公开(公告)号：US08691494B2

公开(公告)日：2014-04-08

申请号：US13456705

申请日：2012-04-26

申请人： Tomohiro Kobayashi ,  Jun Hatakeyama ,  Takeshi Nagata

发明人： Tomohiro Kobayashi ,  Jun Hatakeyama ,  Takeshi Nagata

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0397

摘要： A negative pattern is formed by applying a resist composition onto a substrate, baking, exposing to high-energy radiation, baking (PEB), and developing the exposed resist film in an organic solvent developer to selectively dissolve the unexposed region of resist film. The resist composition comprising a hydrogenated ROMP polymer and a (meth)acrylate resin displays a high dissolution contrast in organic solvent development, and exhibits high dry etch resistance even when the acid labile group is deprotected through exposure and PEB.

摘要翻译： 通过将抗蚀剂组合物涂布在基材上，烘烤，暴露于高能量辐射，烘烤（PEB）和在有机溶剂显影剂中曝光的抗蚀剂膜显影以选择性地溶解抗蚀剂膜的未曝光区域，形成负图案。 包含氢化ROMP聚合物和（甲基）丙烯酸酯树脂的抗蚀剂组合物在有机溶剂显影中表现出高的溶解对比度，并且即使当酸不稳定基团通过曝光和PEB脱保护时也显示出高的耐干蚀刻性。

公开(公告)号：US08426110B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US13362445

申请日：2012-01-31

申请人： Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Katsuya Takemura ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Katsuya Takemura ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/608

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07J9/005 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

摘要： A chemically amplified positive resist composition comprises an acid-decomposable keto ester compound of steroid skeleton which is insoluble in alkaline developer, but turns soluble in alkaline developer under the action of acid. The composition is exposed to EB, deep-UV or EUV and developed to form a pattern with a high resolution and improved LER.

摘要翻译： 化学放大阳性抗蚀剂组合物包含不溶于碱性显影剂的类固醇骨架的酸可分解的酮酯化合物，但在酸的作用下可溶于碱性显影剂。 将组合物暴露于EB，深UV或EUV并开发以形成具有高分辨率和改进的LER的图案。

公开(公告)号：US20120183904A1

公开(公告)日：2012-07-19

申请号：US13349754

申请日：2012-01-13

申请人： Masayoshi Sagehashi ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Masayoshi Sagehashi ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  C07D211/44 ,  C08F226/06

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D211/44 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30

摘要： A chemically amplified positive resist composition of better performance can be formulated using a polymer having a quencher incorporated therein, specifically a polymer comprising recurring units having a carbamate structure which is decomposed with an acid to generate an amino group and optionally recurring units having an acid labile group capable of generating a carboxyl and/or hydroxyl group under the action of an acid. The polymer is highly effective for suppressing diffusion of acid and diffuses little itself, and the composition forms a pattern of rectangular profile at a high resolution.

摘要翻译： 具有更好性能的化学放大型正性抗蚀剂组合物可以使用其中掺入猝灭剂的聚合物，特别是包含具有氨基甲酸酯结构的重复单元的聚合物来配制，该聚合单元用酸分解以产生氨基，以及任选的具有酸不稳定性的重复单元 能够在酸的作用下产生羧基和/或羟基的基团。 该聚合物对于抑制酸的扩散非常有效，并且自身扩散，并且组合物以高分辨率形成矩形轮廓的图案。

公开(公告)号：US08057981B2

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：US12371347

申请日：2009-02-13

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A polymer obtained through copolymerization of a monomer having a hexafluoroalcohol pendant and a monomer having a hexafluoroalcohol pendant whose hydroxyl moiety has been protected is useful as an additive to a photoresist composition and as a protective coating material for immersion lithography. When processed by immersion lithography, the resist composition and protective coating composition exhibit good water repellency and water slip and produce few development defects.

摘要翻译： 通过具有六氟醇侧基的单体和具有羟基部分被保护的六氟醇侧基的单体共聚得到的聚合物可用作光致抗蚀剂组合物的添加剂和浸渍光刻用保护涂料。 当通过浸渍光刻处理时，抗蚀剂组合物和保护涂层组合物表现出良好的防水性和水滑动性，并且产生很少的显影缺陷。

公开(公告)号：US20090208867A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12371347

申请日：2009-02-13

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A polymer obtained through copolymerization of a monomer having a hexafluoroalcohol pendant and a monomer having a hexafluoroalcohol pendant whose hydroxyl moiety has been protected is useful as an additive to a photoresist composition and as a protective coating material for immersion lithography. When processed by immersion lithography, the resist composition and protective coating composition exhibit good water repellency and water slip and produce few development defects.

摘要翻译： 通过具有六氟醇侧基的单体和具有羟基部分被保护的六氟醇侧基的单体共聚得到的聚合物可用作光致抗蚀剂组合物的添加剂和浸渍光刻用保护涂料。 当通过浸渍光刻处理时，抗蚀剂组合物和保护性涂料组合物表现出良好的拒水性和水滑动性，并且产生很少的显影缺陷。

公开(公告)号：US06749988B2

公开(公告)日：2004-06-15

申请号：US09994808

申请日：2001-11-28

申请人： Jun Hatakeyama ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Nagata

发明人： Jun Hatakeyama ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Nagata

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382

摘要： Novel amine compounds having a nitrogen-containing cyclic structure and a hydrating group such as a hydroxy, ether, ester, carbonyl, carbonate group or lactone ring are useful for use in resist compositions for preventing a resist film from thinning and also for enhancing the resolution and focus margin of resist.

摘要翻译： 具有含氮环状结构和羟基，醚，酯，羰基，碳酸酯基或内酯环的水合基团的新型胺化合物可用于防止抗蚀剂膜变薄的抗蚀剂组合物中，并且还用于提高分辨率 和抗焦点的边缘。

公开(公告)号：US20090208873A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12371455

申请日：2009-02-13

申请人： Yuji HARADA ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji HARADA ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F118/02 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer obtained through copolymerization of a monomer having a hexafluoroalcohol pendant whose hydroxyl moiety has been protected and a monomer having an acid labile group is useful as an additive to a photoresist composition for immersion lithography. When processed by immersion lithography, the resist composition exhibits good water repellency and water slip and produces few development defects.

摘要翻译： 通过使具有羟基部分被保护的六氟醇侧基的单体和具有酸不稳定基团的单体的共聚合得到的聚合物可用作浸渍光刻用光致抗蚀剂组合物的添加剂。 当通过浸渍光刻处理时，抗蚀剂组合物表现出良好的拒水性和水滑动，并且产生很少的显影缺陷。

公开(公告)号：US06743564B2

公开(公告)日：2004-06-01

申请号：US10003288

申请日：2001-12-06

申请人： Jun Hatakeyama ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeru Watanabe

发明人： Jun Hatakeyama ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： C07D295/15 ,  C07C255/14 ,  C07C255/24 ,  C07D307/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115

摘要： Amine compounds having a cyano group are useful in resist compositions for preventing a resist film from thinning and also for enhancing the resolution and focus margin of resist.

摘要翻译： 具有氰基的胺化合物可用于防止抗蚀剂膜变薄的抗蚀剂组合物中，并且还用于提高抗蚀剂的分辨率和聚焦余量。

公开(公告)号：US20070148594A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11645751

申请日：2006-12-27

申请人： Kenji Funatsu ,  Tomohiro Kobayashi ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi

发明人： Kenji Funatsu ,  Tomohiro Kobayashi ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer is provided comprising recurring units having formulas (1), (2), (3), (4), (5), and (6) in amounts of 1-60 mol % (1), 1-60 mol % (2), 1-50 mol % (3), 0-60 mol % (4), 0-30 mol % (5), and 0-30 mol % (6), and having a Mw of 3,000-30,000 and a Mw/Mn of 1.5-2.5. R1, R3, R4, R7, R9, and R11 are H or CH3, Y is methylene or O, R2 is CO2R10 when Y is methylene and R2 is H or CO2R10 when Y is O, R10 is C1-C15 alkyl which may be separated by O, R5 and R6 are H or OH, R8 is a tertiary ester type acid-labile protective group, and R12 is OH-containing fluoroalkyl. A resist composition comprising the polymer has a high resolution and is improved in line edge roughness and I/G bias.

摘要翻译： 提供的聚合物包含具有式（1），（2），（3），（4），（5）和（6）的重复单元，其含量为1-60mol％（1），1-60mol％ （2），1-50mol％（3），0-60mol％（4），0-30mol％（5）和0-30mol％（6），Mw为3,000〜 Mw / Mn为1.5-2.5。 R 1，R 3，R 4，R 7，R 9， 和R 11是H或CH 3，Y是亚甲基或O，R 2是CO 2 R 2， 当Y为O时，当Y为亚甲基且R 2为H或CO 2 R 10时，SUP> 10 > 10是C 1 -C 15烷基，其可以被O，R 5和R 6分开， / SUP>是H或OH，R 8是叔酯型酸不稳定保护基，R 12是含OH的氟代烷基。 包含聚合物的抗蚀剂组合物具有高分辨率并且在线边缘粗糙度和I / G偏压方面得到改善。

公开(公告)号：US08835094B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US13235719

申请日：2011-09-19

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F18/20 ,  C08F22/18 ,  C08F220/22 ,  G03F7/20 ,  C07C69/675 ,  C08F220/30 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24

CPC分类号： C07C69/675 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： Fluoroalcohol compounds of formula (1) are useful in producing polymers which are used as the base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and improved development characteristics. R1 is hydrogen or a monovalent C1-C20 hydrocarbon group in which any constituent —CH2— moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, Aa is a (k1+1)-valent C1-C20 hydrocarbon or fluorinated hydrocarbon group, and k1 is 1, 2 or 3.

摘要翻译： 式（1）的氟醇化合物可用于制备用作基础树脂的聚合物，以配制具有高达500nm波长的辐射透明度和改进的显影特性的对透射性的辐射敏感性抗蚀剂组合物。 R1是氢或一价C1-C20烃基，其中任何组成的-CH 2 - 部分可以被-O-或-C（= O） - 代替，A a是（k1 + 1）价的C1-C20烃或 氟化烃基，k1为1,2或3。