公开(公告)号：US20060076576A1

公开(公告)日：2006-04-13

申请号：US10540514

申请日：2003-12-19

申请人： Takenori Osada ,  Takayuki Inoue ,  Noboru Fukuhara

发明人： Takenori Osada ,  Takayuki Inoue ,  Noboru Fukuhara

IPC分类号： H01L31/0328 ,  H01L21/336

CPC分类号： H01L29/7785

摘要： A compound semiconductor epitaxial substrate for use in a strain channel high electron mobility field effect transistor, comprising an InGaAs layer as a strain channel layer 6 and AlGaAs layers containing n-type impurities as back side and front side electron supplying layers 3 and 9, wherein an emission peak wavelength from the strain channel layer 6 at 77 K is set to 1030 nm or more by optimizing the In composition and the thickness of the strain channel layer 6.

摘要翻译： 一种用于应变通道高电子迁移率场效应晶体管的化合物半导体外延基板，包括作为应变通道层6的InGaAs层和包含n型杂质的AlGaAs层作为背面侧和前侧电子供给层3和9，其中 通过优化应变通道层6的In组成和厚度，将77K处的应变通道层6的发射峰值波长设定为1030nm以上。

公开(公告)号：US06955585B2

公开(公告)日：2005-10-18

申请号：US10934293

申请日：2004-09-03

申请人： Mamoru Mitsuishi ,  Shinichi Warisawa ,  Kouichi Kuramoto ,  Takayuki Inoue

发明人： Mamoru Mitsuishi ,  Shinichi Warisawa ,  Kouichi Kuramoto ,  Takayuki Inoue

IPC分类号： B24C3/00 ,  B24C1/04 ,  B24C3/22 ,  B24C5/02 ,  B24C7/00 ,  B24C1/08

CPC分类号： B24C1/04 ,  B24C3/22 ,  B24C5/02 ,  B24C7/0007

摘要： A curved surface machining method that performs finishing of the surface of a workpiece into a curved surface. The method includes the steps of: setting a workpiece in a rotating or stationary state in a water tank filled with an abrasive-containing solution into which an abrasive with a grain size of less than 1 μm has been admixed; and spraying a high-speed fluid in the abrasive-containing solution while a position, direction, and angle thereof is controlled relative to the workpiece, thus grinding and finishing the surface of the workpiece to an intended surface roughness and profile accuracy.

摘要翻译： 一种曲面加工方法，其将工件的表面精加工成曲面。 该方法包括以下步骤：在填充有磨料的溶液的水箱中将旋转或静止状态的工件设置在其中混合了粒度小于1μm的磨料的混合物; 并将高速流体喷射到含磨料的溶液中，同时相对于工件控制其位置，方向和角度，从而将工件的表面研磨和精加工到预期的表面粗糙度和轮廓精度。

公开(公告)号：US20050095955A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10934293

申请日：2004-09-03

申请人： Mamoru Mitsuishi ,  Shinichi Warisawa ,  Kouichi Kuramoto ,  Takayuki Inoue

发明人： Mamoru Mitsuishi ,  Shinichi Warisawa ,  Kouichi Kuramoto ,  Takayuki Inoue

IPC分类号： B24C3/00 ,  B24C1/04 ,  B24C3/22 ,  B24C5/02 ,  B24C7/00 ,  B24B49/00 ,  B24C1/00

CPC分类号： B24C1/04 ,  B24C3/22 ,  B24C5/02 ,  B24C7/0007

摘要： A curved surface machining method that performs finishing of the surface of a workpiece into a curved surface. The method includes the steps of: setting a workpiece in a rotating or stationary state in a water tank filled with an abrasive-containing solution into which an abrasive with a grain size of less than 1 μm has been admixed; and spraying a high-speed fluid in the abrasive-containing solution while a position, direction, and angle thereof is controlled relative to the workpiece, thus grinding and finishing the surface of the workpiece to an intended surface roughness and profile accuracy.

公开(公告)号：US06582351B1

公开(公告)日：2003-06-24

申请号：US10030979

申请日：2002-01-16

申请人： Kozo Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Yuki Sawada ,  Tsuyoshi Mizutani

发明人： Kozo Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Yuki Sawada ,  Tsuyoshi Mizutani

IPC分类号： A61K31435

CPC分类号： C07D401/04 ,  C07D235/26 ,  C07D235/28 ,  C07D401/12 ,  C07D403/04 ,  C07D405/04 ,  C07D405/12 ,  C07D471/04

摘要： A compound (Ia): wherein the variables are defined in the specification, its prodrug or a pharmaceutically acceptable salt thereof useful in the treatment of angina, hypertension etc.

摘要翻译： 化合物（Ia）：其中变量在说明书中定义，其前药或其药学上可接受的盐可用于治疗心绞痛，高血压等。

公开(公告)号：US06169095A

公开(公告)日：2001-01-02

申请号：US09228973

申请日：1999-01-12

申请人： Teruo Oku ,  Hiroshi Kayakiri ,  Shigeki Satoh ,  Yoshito Abe ,  Yuki Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Hirokazu Tanaka

发明人： Teruo Oku ,  Hiroshi Kayakiri ,  Shigeki Satoh ,  Yoshito Abe ,  Yuki Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Hirokazu Tanaka

IPC分类号： A61K3147

CPC分类号： C07D401/12 ,  C07D215/26 ,  C07D237/28 ,  C07D239/74 ,  C07D241/42 ,  C07D401/14 ,  C07D403/12 ,  C07D409/12 ,  C07D413/12 ,  C07F7/1804

摘要： The invention relates to a pharmaceutical composition for ophthalmic administration comprising a compound of the formula: wherein X1, X2, X3, R1, R2, R3, R4, R5, Q and A are as defined in the disclosure. This invention also relates to methods of using the pharmaceutical composition in the prevention and/or treatment of bradykinin or its analogues mediated diseases in the eye, such as allergy, inflammation and pain of the eye.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于眼用药物的药物组合物，其包含下式化合物：其中X 1，X 2，X 3，R 1，R 2，R 3，R 4，R 5，Q和A如本公开所定义。 本发明还涉及使用该药物组合物预防和/或治疗缓激肽或其类似物介导的眼睛疾病，如过敏，炎症和眼睛疼痛的方法。

公开(公告)号：US6163713A

公开(公告)日：2000-12-19

申请号：US35366

申请日：1998-03-05

申请人： Katsumi Suzuki ,  Sadahiko Miura ,  Takayuki Inoue ,  Koji Muranaka ,  Hideaki Zama ,  Youichi Enomoto ,  Tadataka Morishita ,  Shoji Tanaka

发明人： Katsumi Suzuki ,  Sadahiko Miura ,  Takayuki Inoue ,  Koji Muranaka ,  Hideaki Zama ,  Youichi Enomoto ,  Tadataka Morishita ,  Shoji Tanaka

IPC分类号： H01L39/14 ,  H01L39/24 ,  H01P3/08 ,  H01B12/02

CPC分类号： H01P3/081 ,  H01L39/143 ,  H01L39/2422 ,  Y10S505/70 ,  Y10S505/701 ,  Y10S505/866

摘要： In a high frequency transmission line having a dielectric substrate and a conductor line which is provided on the dielectric substrate for allowing electric current to flow therethrough, the conductor line has a non-grain-boundary oxide superconductor layer with twin walls but without grain boundaries. The high frequency transmission line is in the form of a plane circuit. It is preferable that an oriented oxide superconductor layer is provided between the dielectric substrate and the non-grain-boundary oxide superconductor layer.

摘要翻译： 在具有电介质基板和导电线的高频传输线路中，该导体线设置在电介质基板上，用于允许电流流过其中，导体线具有双层壁但不具有晶界的非晶界氧化物超导体层。 高频传输线是平面电路的形式。 优选在电介质基板和非晶界氧化物超导体层之间设置取向氧化物超导体层。

公开(公告)号：US6083959A

公开(公告)日：2000-07-04

申请号：US147193

申请日：1998-10-26

申请人： Teruo Oku ,  Hiroshi Kayakiri ,  Shigeki Satoh ,  Yoshito Abe ,  Yuki Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Hirokazu Tanaka

发明人： Teruo Oku ,  Hiroshi Kayakiri ,  Shigeki Satoh ,  Yoshito Abe ,  Yuki Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Hirokazu Tanaka

IPC分类号： A61K31/00 ,  A61K31/47 ,  A61K31/4709 ,  A61K31/535 ,  A61K31/5375 ,  A61K31/5377 ,  A61P29/00 ,  A61P37/08 ,  A61P43/00 ,  C07D215/26 ,  C07D215/42 ,  C07D401/04 ,  C07D401/12 ,  C07D401/14 ,  C07D521/00

CPC分类号： C07D231/12 ,  C07D215/26 ,  C07D215/42 ,  C07D233/56 ,  C07D249/08 ,  C07D401/12

摘要： A compound of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 is lower alkyl,R.sup.2 is hydrogen, lower alkyl or a heterocyclic group,R.sup.3 is hydrogen, lower alkyl or halogen,R.sup.4 is lower alkyl or halogen,R.sup.5 is nitro or amino substituted with substituent(s) selected from the group consisting of lower alkyl and acyl, andA is lower alkylene.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP97 / 01415 Sec。 371日期：1998年10月26日 102（e）日期1998年10月26日PCT 1997年4月24日PCT PCT。 第WO97 / 15877号公报 日期：1997年4月24日一种下式化合物：其中R1是低级烷基，R2是氢，低级烷基或杂环基，R3是氢，低级烷基或卤素，R4是低级烷基或卤素，R5是硝基或氨基取代的 具有选自低级烷基和酰基的取代基，A是低级亚烷基。

公开(公告)号：US5922711A

公开(公告)日：1999-07-13

申请号：US933354

申请日：1997-09-19

申请人： Teruo Oku ,  Hiroshi Kayakiri ,  Shigeki Satoh ,  Yoshito Abe ,  Yuki Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Hirokazu Tanaka

发明人： Teruo Oku ,  Hiroshi Kayakiri ,  Shigeki Satoh ,  Yoshito Abe ,  Yuki Sawada ,  Takayuki Inoue ,  Hirokazu Tanaka

IPC分类号： A61K31/47 ,  A61K31/495 ,  A61K31/498 ,  A61K31/50 ,  A61K31/502 ,  A61K31/505 ,  A61K31/517 ,  A61K31/53 ,  A61P35/00 ,  A61P37/08 ,  A61P43/00 ,  C07D215/24 ,  C07D215/26 ,  C07D215/40 ,  C07D237/10 ,  C07D237/28 ,  C07D239/74 ,  C07D241/42 ,  C07D241/44 ,  C07D401/12 ,  C07D401/14 ,  C07D403/12 ,  C07D409/12 ,  C07D413/12 ,  C07F7/18 ,  C07D239/72 ,  C07D241/40

CPC分类号： C07D401/12 ,  C07D215/26 ,  C07D237/28 ,  C07D239/74 ,  C07D241/42 ,  C07D401/14 ,  C07D403/12 ,  C07D409/12 ,  C07D413/12 ,  C07F7/1856

摘要： A compound of the formula: ##STR1## wherein --X.sup.3 .dbd.X.sup.2 --X.sup.1 .dbd.N-- is a group of the formula: ##STR2## R.sup.1 is hydrogen or halogen, R.sup.2 is halogen,R.sup.3 is hydrogen, nitro, amino optionally having at least one substituent or a heterocyclic group optionally having at least one substituent,R.sup.4 and R.sup.5 are each hydrogen, or halogen,R.sup.6 and R.sup.8 are each hydrogen, halogen, lower alkyl, hydroxy, lower alkylthio, amino optionally substituted with lower alkyl, or lower alkoxy optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of hydroxy, lower alkoxy, amino, lower alkylamino and aryl optionally substituted with lower alkoxy,R.sup.7 is hydrogen or lower alkyl,A is lower alkylene, andQ is O or N--R.sup.9 is hydrogen or acyl,provided that R.sup.3 is not hydrogen when X.sup.1 is C--R.sup.6, in which R.sup.6 is hydrogen, andpharmaceutically acceptable salts thereof.

摘要翻译： 下式的化合物：其中-X3 = X2-X1 = N-是下式的基团：R1是氢或卤素，R2是卤素，R3是氢，硝基，任选具有至少一个取代基的氨基或杂环基 任选具有至少一个取代基，R 4和R 5各自为氢或卤素，R 6和R 8各自为氢，卤素，低级烷基，羟基，低级烷硫基，任选被低级烷基取代的氨基或任选被所选取代基取代的低级烷氧基 由羟基，低级烷氧基，氨基，低级烷基氨基和任选被低级烷氧基取代的芳基组成的基团，R 7为氢或低级烷基，A为低级亚烷基，Q为O或N-R 9为氢或酰基，条件是R 3 当X1是C-R6，其中R6是氢时，它们不是氢，以及其药学上可接受的盐。

公开(公告)号：US5799363A

公开(公告)日：1998-09-01

申请号：US781113

申请日：1997-01-09

申请人： Takayuki Inoue ,  Masami Fukumoto ,  Izumi Yamaura

发明人： Takayuki Inoue ,  Masami Fukumoto ,  Izumi Yamaura

IPC分类号： A47L5/30 ,  A47L7/06 ,  A47L9/08 ,  A47L7/04

CPC分类号： A47L5/30 ,  A47L7/06 ,  A47L9/08

摘要： An upright vacuum cleaner has a float unit (29A) for lifting the upright vacuum cleaner during cleaning by spouting discharge air to a floor to be cleaned. The float unit (29A) has a floor-opposing face having a discharge-air outlet port (31) for spouting the discharge air of a motor fan (21).

摘要翻译： 直立式真空吸尘器具有浮动单元（29A），用于通过将排放空气喷射到待清洁的地板上来清洁直立式真空吸尘器。 浮子单元（29A）具有具有用于喷出电机风扇（21）的排出空气的排出空气出口（31）的地板相对面。

公开(公告)号：US5787910A

公开(公告)日：1998-08-04

申请号：US652923

申请日：1996-05-24

申请人： Masao Oda ,  Michio Fujiwara ,  Tomoyuki Kanda ,  Hideho Taguchi ,  Yasunori Kurahashi ,  Takao Morisaki ,  Takasuke Umemoto ,  Takayuki Inoue ,  Fusako Tanaka

发明人： Masao Oda ,  Michio Fujiwara ,  Tomoyuki Kanda ,  Hideho Taguchi ,  Yasunori Kurahashi ,  Takao Morisaki ,  Takasuke Umemoto ,  Takayuki Inoue ,  Fusako Tanaka

IPC分类号： A47L15/00 ,  A47L17/00 ,  B05B9/00 ,  B08B3/02

CPC分类号： A47L17/00 ,  A47L15/0086

摘要： A washing apparatus is compact as well as easy to handle, with which a user can wash down dirt effectively in a short time. Washing liquid supplied from the washing liquid supplying means is made in the form of high-speed jet liquid by a high-speed jet stream spouting means. The high-speed jet liquid is spouted from the aperture of the first cover to wash down dirt by the impact given by the high-speed jet liquid. A washing object is dewatered by gas spouted from the aperture by a blowing means. The high-speed jet stream spouting means is comprised of a rotating object having a plurality of radial shape flow paths extending from a center portion to a circumference of the rotating object, and a liquid supplying portion for supplying washing liquid to a central portion of the radial shape flow paths. A rotating means rotates the rotating object so that washing liquid supplied in the radial shape flow paths is accelerated in the direction of a circumference as well as a radius of the rotating object by rotation. The accelerated washing liquid is spouted from an aperture in the form of high-speed jet liquid.

摘要翻译： 洗涤装置紧凑，易于操作，用户可以在短时间内有效地清洗污垢。 从洗涤液供给装置供给的洗涤液通过高速喷射流喷射装置被制成高速喷射液体的形式。 高速喷射液体从第一盖的孔口喷出，以通过高速喷射液体的冲击来清除污垢。 洗涤物体通过吹出装置从孔中喷出的气体脱水。 高速喷射流喷射装置包括具有从旋转物体的中心部分延伸到圆周的多个径向形状的流动路径的旋转物体，以及用于将清洗液供应到旋转物体的中心部分的液体供应部分 径向形状流动路径。 旋转装置旋转旋转物体，使得在径向形状流动路径中供应的洗涤液体在圆周方向以及旋转物体的旋转半径方向上被加速。 加速的洗涤液体以高速喷射液体形式的孔径喷出。