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    Conflict resolution among multiple controllers
    1.
    发明授权
    Conflict resolution among multiple controllers 失效
    多个控制器之间的冲突解决

    公开(公告)号：US07031793B1

    公开(公告)日：2006-04-18

    申请号：US10286305

    申请日：2002-11-01

    申请人： Naomi M. Jenkins ,  Jin Wang ,  Richard J. Markle ,  Elfido Coss, Jr. ,  Brian K. Cusson

    发明人： Naomi M. Jenkins ,  Jin Wang ,  Richard J. Markle ,  Elfido Coss, Jr. ,  Brian K. Cusson

    IPC分类号： G06F19/00 ,  G05B11/01 ,  G05B19/18 ,  G05B15/02

    CPC分类号： G05B19/042

    摘要： A method and an apparatus are provided for conflict resolution among a plurality of controllers. The method includes receiving a first control instruction from a first process controller to process a workpiece, receiving a second control instruction from a second process controller to process the workpiece and adjusting at least one of the first control instruction and the second control instruction to process the workpiece to achieve a desired process goal.

    摘要翻译： 为多个控制器之间的冲突解决提供了一种方法和装置。 该方法包括从第一过程控制器接收第一控制指令以处理工件，从第二过程控制器接收第二控制指令以处理工件并调整第一控制指令和第二控制指令中的至少一个以处理 工件达到所期望的工艺目标。

    Identifying a cause of a fault based on a process controller output
    3.
    发明授权
    Identifying a cause of a fault based on a process controller output 失效
    根据过程控制器输出识别出故障的原因

    公开(公告)号：US06778873B1

    公开(公告)日：2004-08-17

    申请号：US10210640

    申请日：2002-07-31

    申请人： Jin Wang ,  Elfido Coss, Jr. ,  Brian K. Cusson ,  Alexander J. Pasadyn ,  Michael L. Miller ,  Naomi M. Jenkins ,  Christopher A. Bode

    发明人： Jin Wang ,  Elfido Coss, Jr. ,  Brian K. Cusson ,  Alexander J. Pasadyn ,  Michael L. Miller ,  Naomi M. Jenkins ,  Christopher A. Bode

    IPC分类号： G06F1900

    CPC分类号： G05B19/4184 ,  G05B23/0281 ,  G05B2219/31357 ,  G05B2219/31363 ,  G05B2219/32201 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/22

    摘要： A method and apparatus is provided for identifying a cause of a fault based on controller output. The method comprises processing at least one workpiece under a direction of the controller and detecting a fault associated with the processing of the at least one workpiece. The method further includes determining a plurality of possible causes of the detected fault, identifying a more likely possible cause out of the plurality of possible causes, providing fault information associated with the identified more likely possible cause to the controller. The method further includes providing fault information associated with the identified more likely possible cause to the controller. The method further comprises adjusting the processing of one or more workpieces to be processed next based on the fault information provided to the controller. The method further includes generating prediction data associated with processing of the next workpieces, and comparing the prediction data to processing data associated with the processing of the next workpieces to identify a possible cause of the fault.

    摘要翻译： 提供了一种基于控制器输出来识别故障原因的方法和装置。 该方法包括在控制器的方向上处理至少一个工件，并检测与至少一个工件的处理相关的故障。 该方法还包括确定检测到的故障的多个可能的原因，从多个可能的原因中识别更可能的可能原因，将与所识别的更可能的可能原因相关联的故障信息提供给控制器。 该方法还包括向控制器提供与所识别的更可能的可能原因相关联的故障信息。 该方法还包括基于提供给控制器的故障信息来调整接下来要处理的一个或多个待处理工件的处理。 该方法还包括生成与下一个工件的处理相关联的预测数据，以及将预测数据与与下一个工件的处理相关联的处理数据进行比较，以识别故障的可能原因。

    Dynamic metrology sampling techniques for identified lots, and system for performing same
    5.
    发明授权
    Dynamic metrology sampling techniques for identified lots, and system for performing same 失效
    用于识别批次的动态计量抽样技术和执行相同批次的系统

    公开(公告)号：US06947805B1

    公开(公告)日：2005-09-20

    申请号：US10634038

    申请日：2003-08-04

    申请人： Howard E. Castle ,  Naomi M. Jenkins

    发明人： Howard E. Castle ,  Naomi M. Jenkins

    IPC分类号： G05B19/418 ,  G06F19/00 ,  H01L21/00

    CPC分类号： G05B19/41865 ,  H01L21/67276 ,  Y02P90/20

    摘要： Methods of using dynamic metrology sampling techniques for identified lots, and a system for performing such methods are disclosed. In one illustrative embodiment, the method comprises identifying at least one wafer to be processed, identifying a process tool in which at least one wafer is to be processed, obtaining enhanced metrology data regarding a process operation to be performed in the identified process tool prior to processing the identified at least one wafer in the identified process tool, and positioning at least one wafer in the identified process tool and performing the process operation thereon.

    摘要翻译： 公开了用于识别批次的动态计量抽样技术的方法和用于执行这些方法的系统。 在一个说明性实施例中，该方法包括识别待处理的至少一个晶片，识别其中要处理至少一个晶片的处理工具，获得关于将在所识别的处理工具之前执行的处理操作的增强的度量数据 在所识别的处理工具中处理所识别的至少一个晶片，以及将至少一个晶片定位在所识别的处理工具中并在其上执行处理操作。

    Process control based upon a metrology delay
    6.
    发明授权
    Process control based upon a metrology delay 有权
    基于计量延迟的过程控制

    公开(公告)号：US06834213B1

    公开(公告)日：2004-12-21

    申请号：US10336913

    申请日：2003-01-06

    申请人： Thomas J. Sonderman ,  Jin Wang ,  Naomi M. Jenkins ,  Elfido Coss, Jr.

    发明人： Thomas J. Sonderman ,  Jin Wang ,  Naomi M. Jenkins ,  Elfido Coss, Jr.

    IPC分类号： G06F1900

    CPC分类号： G05B5/01 ,  G05B19/4183 ,  G05B2219/32075 ,  G05B2219/37222 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/10

    摘要： A method and an apparatus for performing process control based upon a metrology delay. A process step is performed upon a first workpiece. Metrology data related to the first workpiece is acquired. A control adjustment based upon the metrology data is determined. A magnitude of the control adjustment is modified based upon a time period. The time period is defined by a first time frame relating to processing the first workpiece and a second time frame relating to acquiring metrology data related to the first workpiece.

    摘要翻译： 一种用于基于测量延迟执行过程控制的方法和装置。 在第一工件上执行工艺步骤。 获取与第一工件有关的计量数据。 确定基于测量数据的控制调整。 基于时间段来修改控制调整的大小。 时间段由与处理第一工件有关的第一时间框架和与获取与第一工件相关的度量数据相关的第二时间框架限定。