用于配制抗蚀剂组合物的聚合物，其通过涉及ArF曝光的光刻加工，提供许多优点，包括改进的分辨率和透明度，最小的线边缘粗糙度，改善的耐蚀刻性，以及蚀刻后特别是最小的表面粗糙度。

公开(公告)号：US20060177765A1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：US11345325

申请日：2006-02-02

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A fluorinated polymer comprising recurring units of formulae (1a) to (1d) and having a Mw of 1,000-500,000 is provided. R1 is an acid labile group, R2 is a single bond or methylene, a1, a2, a3, and a4 are numbers from more than 0 to less than 1, and 0

摘要翻译： 提供了包含式（1a）至（1d）的重复单元并且Mw为1,000-500,000的含氟聚合物。 R 1是酸不稳定基团，R 2是单键或亚甲基，a1，a2，a3和a4是大于0至小于1的数， 并且0