公开(公告)号：US20120148956A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13313990

申请日：2011-12-07

申请人： Yoshiyuki UTSUMI ,  Masaru TAKESHITA ,  Hiroaki SHIMIZU ,  Syo ABE ,  Yoshitaka Komuro

发明人： Yoshiyuki UTSUMI ,  Masaru TAKESHITA ,  Hiroaki SHIMIZU ,  Syo ABE ,  Yoshitaka Komuro

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, a nitrogen-containing organic compound (C) containing a compound (C1) represented by general formula (c1) shown below and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure (excluding the compound (C1)) (R1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M+ represents an organic cation).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸作用下在显影液中溶解度变化的碱成分（A），含有下述通式（c1）表示的化合物（C1）的含氮有机化合物（C）和酸 发生器组分（B）（不包括化合物（C1））（R1表示可具有取代基的碳原子数为5以上的脂环族基团）; X表示二价连接基团; Y表示直链状，支链状的 或环状亚烷基或亚芳基; Rf表示含氟原子的烃基，M +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US09005874B2

公开(公告)日：2015-04-14

申请号：US13449727

申请日：2012-04-18

申请人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Masatoshi Arai

发明人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Masatoshi Arai

IPC分类号： G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  C07C69/533 ,  C08F220/18 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C311/09 ,  C07C311/48 ,  C07D307/93 ,  C07D493/18 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C311/09 ,  C07C311/48 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/93 ,  C07D493/18 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S522/904

摘要： There are provided a novel compound, a polymeric compound, a resist composition, an acid generator and a method of forming a resist pattern the compound represented by general formula (1-1): wherein each of R1 and R3 independently represents a single bond or a divalent linking group; A represents a divalent linking group; each of R2 and R4 independently represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a group represented by general formula (1-an1), (1-an2) or (1-an3), provided that at least one of R2 and R4 represents a group represented by general formula (1-an1), (1-an2) or (1-an3); and n0 is preferably 0 or 1, and wherein Y1 represents a single bond or —SO2—; R5 represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, cyclic monovalent hydrocarbon group of 3 to 20 carbon atoms or monovalent hydrocarbon group of 3 to 20 carbon atoms having a cyclic partial structure which may be substituted with a fluorine atom; and M+ represents an organic cation or a metal cation,

摘要翻译： 提供了一种新型化合物，高分子化合物，抗蚀剂组合物，酸产生剂和由通式（1-1）表示的化合物形成抗蚀剂图案的方法：其中R 1和R 3各自独立地表示单键或 二价连接基团; A表示二价连接基团; R2和R4各自独立地表示羟基，可以具有取代基的烃基或由通式（1-an1），（1-an2）或（1-an3）表示的基团），条件是至少一个 R 2和R 4表示由通式（1-an1），（1-an2）或（1-an3）表示的基团。 n0优选为0或1，并且其中Y1表示单键或-SO2-; R5表示1〜10个碳原子的直链或支链一价烃基，3〜20个碳原子的环状一价烃基或具有可被氟原子取代的环状部分结构的3〜20个碳原子的一价烃基; M +表示有机阳离子或金属阳离子，

公开(公告)号：US20120015299A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13179864

申请日：2011-07-11

申请人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi

发明人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07D313/06 ,  G03F7/30

CPC分类号： C07D313/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) represented by general formula (b1-1) [in the formula, Y0 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group, R0 represents an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxy group or an oxygen atom (═O); p represents 0 or 1; and Z+ represents an organic cation.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （b1）表示的化合物（b1）[式中，Y0表示碳原子数为1〜4的亚烷基或氟化亚烷基，R0表示烷基，烷氧基，卤素原子，卤代 烷基，羟基或氧原子（= O）; p表示0或1; Z +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US08614049B2

公开(公告)日：2013-12-24

申请号：US13313990

申请日：2011-12-07

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Masaru Takeshita ,  Hiroaki Shimizu ,  Syo Abe ,  Yoshitaka Komuro

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Masaru Takeshita ,  Hiroaki Shimizu ,  Syo Abe ,  Yoshitaka Komuro

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, a nitrogen-containing organic compound (C) containing a compound (C1) represented by general formula (c1) shown below and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure (excluding the compound (C1)) (R1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M+ represents an organic cation).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸作用下在显影液中溶解度变化的碱成分（A），含有下述通式（c1）表示的化合物（C1）的含氮有机化合物（C）和酸 发生器组分（B）（不包括化合物（C1））（R1表示可具有取代基的碳原子数为5以上的脂环族基团）; X表示二价连接基团; Y表示直链状，支链状的 或环状亚烷基或亚芳基; Rf表示含氟原子的烃基，M +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US20120107744A1

公开(公告)日：2012-05-03

申请号：US13282920

申请日：2011-10-27

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Yoshitaka Komuro ,  Kenichiro Miyashita

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Yoshitaka Komuro ,  Kenichiro Miyashita

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  C07D311/02 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D307/00 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115

摘要： A resist composition containing a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) having a group represented by general formula (b1-1) shown below in the cation moiety.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸的作用下在显影液中显示出改变的溶解性的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂成分（B），其中，所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1）在阳离子部分具有下述通式（b1-1）表示的基团。

公开(公告)号：US20090162787A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12327549

申请日：2008-12-03

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Kyoko Ohshita

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Keita Ishiduka ,  Akiya Kawaue ,  Kyoko Ohshita

IPC分类号： G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  C07C309/84

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106

摘要： There are provided a compound represented by a general formula (b1-1) shown below suitable as an acid generator for a resist composition, a compound represented by a general formula (I) shown below suitable as a precursor for the compound represented by the general formula (b1-1), an acid generator, a resist composition, and a method of forming a resist pattern. [Chemical Formula 1] X-Q1-Y1—SO3−M+  (I) X-Q1-Y1—SO3−A+  (b1-1) (wherein, Q1 represents a bivalent linking group or a single bond; Y1 represents an alkylene group which may contain a substituent group or a fluorinated alkylene group which may contain a substituent group; X represents an aromatic cyclic group of 5 to 30 carbon atoms which contains a fluorine atom and may contain a substituent group; M+ represents an alkali metal ion; and A+ represents an organic cation.)

摘要翻译： 提供由下述通式（b1-1）表示的化合物，其适合作为抗蚀剂组合物的酸产生剂，由下述通式（I）表示的化合物适合作为由通式 式（b1-1），酸产生剂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。 <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> [化学式1] <？in-line-formula description =“In-line formula”end =“tail”？> ？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> X-Q1-Y1-SO3-M +（I）<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end = “tail”？> <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> X-Q1-Y1-SO3-A +（b1-1）<？in-line-formula description = “其中，Q1表示二价连接基团或单键，Y1表示可以含有取代基的亚烷基或可以含有取代基的氟化亚烷基”。 X表示含有氟原子且含有取代基的5〜30个碳原子的芳香族环状基团，M +表示碱金属离子，A +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US08497395B2

公开(公告)日：2013-07-30

申请号：US13313993

申请日：2011-12-07

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Masaru Takeshita ,  Yoshitaka Komuro

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Masaru Takeshita ,  Yoshitaka Komuro

IPC分类号： C07C211/00

CPC分类号： C07C311/09 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： A compound represented by general formula (c1) (R1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M+ represents an organic cation or a metal cation).

摘要翻译： 由通式（c1）表示的化合物（R1表示可以具有取代基的碳原子数为5以上的脂环式基团; X表示二价连接基团; Y表示直链状，支链状或环状的亚烷基或亚芳基） 表示含氟原子的烃基; M +表示有机阳离子或金属阳离子）。

公开(公告)号：US09017919B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13282920

申请日：2011-10-27

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Yoshitaka Komuro ,  Kenichiro Miyashita

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Yoshitaka Komuro ,  Kenichiro Miyashita

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D307/00 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D307/00 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115

摘要： A resist composition containing a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) having a group represented by general formula (b1-1) shown below in the cation moiety.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸的作用下在显影液中显示出改变的溶解性的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂成分（B），其中，所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1）在阳离子部分具有下述通式（b1-1）表示的基团。

公开(公告)号：US08298748B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US12781540

申请日：2010-05-17

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Takeyoshi Mimura ,  Daichi Takaki

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Yoshitaka Komuro ,  Takeyoshi Mimura ,  Daichi Takaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F228/02

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F8/34 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32

摘要： A positive resist composition including a base component (A′) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and generates acid upon exposure, the base component (A′) including a polymeric compound (A1′) having a structural unit (a5-1) represented by general formula (a5-1), a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) and a structural unit (a0-2) that generates acid upon exposure, the structural unit (a0-2) containing a group represented by general formula (a0-2′) (wherein X− represents an anion moiety represented by one of general formulas (1) to (5)).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解性并在曝光时产生酸的基础组分（A'），所述基础组分（A'）包含具有结构单元的聚合物（A1'） 由通式（a5-1）表示的（a5-1），由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）和曝光时产生酸的结构单元（a0-2），结构单元 （a0-2'）表示的基团（a0-2）（式中，X表示由通式（1）〜（5）中的一个表示的阴离子部分）。

公开(公告)号：US20120270155A1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：US13449727

申请日：2012-04-18

申请人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Masatoshi Arai

发明人： Yoshitaka Komuro ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Masatoshi Arai

IPC分类号： C07C309/23 ,  C07D327/04 ,  G03F7/20 ,  C07D493/18 ,  C08F128/02 ,  G03F7/027

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C311/09 ,  C07C311/48 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/93 ,  C07D493/18 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S522/904

摘要： There are provided a novel compound, a polymeric compound, a resist composition, an acid generator and a method of forming a resist pattern the compound represented by general formula (1-1): wherein each of R1 and R3 independently represents a single bond or a divalent linking group; A represents a divalent linking group; each of R2 and R4 independently represents a hydroxyl group, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a group represented by general formula (1-an1), (1-an2) or (1-an3), provided that at least one of R2 and R4 represents a group represented by general formula (1-an1), (1-an2) or (1-an3); and n0 is preferably 0 or 1, and wherein Y1 represents a single bond or —SO2—; R5 represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, cyclic monovalent hydrocarbon group of 3 to 20 carbon atoms or monovalent hydrocarbon group of 3 to 20 carbon atoms having a cyclic partial structure which may be substituted with a fluorine atom; and M+ represents an organic cation or a metal cation,

摘要翻译： 提供了一种新型化合物，高分子化合物，抗蚀剂组合物，酸产生剂和由通式（1-1）表示的化合物形成抗蚀剂图案的方法：其中R 1和R 3各自独立地表示单键或 二价连接基团; A表示二价连接基团; R2和R4各自独立地表示羟基，可以具有取代基的烃基或由通式（1-an1），（1-an2）或（1-an3）表示的基团），条件是至少一个 R 2和R 4表示由通式（1-an1），（1-an2）或（1-an3）表示的基团。 n0优选为0或1，并且其中Y1表示单键或-SO2-; R5表示1〜10个碳原子的直链或支链一价烃基，3〜20个碳原子的环状一价烃基或具有可被氟原子取代的环状部分结构的3〜20个碳原子的一价烃基; M +表示有机阳离子或金属阳离子，