公开(公告)号：US20120301829A1

公开(公告)日：2012-11-29

申请号：US13478390

申请日：2012-05-23

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi

IPC分类号： C07D497/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325

摘要： A resist composition comprising a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) comprising an acid generator (B1) composed of a compound represented by general formula (b1-1) shown below [wherein, X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, provided that a ring skelton of the cyclic group contains an —SO2— bond or an —O—SO2— bond, and at least one carbon atom which is not adjacent to the —SO2— bond or the —O—SO2— bond has an oxygen atom as a substituent; Q1 represents a divalent linking group or a single bond; Y1 represents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; and A+ represents an organic cation]. [Chemical Formula 1] X-Q1-Y1—SO3⊖A⊕  (b1-1)

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在显影液中显示改变的溶解度的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂组分（B），所述酸产生剂组分（B）包含酸产生剂 B1），其由下述通式（b1-1）表示的化合物[其中，X表示可以具有取代基的3〜30个碳原子的环状基团，条件是环状基团的环状骨架包含-SO 2 - 键或-O-SO2-键，并且与-SO 2 - 键或-O-SO 2 - 键不相邻的至少一个碳原子具有氧原子作为取代基; Q1表示二价连接基团或单键; Y1表示可以具有取代基的亚烷基或可以具有取代基的氟化亚烷基; A +表示有机阳离子]。 [化学式1] X-Q1-Y1-SO3⊖A⊕（b1-1）

公开(公告)号：US08252509B2

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：US12861474

申请日：2010-08-23

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Hiroaki Shimizu ,  Naoto Motoike

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Hiroaki Shimizu ,  Naoto Motoike

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： C08F20/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base material component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and an nitrogen-containing organic compound (D), wherein the nitrogen-containing organic compound (D) includes a compound represented by general formula (d1) shown below: wherein R20 represents a methylene group, an ethylene group, an oxygen atom or —C(CH3)2—; R21 represents a hydrogen atom or an organic group; and R22 represents an alkoxy group, an alkoxycarbonyloxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, —C(═O)—O—R23, —C(═O)—NH—R23 or a carboxyl group, wherein R23 represents a linear or branched alkyl group of 1 to 15 carbon atoms, an unsaturated hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group, or an aromatic hydrocarbon group, and a represents an integer of 0 to 2.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱显影液中溶解度变化的基材成分（A），曝光时产生酸的酸产生剂成分（B）和含氮有机化合物（D）， 其中所述含氮有机化合物（D）包括由下述通式（d1）表示的化合物：其中R 20表示亚甲基，亚乙基，氧原子或-C（CH 3）2 - ; R 21表示氢原子或有机基团; R 22表示烷氧基，烷氧基羰基氧基，羟基，卤素原子，-C（= O）-O-R 23，-C（= O）-NH-R 23或羧基，其中R 23表示直链状 或具有1至15个碳原子的支链烷基，不饱和烃基，脂族环基或芳族烃基，并且表示0至2的整数。

公开(公告)号：US08247160B2

公开(公告)日：2012-08-21

申请号：US12501981

申请日：2009-07-13

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C07C309/65

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, and an acid generator consisting of a compound represented by general formula (b1). In formula (b1), Y1 represents a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms, X represents an aliphatic cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, R11′ to R13′ each represents an aryl group or alkyl group, provided that at least one of R11′ to R13′ is an aryl group having a substituent represented by general formula (b1-0), and two alkyl groups among R11′ to R13′ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom in the formula. In formula (b1-0), R52 represents a chain-like or cyclic hydrocarbon group, and f and g each represents 0 or 1.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分和由通式（b1）表示的化合物组成的酸发生剂。 在式（b1）中，Y1表示1〜4个碳原子的氟化亚烷基，X表示3〜30个碳原子的脂肪族环状基团，R 11'〜R 13'表示芳基或烷基， R11'〜R13'中的一个为具有通式（b1-0）所示取代基的芳基，R11'至R13'中的两个烷基可以彼此键合形成环中的硫原子 式。 在式（b1-0）中，R 52表示链状或环状烃基，f和g各自表示0或1。

公开(公告)号：US08227169B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12450060

申请日：2008-04-04

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehito Seo ,  Hideo Hada ,  Kotaro Endo ,  Daisuke Kawana ,  Yasuhiro Yoshii ,  Tsuyoshi Kurosawa

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehito Seo ,  Hideo Hada ,  Kotaro Endo ,  Daisuke Kawana ,  Yasuhiro Yoshii ,  Tsuyoshi Kurosawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C309/06

CPC分类号： C07D333/76 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D209/86 ,  C07D295/104 ,  C07D307/20 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： There are provided a compound preferable as an acid generator for a resist composition, an acid generator including the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method of forming a resist pattern using the resist composition, and the compound is represented by general formula (b1-12) shown below: R2—CH2—O—Y1—SO3−A+  (b1-12) wherein R2 represents a monovalent aromatic organic group; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms which may be fluorinated; and A+ represents a cation.

摘要翻译： 提供优选作为抗蚀剂组合物的酸发生剂的化合物，包含该化合物的酸产生剂，含有酸产生剂的抗蚀剂组合物，以及使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法，该化合物由通式 式（b1-12）表示：R2-CH2-O-Y1-SO3-A +（b1-12）其中R2表示一价芳族有机基团; Y1表示可被氟化的1〜4个碳原子的亚烷基; 而A +代表阳离子。

公开(公告)号：US08211616B2

公开(公告)日：2012-07-03

申请号：US12500528

申请日：2009-07-09

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition including a resin component (A) having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) (R represents a hydrogen atom, a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 halogenated alkyl group; R1 represents a C3 or more branched alkyl group; and each of R2 and R3 independently represents an alkyl group, wherein R2 and R3 may be mutually bonded to form a polycyclic group) and/or general formula (a0-2) (R is the same as defined above; R8 represents a divalent linking group that contains no halogen atom; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group), and an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1) (Y1 represents a C1-C4 fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a C3-C30 aliphatic cyclic group which may have a substituent; and A+ represents an organic cation).

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的树脂组分（A）（R表示氢原子，C1-C5烷基或C1-C5卤代烷基; R1 表示C3或更多支链烷基; R2和R3各自独立地表示烷基，其中R2和R3可以相互键合形成多环基）和/或通式（a0-2）（R相同） R8表示不含卤原子的二价连接基团，R7表示酸解离性溶解抑制基团）和由通式（b1）表示的化合物（Y1）表示的酸产生剂（B1） 可以具有取代基的C1-C4氟化亚烷基; X表示可具有取代基的C 3 -C 30脂族环基; A +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US08124313B2

公开(公告)日：2012-02-28

申请号：US12692513

申请日：2010-01-22

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Hideo Hada ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Hideo Hada ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D327/02

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D497/08 ,  C08K5/36 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A compound represented by general formula (I); and a compound represented by general formula (b1-1). wherein Q1 represents a divalent linkage group or a single bond; Y1 represents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and has an —SO2— bond in the structure thereof; M+ represents an alkali metal ion; and A+ represents an organic cation.

摘要翻译： 由通式（I）表示的化合物; 和由通式（b1-1）表示的化合物。 其中Q1表示二价连接基团或单键; Y1表示可以具有取代基的亚烷基或可以具有取代基的氟化亚烷基; X表示可以具有取代基的3〜30个碳原子的环状基团，其结构中具有-SO 2 - 键; M +表示碱金属离子; 而A +代表有机阳离子。

公开(公告)号：US20120015299A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13179864

申请日：2011-07-11

申请人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi

发明人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07D313/06 ,  G03F7/30

CPC分类号： C07D313/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) represented by general formula (b1-1) [in the formula, Y0 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group, R0 represents an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxy group or an oxygen atom (═O); p represents 0 or 1; and Z+ represents an organic cation.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （b1）表示的化合物（b1）[式中，Y0表示碳原子数为1〜4的亚烷基或氟化亚烷基，R0表示烷基，烷氧基，卤素原子，卤代 烷基，羟基或氧原子（= O）; p表示0或1; Z +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US20110165512A1

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：US12940793

申请日：2010-11-05

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Makiko Irie

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Makiko Irie

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, an acid-generator component (B) that generates acid upon exposure, and a nitrogen-containing organic compound (D), wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b0), and the nitrogen-containing organic compound (D) includes a compound represented by general formula (d1) or general formula (d2) [wherein each of R1 and R2 represents an aryl group which may have a substituent, or an alkyl group which may have a substituent, Rf represents a fluorinated alkyl group which may have a substituent, X− represents a counter anion, each of R3 and R4 represents an aliphatic hydrocarbon group, R5 represents a hydrocarbon group having 5 or more carbon atoms, and each of R6 and R7 independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or —C(═O)—O—R5].

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱显影液中溶解度变化的碱成分（A），曝光时产生酸的酸发生剂成分（B）和含氮有机化合物（D）， 其中，所述酸产生剂成分（B）含有由通式（b0）表示的化合物构成的酸发生剂（B1），所述含氮有机化合物（D）含有通式（d1）表示的化合物或通式 （d2）[其中R 1和R 2各自表示可以具有取代基的芳基或可以具有取代基的烷基，Rf表示可以具有取代基的氟化烷基，X表示抗衡阴离子， R 3和R 4表示脂肪族烃基，R 5表示碳原子数5以上的烃基，R 6和R 7各自独立地表示氢原子，可以具有取代基的脂肪族烃基 或-C（= O）-O-R 5]。

公开(公告)号：US20100273106A1

公开(公告)日：2010-10-28

申请号：US12762715

申请日：2010-04-19

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Jun Iwashita

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Jun Iwashita

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F24/00 ,  C07D317/46

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D317/54 ,  C08F12/22 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) having a structural unit (a0) containing an acid-dissociable, dissolution-inhibiting group, and the acid-dissociable, dissolution-inhibiting group has a 1,3-dioxole skeleton.

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱显影液中显示出增加的溶解性的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂成分（B），其中，所述碱成分（A）含有高分子化合物 （A1）具有含有酸解离性，溶解抑制基团的结构单元（a0），酸解离性溶解抑制基团具有1,3-二氧杂环戊二烯骨架。

公开(公告)号：US20100136478A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：US12591639

申请日：2009-11-25

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07D327/04 ,  C07D333/50

CPC分类号： C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1），其含有具有由通式（I）表示的阳离子部分的化合物（式中，R5表示具有羰基，酯键或磺酰基的有机基团，Q表示二价连接基团）。