公开(公告)号：US5468740A

公开(公告)日：1995-11-21

申请号：US386533

申请日：1995-02-10

申请人： Kazuo Okano ,  Shuhei Miyazawa ,  Richard S. J. Clark ,  Shinya Abe ,  Tetsuya Kawahara ,  Naoyuki Shimomura ,  Osamu Asano ,  Hiroyuki Yoshimura ,  Mitsuaki Miyamoto ,  Yoshimori Sakuma ,  Kenzo Muramoto ,  Hiroshi Obaishi ,  Koukichi Harada ,  Hajime Tsunoda ,  Satoshi Katayama ,  Kouji Yamada ,  Shigeru Souda ,  Yoshimasa Machida ,  Kouichi Katayama ,  Isao Yamatsu

发明人： Kazuo Okano ,  Shuhei Miyazawa ,  Richard S. J. Clark ,  Shinya Abe ,  Tetsuya Kawahara ,  Naoyuki Shimomura ,  Osamu Asano ,  Hiroyuki Yoshimura ,  Mitsuaki Miyamoto ,  Yoshimori Sakuma ,  Kenzo Muramoto ,  Hiroshi Obaishi ,  Koukichi Harada ,  Hajime Tsunoda ,  Satoshi Katayama ,  Kouji Yamada ,  Shigeru Souda ,  Yoshimasa Machida ,  Kouichi Katayama ,  Isao Yamatsu

IPC分类号： C07D495/14 ,  C07D495/22 ,  C07F9/6561 ,  A61K31/675 ,  C07F9/00

CPC分类号： C07D495/14 ,  C07F9/6561

摘要： A triazolo-1,4-di-azepine compound of the below given formula and a pharmacologically acceptable salt thereof are disclosed and useful in the pharmaceutical field, especially to allergic diseases. ##STR1## in which R.sup.1 and R.sup.2 are hydrogen or an alkyl, R.sup.3 is hydrogen or a halogen, R.sup.4 is hydrogen or an alkyl, X is --OCO--, --NHCO--, --CO-- or others and Y is a cycloalkyl, a cycloalkylalkyl, an alkynyl or others.

摘要翻译： 公开了以下给定式的三唑并-1,4-二氮杂化合物及其药理学上可接受的盐，尤其适用于过敏性疾病。 其中R 1和R 2是氢或烷基，R 3是氢或卤素，R 4是氢或烷基，X是-OCO - ， - NHCO-，-CO-或其它，Y是环烷基， 环烷基烷基，炔基等。

公开(公告)号：US5393636A

公开(公告)日：1995-02-28

申请号：US255895

申请日：1994-06-07

申请人： Jun Sugita ,  Kazushige Morita ,  Satoshi Katayama ,  Hiroshi Sugimura ,  Satoshi Nishigaki ,  Kazuhiro Emoto

发明人： Jun Sugita ,  Kazushige Morita ,  Satoshi Katayama ,  Hiroshi Sugimura ,  Satoshi Nishigaki ,  Kazuhiro Emoto

IPC分类号： G03G9/087 ,  G03G9/08

CPC分类号： G03G9/0806 ,  G03G9/08711

摘要： The present invention provides a process for producing a practical toner for the development of an electrostatic image which has an effect of preventing an offset phenomenon and has low-temperature fixing properties. The process for producing a toner of the present invention comprises the steps of dissolving a high-molecular polymer in a vinyl monomer, mixing the resultant solution with another toner material, and then carrying out suspension polymerization. Preferable examples of the high-molecular polymer include a polymer having a structure unit represented by the formula ##STR1## wherein R.sup.1 is hydrogen or a methyl group, and R.sup.2 is a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,and a polymer having a structure unit represented by the formula ##STR2## wherein R.sup.3 is hydrogen or a methyl group, and X is hydrogen, a methyl group, a halogen atom or a methoxy group.

摘要翻译： 本发明提供一种用于制造用于显影静电图像的实际调色剂的方法，其具有防止胶印现象并具有低温定影性能的效果。 制造本发明的调色剂的方法包括将高分子聚合物溶解在乙烯基单体中，将所得溶液与另一种调色剂材料混合，然后进行悬浮聚合的步骤。 高分子聚合物的优选实例包括具有由式（1）表示的结构单元的聚合物，其中R 1是氢或甲基，R 2是具有1至20个碳的直链或支链烷基 原子和具有由式（2）表示的结构单元的聚合物，其中R 3是氢或甲基，X是氢，甲基，卤素原子或甲氧基。

公开(公告)号：US5372677A

公开(公告)日：1994-12-13

申请号：US991420

申请日：1992-12-16

申请人： Satoshi Katayama ,  Kenichi Nitta ,  Katsuhiko Iimura

发明人： Satoshi Katayama ,  Kenichi Nitta ,  Katsuhiko Iimura

IPC分类号： H01L21/30 ,  G03F7/00 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/31144 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274

摘要： After a silicon nitride film (2) is etched by using a first resist pattern (3A) as a mask before coating a second resist (4) superposing on the first resist pattern (3A), a surface layer portion of the first resist pattern (3A) is subjected to a plasma treatment by using oxygen (O.sub.2). A properties changed layer in the surface layer portion of the first resist pattern (3A) is removed or modified to improve the adhesion between the second resist (4) and the first resist pattern (3A), and the stripping of the second resist (4) is prevented.

摘要翻译： 在涂覆叠加在第一抗蚀剂图案（3A）上的第二抗蚀剂（4）之前，通过使用第一抗蚀剂图案（3A）作为掩模蚀刻氮化硅膜（2）之后，将第一抗蚀剂图案的表面层部分 3A）通过使用氧（O 2）进行等离子体处理。 第一抗蚀剂图案（3A）的表层部分中的性质改变层被去除或改性，以改善第二抗蚀剂（4）和第一抗蚀剂图案（3A）之间的粘附性，并且第二抗蚀剂（4）的剥离 ）被阻止。

公开(公告)号：US5304553A

公开(公告)日：1994-04-19

申请号：US68349

申请日：1993-05-28

申请人： Kazuo Okano ,  Shuhei Miyazawa ,  Richar S. J. Clark ,  Shinya Abe ,  Tetsuya Kawahara ,  Naoyuki Shimomura ,  Osamu Asano ,  Hiroyuki Yoshimura ,  Mitsuaki Miyamoto ,  Yoshimori Sakuma ,  Kenzo Muramoto ,  Hiroshi Obaishi ,  Koukichi Harada ,  Hajime Tsunoda ,  Satoshi Katayama ,  Kouji Yamada ,  Shigeru Souda ,  Yoshimasa Machida ,  Kouichi Katayama ,  Isao Yamatsu

发明人： Kazuo Okano ,  Shuhei Miyazawa ,  Richar S. J. Clark ,  Shinya Abe ,  Tetsuya Kawahara ,  Naoyuki Shimomura ,  Osamu Asano ,  Hiroyuki Yoshimura ,  Mitsuaki Miyamoto ,  Yoshimori Sakuma ,  Kenzo Muramoto ,  Hiroshi Obaishi ,  Koukichi Harada ,  Hajime Tsunoda ,  Satoshi Katayama ,  Kouji Yamada ,  Shigeru Souda ,  Yoshimasa Machida ,  Kouichi Katayama ,  Isao Yamatsu

IPC分类号： C07D495/14 ,  C07D495/22 ,  C07F9/6561 ,  A61K31/55

CPC分类号： C07D495/14 ,  C07F9/6561

摘要： A triazolo-1,4-di-azepine compound of the below given formula and a pharmacologically acceptable salt thereof are disclosed and useful in the pharmaceutical field, especially to allergic diseases, ##STR1## in which R.sup.1 and R.sup.2 are hydrogen or an alkyl, R.sup.3 is hydrogen or a halogen, R.sup.4 is hydrogen or an alkyl, X is --OCO--, --NHCO--, --CO-- or others and Y is a cycloalkyl, a cycloalkylalkyl, an alkynyl or others.

摘要翻译： 公开了以下给定式的三唑并-1,4-二氮杂化合物及其药理学上可接受的盐，其可用于药物领域，特别是过敏性疾病（*化学结构*），其中R 1和R 2为氢或 烷基，R 3是氢或卤素，R 4是氢或烷基，X是-OCO - ， - NHCO-，-CO-或其它，Y是环烷基，环烷基烷基，炔基或其它。

公开(公告)号：US5116706A

公开(公告)日：1992-05-26

申请号：US605160

申请日：1990-10-31

申请人： Yoshimi Kojima ,  Satoshi Katayama ,  Yoshihide Shimoda ,  Hiroshi Sugimura ,  Eiji Imada

发明人： Yoshimi Kojima ,  Satoshi Katayama ,  Yoshihide Shimoda ,  Hiroshi Sugimura ,  Eiji Imada

IPC分类号： C07D471/22 ,  C07D487/22 ,  G03G5/06

CPC分类号： C07D487/22 ,  G03G5/0659

摘要： 1,2,4,5-Benzoylenebis(naphto[1,8-de]pyrimidine) compounds of the followig formula (I) or (II): ##STR1## wherein R and R' are, the same or different, hydrogen atom, a halogen atom, hydroxyl group, nitro group, cyano group, an alkyl group which may be substituted, an alkoxyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, a carboxyl group which may be esterified or a carbamoyl group which may be substituted and m and n each are an integer from 1 to 6, and photosensitive members for electrophotography having a photosensitive layer containing them.

公开(公告)号：US4963451A

公开(公告)日：1990-10-16

申请号：US410890

申请日：1989-09-22

申请人： Satoshi Katayama ,  Yoshihide Shimoda ,  Hiroshi Sugimura ,  Eiji Imada ,  Shuhei Tsuchimoto

发明人： Satoshi Katayama ,  Yoshihide Shimoda ,  Hiroshi Sugimura ,  Eiji Imada ,  Shuhei Tsuchimoto

IPC分类号： C07D487/22 ,  C09B57/12 ,  G03G5/06

CPC分类号： C07D487/22 ,  C09B57/12 ,  G03G5/0659

摘要： 1,2,4,5-Benzoylenebis(anthraquinone[1,2-d]imidazole) compounds represented by following general formula (1) or (2) ##STR1## wherein R and R' each are hydrogen atom, a halogen atom, hydroxyl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group or an aryl group which may be substituted and m and n each are an integer of 1 or 2, and photosensitive members for electrophotography having a photosensitive layer containing them.

公开(公告)号：US4929623A

公开(公告)日：1990-05-29

申请号：US207329

申请日：1988-06-16

申请人： Shinya Abe ,  Mitsuaki Miyamoto ,  Masayuki Tanaka ,  Kozo Akasaka ,  Kenji Hayashi ,  Tetsuya Kawahara ,  Satoshi Katayama ,  Yoshinori Sakuma ,  Takeshi Suzuki ,  Isao Yamatsu

发明人： Shinya Abe ,  Mitsuaki Miyamoto ,  Masayuki Tanaka ,  Kozo Akasaka ,  Kenji Hayashi ,  Tetsuya Kawahara ,  Satoshi Katayama ,  Yoshinori Sakuma ,  Takeshi Suzuki ,  Isao Yamatsu

IPC分类号： A61K31/428 ,  A61P11/06 ,  C07D277/82 ,  C07D277/84 ,  C07D417/04 ,  C07D417/12 ,  C07D513/04

CPC分类号： C07D417/04 ,  C07D277/82 ,  C07D277/84 ,  C07D417/12 ,  C07D513/04

摘要： A benzothiazol compound having the formula is disclosed and is effective to inhibit the production of leukotriene. It is useful against allergy, asthma, affections of the skin, allergic rhinitis and affection of a cardiovascular system. ##STR1## in which R20 is ester or amide and --NR5R6 is amino in variety.