公开(公告)号：US20110076843A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12566853

申请日：2009-09-25

申请人： I-Hsiung Huang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Jen Lee ,  Heng-Hsin Liu

发明人： I-Hsiung Huang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Heng-Jen Lee ,  Heng-Hsin Liu

IPC分类号： H01L21/28 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L21/823871 ,  G03F7/091 ,  G03F7/093 ,  G03F7/11 ,  Y10S438/942

摘要： A method for fabricating an integrated circuit device is disclosed. The method is a lithography patterning method that can include providing a substrate; forming a protective layer over the substrate; forming a conductive layer over the protective layer; forming a resist layer over the conductive layer; and exposing and developing the resist layer.

摘要翻译： 公开了一种用于制造集成电路器件的方法。 该方法是可以包括提供衬底的光刻图案化方法; 在衬底上形成保护层; 在保护层上形成导电层; 在导电层上形成抗蚀剂层; 并且曝光和显影抗蚀剂层。

公开(公告)号：US20110024924A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：US12511638

申请日：2009-07-29

申请人： Chi-Yuan Shih ,  Sophia Wang ,  Heng-Hsin Liu ,  Heng-Jen Lee

发明人： Chi-Yuan Shih ,  Sophia Wang ,  Heng-Hsin Liu ,  Heng-Jen Lee

IPC分类号： H01L23/544 ,  H01L21/66

CPC分类号： G03F9/7049 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7084

摘要： The present disclosure provides an integrated circuit. The integrated circuit includes a semiconductor substrate; a plurality of material layers formed on the semiconductor substrate, each of the material layers including a circuit pattern therein; and a plurality of diffraction-based periodic marks formed in the plurality of material layers and stacked in a same region. One of the diffraction-based periodic marks is different from at least one other of the diffraction-based periodic marks in pitch.

摘要翻译： 本发明提供集成电路。 集成电路包括半导体衬底; 形成在所述半导体基板上的多个材料层，每个所述材料层包括其中的电路图案; 以及形成在多个材料层中并堆叠在相同区域中的多个衍射基周期标记。 基于衍射的周期标记中的一个不同于间距中基于衍射的周期性标记中的至少另一个。

公开(公告)号：US20090258159A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：US12100822

申请日：2008-04-10

申请人： Yih-Chen Su ,  Ting-Hao Hsu ,  Sheng-Chi Chin ,  Heng-Jen Lee ,  Hung Chang Hsieh ,  Yao-Ching Ku

发明人： Yih-Chen Su ,  Ting-Hao Hsu ,  Sheng-Chi Chin ,  Heng-Jen Lee ,  Hung Chang Hsieh ,  Yao-Ching Ku

IPC分类号： B08B6/00 ,  B05D3/06

CPC分类号： G03F1/82

摘要： A method includes forming an absorption material layer on a mask; applying a plasma treatment to the mask to reduce chemical contaminants after the forming of the absorption material layer; performing a chemical cleaning process of the mask; and performing a gas injection to the mask.

摘要翻译： 一种方法包括在掩模上形成吸收材料层; 对掩模施加等离子体处理以在形成吸收材料层之后减少化学污染物; 进行面罩的化学清洗处理; 并对所述面罩进行气体注入。

公开(公告)号：US20090206057A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12031501

申请日：2008-02-14

申请人： I-Hsiung Huang ,  Chi-Lun Lu ,  Heng-Jen Lee ,  Sheng-Chi Chin ,  Yao-Ching Ku

发明人： I-Hsiung Huang ,  Chi-Lun Lu ,  Heng-Jen Lee ,  Sheng-Chi Chin ,  Yao-Ching Ku

IPC分类号： C23F1/08

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F1/36 ,  G03F1/80 ,  H01J37/32422 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67236

摘要： A method and system for fabricating a substrate is disclosed. First, a plurality of process chambers are provided, at least one of the plurality of process chambers adapted to receive at least one plasma filtering plate and at least one of the plurality of process chambers containing a plasma filtering plate library. A plasma filtering plate is selected and removed from the plasma filtering plate library. Then, the plasma filtering plate is inserted into at least one of the plurality of process chambers adapted to receive at least one plasma filtering plate. Subsequently, an etching process is performed in the substrate.

摘要翻译： 公开了一种用于制造衬底的方法和系统。 首先，提供多个处理室，多个处理室中的至少一个适于接收至少一个等离子体过滤板和多个处理室中的至少一个包含等离子体过滤板库。 从等离子体过滤板文库中选择并除去等离子体过滤板。 然后，将等离子体过滤板插入适于接收至少一个等离子体过滤板的多个处理室中的至少一个。 随后，在衬底中进行蚀刻处理。

公开(公告)号：US20070264594A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：US11746202

申请日：2007-05-09

申请人： Ching-Yu Chang ,  Heng-Jen Lee ,  Chin-Hsiang Lin ,  Hua-Tai Lin ,  Kuei Shun Chen ,  Bang-Chein Ho ,  Li-Kong Turn ,  Hung-Jui Kuo ,  Ko-Bin Kao ,  Tsung-Chih Chien

发明人： Ching-Yu Chang ,  Heng-Jen Lee ,  Chin-Hsiang Lin ,  Hua-Tai Lin ,  Kuei Shun Chen ,  Bang-Chein Ho ,  Li-Kong Turn ,  Hung-Jui Kuo ,  Ko-Bin Kao ,  Tsung-Chih Chien

IPC分类号： G03F7/40

CPC分类号： G03F7/40

摘要： A method of inhibiting photoresist pattern collapse which includes the steps of providing a substrate; providing a photoresist layer on the substrate; exposing and developing the photoresist layer; applying a top anti-reflective coating layer to the photoresist layer; rinsing the photoresist layer; and drying the photoresist layer.

摘要翻译： 一种抑制光致抗蚀剂图案塌陷的方法，包括提供基底的步骤; 在衬底上提供光致抗蚀剂层; 曝光和显影光致抗蚀剂层; 将顶部抗反射涂层施加到光致抗蚀剂层上; 冲洗光刻胶层; 并干燥光刻胶层。