公开(公告)号：US08395772B2

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：US12818358

申请日：2010-06-18

申请人： Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

发明人： Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70616

摘要： A sensor for an immersion system is disclosed. The sensor comprises: a sensing device, a transparent layer and an opaque patterning layer. The sensing device is configured to sense a property of a beam of radiation. The transparent layer is configured to allow the passage of a beam of radiation therethrough. The transparent layer covers the sensing device. The opaque patterning layer is configured to impart a pattern to the beam of radiation. In the patterning layer is an opening in which is located an infilling material. The infilling material is transparent to the beam of radiation and has a similar refractive index to that of the transparent layer.

摘要翻译： 公开了一种用于浸没系统的传感器。 传感器包括：感测装置，透明层和不透明图案层。 感测装置被配置为感测辐射束的特性。 透明层构造成允许辐射束通过其中。 透明层覆盖感测装置。 不透明图案层被配置为赋予辐射束图案。 在图形层中是位于填充材料的开口。 填充材料对辐射束是透明的，并且具有与透明层相似的折射率。

公开(公告)号：US20100321695A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12818358

申请日：2010-06-18

申请人： Henricus Wilhelmus Maria VAN BUEL ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

发明人： Henricus Wilhelmus Maria VAN BUEL ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Vitaliy Prosyentsov ,  Sandra Van Der Graaf ,  Nina Vladimirovna Dziomkina

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70616

摘要： A sensor for an immersion system is disclosed. The sensor comprises: a sensing device, a transparent layer and an opaque patterning layer. The sensing device is configured to sense a property of a beam of radiation. The transparent layer is configured to allow the passage of a beam of radiation therethrough. The transparent layer covers the sensing device. The opaque patterning layer is configured to impart a pattern to the beam of radiation. In the patterning layer is an opening in which is located an infilling material. The infilling material is transparent to the beam of radiation and has a similar refractive index to that of the transparent layer.

摘要翻译： 公开了一种用于浸没系统的传感器。 传感器包括：感测装置，透明层和不透明图案层。 感测装置被配置为感测辐射束的特性。 透明层构造成允许辐射束通过其中。 透明层覆盖感测装置。 不透明图案层被配置为赋予辐射束图案。 在图形层中是位于填充材料的开口。 填充材料对辐射束是透明的，并且具有与透明层相似的折射率。

公开(公告)号：US07280228B2

公开(公告)日：2007-10-09

申请号：US10882685

申请日：2004-07-02

申请人： Gerrit Johannes Nijmeijer ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Sigurd Dressler ,  Edwin Eduard Nicolaas Josephus Krijnen ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Roeland Nicolaas Maria Vanneer ,  Cornelis Christiaan Ottens

发明人： Gerrit Johannes Nijmeijer ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Jeroen Thomas Broekhuijse ,  Sigurd Dressler ,  Edwin Eduard Nicolaas Josephus Krijnen ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Roeland Nicolaas Maria Vanneer ,  Cornelis Christiaan Ottens

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70858 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7096 ,  H01L21/682

摘要： A lithographic apparatus includes a measurement system including at least one optical component and at least one electrical component. The electrical component is configured to dissipate heat. The optical component is mounted on a first frame of the apparatus, and the electrical component is mounted on a second frame of the apparatus that is thermally and mechanically decoupled from the first frame. An optical coupling is provided between the first frame and the second frame.

摘要翻译： 光刻设备包括测量系统，该测量系统包括至少一个光学部件和至少一个电气部件。 电气部件被配置为散热。 光学部件安装在设备的第一框架上，并且电气部件安装在与第一框架热和机械分离的设备的第二框架上。 在第一框架和第二框架之间设置光耦合器。