公开(公告)号：US08202463B2

公开(公告)日：2012-06-19

申请号：US12426527

申请日：2009-04-20

申请人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

发明人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： B29C37/006 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint method includes contacting a template on a first substrate. The template includes a pattern to be transferred on the first substrate. The first substrate includes a first semiconductor substrate, and a first light curable resin coated on the first semiconductor substrate. The method further includes separating the template from the first substrate, and removing particles adhered on the template. The particle removal includes: pressing the template on an adhesive member which is distinct from the first substrate. The adhesive member includes a dummy substrate, a particle removing film formed on the dummy substrate and configured to remove the particles, and a second light curable resin coated on the particle removing film. The second light curable resin is thicker than the first light curable resin.

摘要翻译： 压印方法包括在第一衬底上接触模板。 模板包括要在第一基板上转印的图案。 第一基板包括第一半导体基板和涂覆在第一半导体基板上的第一光固化树脂。 该方法还包括从第一基底分离模板，以及除去附着在模板上的颗粒。 颗粒去除包括：将模板压在与第一基板不同的粘合剂构件上。 所述粘合部件包括虚拟基板，形成在所述虚设基板上并构成为除去所述粒子的除粒膜，以及涂覆在所述除粒膜上的第二光固化树脂。 第二光固化树脂比第一光固化树脂厚。

公开(公告)号：US20100075443A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12553906

申请日：2009-09-03

申请人： Ikuo YONEDA ,  Tetsuro Nakasugi ,  Masamitsu Itoh ,  Ryoichi Inanami

发明人： Ikuo YONEDA ,  Tetsuro Nakasugi ,  Masamitsu Itoh ,  Ryoichi Inanami

IPC分类号： H01L21/66 ,  G06K9/00

CPC分类号： G01N21/956 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： A template inspection method for performing defect inspection of a template, by bringing a pattern formation surface of a template used to form a pattern close to a first fluid coated on a flat substrate, filling the first fluid into a pattern of the template, and by performing optical observation of the template in a state that the first fluid is sandwiched between the template and the substrate, wherein a difference between an optical constant of the first fluid and an optical constant of the template is larger than a difference between an optical constant of air and the optical constant of the template.

摘要翻译： 一种用于对模板进行缺陷检查的模板检查方法，通过将用于形成图案的模板的图案形成表面靠近涂覆在平坦基板上的第一流体，将第一流体填充到模板的图案中，以及通过 在第一流体夹在模板和基板之间的状态下进行模板的光学观察，其中第一流体的光学常数与模板的光学常数之间的差异大于模板的光学常数之间的差异 空气和模板的光学常数。

公开(公告)号：US20090315223A1

公开(公告)日：2009-12-24

申请号：US12483705

申请日：2009-06-12

申请人： Ikuo Yoneda ,  Shinji Mikami ,  Takumi Ota ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Ikuo Yoneda ,  Shinji Mikami ,  Takumi Ota ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： B29C35/08 ,  B29C59/02

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： A template includes a substrate, an element pattern formed on a surface of the substrate, and a light absorbing portion formed on or inside the substrate.

摘要翻译： 模板包括基板，形成在基板的表面上的元件图案，以及形成在基板上或内部的光吸收部。

公开(公告)号：US20090267267A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12426527

申请日：2009-04-20

申请人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

发明人： Ikuo Yoneda ,  Tetsuro Nakasugi ,  Shinji Mikami

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： B29C37/006 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint method includes contacting a template on a substrate, the template including a pattern to be transferred on the substrate, separating the template from the substrate, and removing particle adhered on the template before contacting the template on the substrate, the removing the particle including pressing the template on an adhesive member and separating the pressed template from the adhesive member, wherein adhesiveness of the adhesive member to the template is higher than adhesiveness of the adhesive member to the substrate.

摘要翻译： 压印方法包括使基板上的模板接触，所述模板包括要在基板上转印的图案，将模板与基板分离，以及在与基板之间的模板接触之前除去附着在模板上的颗粒，除去包括 将模板压在粘合剂构件上并将压制模板与粘合构件分离，其中粘合剂与模板的粘合性高于粘合剂与基材的粘合性。

公开(公告)号：US08883373B2

公开(公告)日：2014-11-11

申请号：US13679396

申请日：2012-11-16

申请人： Akiko Mimotogi ,  Suigen Kyoh ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Akiko Mimotogi ,  Suigen Kyoh ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F1/64

CPC分类号： G03F1/62

摘要： According to one embodiment, a method for manufacturing a photo mask, includes acquiring first data on respective shapes of a plurality of mask substrates, acquiring second data on respective shapes of a plurality of pellicles, and determining a combination of the mask substrate and the pellicle based on the first data and the second data.

摘要翻译： 根据一个实施例，一种制造光掩模的方法包括：获取关于多个掩模基板的各个形状的第一数据，获取关于多个防护薄膜的各自形状的第二数据，以及确定掩模基板和防护薄膜组件的组合 基于第一数据和第二数据。

公开(公告)号：US20130130157A1

公开(公告)日：2013-05-23

申请号：US13679396

申请日：2012-11-16

申请人： Akiko Mimotogi ,  Suigen Kyoh ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Akiko Mimotogi ,  Suigen Kyoh ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G03F1/62

CPC分类号： G03F1/62

摘要： According to one embodiment, a method for manufacturing a photo mask, includes acquiring first data on respective shapes of a plurality of mask substrates, acquiring second data on respective shapes of a plurality of pellicles, and determining a combination of the mask substrate and the pellicle based on the first data and the second data.

摘要翻译： 根据一个实施例，一种制造光掩模的方法包括：获取关于多个掩模基板的各个形状的第一数据，获取关于多个防护薄膜的各自形状的第二数据，以及确定掩模基板和防护薄膜组件的组合 基于第一数据和第二数据。

公开(公告)号：US20130077066A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：US13428519

申请日：2012-03-23

申请人： Ryoichi INANAMI ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Ryoichi INANAMI ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G03B27/74

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： According to one embodiment, a pattern forming apparatus includes a stage provided under a lower surface of a substrate, a probe provided above an upper surface of the substrate, a drive unit which drives at least one of the stage and the probe, a monitor/lithography unit connected to the probe, and a control unit which controls the drive unit and the monitor/lithography unit. The control unit is configured to change a relative position between the probe and the substrate, and form a first pattern in an area direct above a second pattern after detecting the first pattern in the substrate by the probe.

摘要翻译： 根据一个实施例，图案形成装置包括设置在基板的下表面下方的台，设置在基板的上表面上方的探针，驱动台和探针中的至少一个的驱动单元，监视器/ 连接到探针的光刻单元，以及控制驱动单元和监视器/光刻单元的控制单元。 控制单元被配置为改变探针和衬底之间的相对位置，并且在通过探针检测到衬底中的第一图案之后，在直接在第二图案之上的区域中形成第一图案。

公开(公告)号：US08180472B2

公开(公告)日：2012-05-15

申请号：US12497349

申请日：2009-07-02

申请人： Masayuki Hatano ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Masayuki Hatano ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/31265 ,  G05B2219/32196 ,  Y02P90/22

摘要： A control method for a semiconductor manufacturing apparatus, comprising: generating, as log data, a history of operation states of the semiconductor manufacturing apparatus when a wafer is processed by the semiconductor manufacturing apparatus; specifying, based on the log data, processing results in which operation states of the semiconductor manufacturing apparatus are abnormal states out of processing results after the processing of the wafer processed by the semiconductor manufacturing apparatus as abnormal processing results; creating control data for the semiconductor manufacturing apparatus based on the processing results and the abnormal processing results; and controlling the processing by the semiconductor manufacturing apparatus using the control data.

摘要翻译： 一种半导体制造装置的控制方法，包括：当半导体制造装置处理晶片时，产生作为对数数据的半导体制造装置的工作状态的历史; 基于对数数据，指定在由半导体制造装置处理的晶片处理之后的处理结果中作为异常处理结果的半导体制造装置的操作状态为异常状态的处理结果; 基于处理结果和异常处理结果创建半导体制造装置的控制数据; 以及使用控制数据来控制半导体制造装置的处理。

公开(公告)号：US08118585B2

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：US12882944

申请日：2010-09-15

申请人： Masayuki Hatano ,  Suigen Kyoh ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Masayuki Hatano ,  Suigen Kyoh ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： A01J21/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00

摘要： In one embodiment, a pattern formation method is disclosed. The method can place a liquid resin material on a workpiece substrate. The method can press a template against the resin material and measuring distance between a lower surface of a projection of the template and an upper surface of the workpiece substrate. The template includes a pattern formation region and a circumferential region around the pattern formation region. A pattern for circuit pattern formation is formed in the pattern formation region and the projection is formed in the circumferential region. The method can form a resin pattern by curing the resin material in a state of pressing the template. In addition, the method can separate the template from the resin pattern.

摘要翻译： 在一个实施例中，公开了图案形成方法。 该方法可以将液态树脂材料放置在工件基板上。 该方法可以将模板压靠树脂材料并测量模板的突起的下表面与工件基板的上表面之间的距离。 模板包括图案形成区域和围绕图案形成区域的周边区域。 在图案形成区域中形成用于电路图案形成的图案，并且在周向区域中形成突起。 该方法可以通过在压制模板的状态下固化树脂材料来形成树脂图案。 此外，该方法可以将模板与树脂图案分离。

公开(公告)号：US07202488B2

公开(公告)日：2007-04-10

申请号：US10948555

申请日：2004-09-24

申请人： Takumi Ota ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Takumi Ota ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： H01J37/302 ,  H01J37/30 ,  G03C5/00

CPC分类号： H01J37/304 ,  H01J37/153 ,  H01J2237/31754

摘要： A method of correcting deflection distortion includes dividing a deflection area to which a charged-particle beam is deflected into equal initial blocks as an initial setting, calculating an initial aberration amount for each of the initial blocks generated when the charged-particle beam is deflected, dividing the deflection area into main blocks in accordance with a change rate of the initial aberration amount; calculating a main aberration amount for each of the main blocks generated when the charged-particle beam is deflected, and calculating a correction value correcting a deflection distortion based on the main aberration amount.

摘要翻译： 校正偏转失真的方法包括将带电粒子束被偏转的偏转区域划分为相等的初始块作为初始设置，计算当带电粒子束偏转时产生的每个初始块的初始像差量， 根据初始像差量的变化率将偏转区域分成主块; 计算当带电粒子束偏转时产生的每个主要块的主像差量，并且计算校正基于主像差量的偏转失真的校正值。