公开(公告)号：US20070034498A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：US11525368

申请日：2006-09-22

申请人： Mihai Ganciu-Petcu ,  Michel Hecq ,  Jean-Pierre Dauchot ,  Stephanos Konstantinidis ,  Jean Bretagne ,  Ludovic De Poucques ,  Michel Touzeau

发明人： Mihai Ganciu-Petcu ,  Michel Hecq ,  Jean-Pierre Dauchot ,  Stephanos Konstantinidis ,  Jean Bretagne ,  Ludovic De Poucques ,  Michel Touzeau

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/00

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/358 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3444

摘要： The present invention relates to the deposition in a magnetron reactor (1) equipped with a magnetron cathode (MC) of at least one material on a substrate (11a), according to which process said material is vaporized by magnetron sputtering, using a gas that is ionized in pulsed mode. To this effect and in order to favour the formation of high current pulses of short duration while avoiding the formation of electric arcs and while enabling an effective ionisation of the sputtered vapour, a preionization of the said gas prior to the application of the main voltage pulse on the magnetron cathode (MC) is carried out in order to generate current pulses (CP) whose decay time (Td), after cut-off of the main voltage pulse (VP) is shorter than 5 μs.

摘要翻译： 本发明涉及在基板（11a）上配备有至少一种材料的磁控管阴极（MC）的磁控管反应器（1）中的沉积，根据该方法，所述材料通过磁控溅射气化，使用气体 在脉冲模式下电离。 为此，为了有利于形成短持续时间的高电流脉冲，同时避免电弧的形成，并且同时能够有效地电离溅射的蒸汽，在施加主电压脉冲之前对所述气体进行预电离 在磁控管阴极（MC）上进行，以便在主电压脉冲（VP）的截止值小于5之后产生其衰减时间（T> D ）的电流脉冲（CP） 麝香

公开(公告)号：US07927466B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US11525368

申请日：2006-09-22

申请人： Mihai Ganciu-Petcu ,  Michel Hecq ,  Jean-Pierre Dauchot ,  Stephanos Konstantinidis ,  Jean Bretagne ,  Ludovic De Poucques ,  Michel Touzeau

发明人： Mihai Ganciu-Petcu ,  Michel Hecq ,  Jean-Pierre Dauchot ,  Stephanos Konstantinidis ,  Jean Bretagne ,  Ludovic De Poucques ,  Michel Touzeau

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/32 ,  C25B9/00 ,  C25B11/00 ,  C25B13/00

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/358 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3444

摘要： The present invention relates to the deposition in a magnetron reactor (1) equipped with a magnetron cathode (MC) of at least one material on a substrate (11a), according to which process said material is vaporized by magnetron sputtering, using a gas that is ionized in pulsed mode. To this effect and in order to favour the formation of high current pulses of short duration while avoiding the formation of electric arcs and while enabling an effective ionisation of the sputtered vapour, a preionization of the said gas prior to the application of the main voltage pulse on the magnetron cathode (MC) is carried out in order to generate current pulses (CP) whose decay time (Td), after cut-off of the main voltage pulse (VP) is shorter than 5 μs.

摘要翻译： 本发明涉及在基板（11a）上配备有至少一种材料的磁控管阴极（MC）的磁控管反应器（1）中的沉积，根据该方法，所述材料通过磁控溅射蒸发，使用气体 以脉冲模式电离。 为此，为了有利于形成短持续时间的高电流脉冲，同时避免电弧的形成，并且同时能够有效地电离溅射的蒸汽，在施加主电压脉冲之前对所述气体进行预电离 执行磁控管阴极（MC），以产生在主电压脉冲（VP）截止后的衰减时间（Td）小于5μs的电流脉冲（CP）。

公开(公告)号：US07229589B2

公开(公告)日：2007-06-12

申请号：US10610158

申请日：2003-06-30

申请人： Mihaï Ganciu Petcu ,  Anne-Marie Pointu ,  Bernard Legendre ,  Johannes Orphal ,  Michel Vervloet ,  Michel Touzeau ,  Najet Yagoubi

发明人： Mihaï Ganciu Petcu ,  Anne-Marie Pointu ,  Bernard Legendre ,  Johannes Orphal ,  Michel Vervloet ,  Michel Touzeau ,  Najet Yagoubi

IPC分类号： A61L2/00

CPC分类号： A61L2/14

摘要： A method for decontamination of a contaminated region containing biological species to be destroyed, includes a decontamination step during which a decontamination gas containing atomic nitrogen is propagated in the contaminated region, and atomic nitrogen contributes to the destruction of biological species in the contaminated region.

摘要翻译： 含有待破坏的生物物种的污染区域的净化方法包括净化步骤，在该步骤中，含有原子氮的净化气体在污染区域中传播，原子氮有助于污染区域中生物物种的破坏。