公开(公告)号：US08634810B2

公开(公告)日：2014-01-21

申请号：US13248094

申请日：2011-09-29

申请人： Eric J. Barkie ,  Benjamin L. Fletcher ,  Carlos A. Fonseca ,  Leslie S. Liu ,  Colm V. Malone ,  Min Wei

发明人： Eric J. Barkie ,  Benjamin L. Fletcher ,  Carlos A. Fonseca ,  Leslie S. Liu ,  Colm V. Malone ,  Min Wei

IPC分类号： H04M1/725

CPC分类号： H04W12/10 ,  H04L63/0428 ,  H04L67/20 ,  H04L67/26 ,  H04W12/02

摘要： A method for pushing secure notifications includes a push service platform receiving a push notification message request from an entity registered with the push service platform, processing the push notification message request to generate a secure push notification message, and sending the secure push notification message to a target mobile computing device through a native third-party push service associated with the target mobile computing device. The secure push notification message includes a message ID (identifier) that corresponds to message content associated with the push notification message request. The method further includes the push service platform receiving a pull message request from the target mobile computing device, the pull message request requesting the message content associated with the push notification message corresponding to the message ID, and sending the requested message content associated with the push notification message to the mobile computing device.

摘要翻译： 用于推送安全通知的方法包括：推送服务平台，从推送服务平台注册的实体接收推送通知消息请求，处理推送通知消息请求以生成安全推送通知消息，并将安全推送通知消息发送到 通过与目标移动计算设备相关联的本地第三方推送服务来定位移动计算设备。 安全推送通知消息包括对应于与推送通知消息请求相关联的消息内容的消息ID（标识符）。 所述方法还包括：推送服务平台从目标移动计算设备接收拉取消息请求，所述拉取消息请求请求与所述消息ID相对应的所述推送通知消息相关联的所述消息内容，以及发送与所述推送相关联的所请求的消息内容 通知消息给移动计算设备。

公开(公告)号：US08568964B2

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：US12430203

申请日：2009-04-27

申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer ,  Wallace P. Printz

发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer ,  Wallace P. Printz

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/095 ,  G03F7/70466

摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual tone development process is described. The method and system comprise a flood exposure of the substrate to improve process latitude for the dual tone development process.

摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理来图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括基底的暴露以提高双音发展过程的过程纬度。

公开(公告)号：US08129080B2

公开(公告)日：2012-03-06

申请号：US12561001

申请日：2009-09-16

申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

公开(公告)号：US07829269B1

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：US12564755

申请日：2009-09-22

申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer ,  Wallace P. Printz

发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer ,  Wallace P. Printz

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/095 ,  G03F7/70466

摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual tone development process is described. The method comprises use of plural photo-acid generators with or without a flood exposure of the substrate to improve process latitude for the dual tone development process.

摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理来图案化衬底的方法和系统。 该方法包括使用具有或不具有衬底的暴露的多个光酸发生器来改善双音发展过程的处理范围。

公开(公告)号：US06901576B2

公开(公告)日：2005-05-31

申请号：US10300240

申请日：2002-11-20

申请人： Lars W. Liebmann ,  Carlos A. Fonseca ,  Ioana Graur

发明人： Lars W. Liebmann ,  Carlos A. Fonseca ,  Ioana Graur

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F1/30 ,  G03F9/00 ,  G06F9/40 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F1/30

摘要： A method is provided for designing an altPSM mask including a substrate. The method includes the following steps. Provide a circuit layout. Identify critical elements of the circuit layout. Provide a cutoff layout dimension. Identify critical segments of the circuit layout which are critical elements with a sub-cutoff dimension less than the cutoff dimension. Create basic phase shapes associated with the critical segments. Remove layout violations from the phase shapes. Determine whether the widths of phase shapes associated with a critical segment have unequal narrower and wider widths. If YES, then widen each narrower phase shape to match the width of wider phase shape associated with the critical segment and repeat the steps starting with removal of layout violations until the test answer is NO. When the test answer is NO, provide a layout pattern to an output.

摘要翻译： 提供了一种用于设计包括衬底的altPSM掩模的方法。 该方法包括以下步骤。 提供电路布局。 识别电路布局的关键要素。 提供截止布局维度。 识别电路布局的关键部分，这些部分是具有小于截止尺寸的子切割尺寸的关键元件。 创建与关键段相关联的基本相位形状。 从相位形状中删除布局违例。 确定与临界段相关联的相位形状的宽度是否具有不相等的较窄和较宽的宽度。 如果是，则扩大每个较窄的相位形状以匹配与关键段相关联的较宽相位形状的宽度，并重复从删除布局违规开始的步骤，直到测试答案为否。 当测试答案为NO时，向输出提供布局模式。

公开(公告)号：US06609245B2

公开(公告)日：2003-08-19

申请号：US09997657

申请日：2001-11-29

申请人： Lars W. Liebmann ,  Carlos A. Fonseca ,  Ioana Graur ,  Young O. Kim

发明人： Lars W. Liebmann ,  Carlos A. Fonseca ,  Ioana Graur ,  Young O. Kim

IPC分类号： G06F1750

CPC分类号： G03F1/30

摘要： A method and computer program product is described for optimizing the design of a circuit layout that assigns binary properties to the design elements according to a hierarchy of rules. For example, the design of an alternating phase shifted mask (altPSM) is optimized first according to rules that assign phase shapes that maximize image quality for critical circuit elements, and then further optimized to minimize mask manufacturability problems without significantly increasing the complexity of the design process flow. Further optimization of the design according to additional rules can be performed in a sequentially decreasing priority order. As the priority of rules decrease, some violation of lower priority rules may be acceptable, as long as higher priority rules are not violated.

摘要翻译： 描述了一种方法和计算机程序产品，用于优化根据规则层级将二进制属性分配给设计元素的电路布局的设计。 例如，交替相移掩模（altPSM）的设计首先根据规定分配相位形状的规则进行优化，该相位形状使关键电路元件的图像质量最大化，然后进一步优化以最小化掩模可制造性问题，而不会显着增加设计的复杂性 工艺流程。 根据附加规则进一步优化设计可以按顺序降低的优先顺序执行。 由于规则的优先级减少，只要优先级较高的规则不被侵犯，某些违反较低优先权规则就可以接受。

公开(公告)号：US20100075238A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12561001

申请日：2009-09-16

申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

公开(公告)号：US06777147B1

公开(公告)日：2004-08-17

申请号：US10249944

申请日：2003-05-21

申请人： Carlos A. Fonseca ,  Scott J. Bukofsky ,  Kafai Lai

发明人： Carlos A. Fonseca ,  Scott J. Bukofsky ,  Kafai Lai

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

摘要： A method of evaluating process effects of multiple exposure photolithographic processes by first determining a set of expected images for each exposure step or process of the multiple exposure process individually and then obtaining a composite set of images by sequentially perturbing images from a first or previous exposure step by weighted images from the subsequent exposure step. Preferably, the expected images are determined by simulation in the form of normalized aerial images over a range of defocus for each exposure step, and the weighting factor used is the dose-ratio of the subsequent exposure dose to the prior step exposure dose. The resulting composite set of images may be used to evaluate multiple exposure processes, for example, to provide an estimate of yield for a given budget of dose and focus errors, or alternatively, to provide specifications for tool error budgets required to obtain a target yield.

摘要翻译： 一种评估多次曝光光刻处理的处理效果的方法，其通过首先单独确定每个曝光步骤或多次曝光处理的预期图像集合，然后通过依次扰动来自第一曝光步骤或先前曝光步骤的图像来获得复合图像组 通过后续曝光步骤的加权图像。 优选地，通过在每个曝光步骤的散焦范围上的归一化空间图像的形式的模拟来确定预期图像，并且所使用的加权因子是随后的曝光剂量与先前阶段曝光剂量的剂量比。 所得到的复合图像集合可以用于评估多个曝光过程，例如，为给定的剂量和焦点误差预算提供产量的估计，或者提供用于获得目标产量所需的工具误差预算的规格 。

公开(公告)号：US20130084896A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：US13248094

申请日：2011-09-29

申请人： Eric J. Barkie ,  Benjamin L. Fletcher ,  Carlos A. Fonseca ,  Leslie S. Liu ,  Colm V. Malone ,  Min Wei

发明人： Eric J. Barkie ,  Benjamin L. Fletcher ,  Carlos A. Fonseca ,  Leslie S. Liu ,  Colm V. Malone ,  Min Wei

IPC分类号： H04W68/00

CPC分类号： H04W12/10 ,  H04L63/0428 ,  H04L67/20 ,  H04L67/26 ,  H04W12/02

摘要： A method for pushing secure notifications includes a push service platform receiving a push notification message request from an entity registered with the push service platform, processing the push notification message request to generate a secure push notification message, and sending the secure push notification message to a target mobile computing device through a native third-party push service associated with the target mobile computing device. The secure push notification message includes a message ID (identifier) that corresponds to message content associated with the push notification message request. The method further includes the push service platform receiving a pull message request from the target mobile computing device, the pull message request requesting the message content associated with the push notification message corresponding to the message ID, and sending the requested message content associated with the push notification message to the mobile computing device.

摘要翻译： 用于推送安全通知的方法包括：推送服务平台，从推送服务平台注册的实体接收推送通知消息请求，处理推送通知消息请求以生成安全推送通知消息，并将安全推送通知消息发送到 通过与目标移动计算设备相关联的本地第三方推送服务来定位移动计算设备。 安全推送通知消息包括对应于与推送通知消息请求相关联的消息内容的消息ID（标识符）。 所述方法还包括：推送服务平台从目标移动计算设备接收拉取消息请求，所述拉取消息请求请求与所述消息ID相对应的所述推送通知消息相关联的所述消息内容，以及发送与所述推送相关联的所请求消息内容 通知消息给移动计算设备。

公开(公告)号：US08283111B2

公开(公告)日：2012-10-09

申请号：US12334852

申请日：2008-12-15

申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70283 ,  G03F5/16 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

摘要： A method of patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The patterning method comprises forming a layer of radiation-sensitive material on a substrate, wherein the layer of radiation-sensitive material comprises a dual tone resist. Thereafter, the patterning method comprises performing one or more exposures of the layer of radiation-sensitive material to one or more patterns of radiation, wherein at least one of the one or more exposures comprises using a mask having a dual-tone mask pattern region configured for printing dual tone features and a half-tone mask pattern region configured for printing half-tone features. Furthermore, the half-tone mask pattern region is optimized for use with the dual tone resist.

摘要翻译： 描述使用双音发展过程对衬底进行构图的方法。 图案化方法包括在衬底上形成辐射敏感材料层，其中辐射敏感材料层包括双色调抗蚀剂。 此后，图案化方法包括对辐射敏感材料层进行一次或多次曝光，以一个或多个辐射图案，其中一个或多个曝光中的至少一个曝光包括使用配置有双色调掩模图案区域的掩模 用于打印双色特征和配置用于打印半色调特征的半色调蒙版图案区域。 此外，半色调掩模图案区域被优化用于双色调抗蚀剂。