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公开(公告)号：US20120328990A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：US13164869
申请日：2011-06-21
申请人： Huirong YAO , Guanyang LIN , Zachary BOGUSZ , PingHung LU , WooKyu KIM , Mark NEISSER
发明人： Huirong YAO , Guanyang LIN , Zachary BOGUSZ , PingHung LU , WooKyu KIM , Mark NEISSER
CPC分类号： C08K5/0091 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08L33/16 , C08L101/06
摘要： The present invention relates to an underlayer composition comprising a polymer, an organic titanate compound and optionally a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one fluoroalcohol group and at least one epoxy group. The invention also relates to a process for using this underlayer material as an antireflective coating composition and/or a hard mask for pattern transfer.
摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，有机钛酸盐化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中聚合物包含至少一个氟代醇基团和至少一个环氧基团。 本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或用于图案转印的硬掩模的方法。
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公开(公告)号：US08465902B2
公开(公告)日：2013-06-18
申请号：US13023291
申请日：2011-02-08
申请人： Huirong Yao , Zachary Bogusz , Guanyang Lin , Mark Neisser
发明人： Huirong Yao , Zachary Bogusz , Guanyang Lin , Mark Neisser
CPC分类号： G03F7/091 , C09D161/24 , G03F7/0046 , G03F7/11 , C08L67/00
摘要： The invention relates to an underlayer coating composition comprising a polymer, where the polymer comprises at least one hydroxyaromatic unit in the backbone of the polymer phenol which has a pendant group comprising a fluoro or iodo moiety, and at least one unit comprising an aminoplast. The invention further relates to a process for forming an image using the composition, especially for EUV.
摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物的底层涂料组合物，其中聚合物包含聚合物苯酚的主链中至少一个羟基芳族单元，其具有包含氟或碘部分的侧基和至少一个包含氨基塑料的单元。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法，特别是用于EUV。
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公开(公告)号：US20140295349A1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：US13852442
申请日：2013-03-28
申请人： Huirong YAO , JoonYeon CHO , Zachary BOGUSZ , Salem K. MULLEN , Guanyang LIN , Mark O. NEISSER
发明人： Huirong YAO , JoonYeon CHO , Zachary BOGUSZ , Salem K. MULLEN , Guanyang LIN , Mark O. NEISSER
CPC分类号： G03F7/091 , C08G63/133 , C08G63/91 , C09D5/006 , C09D167/02 , G02B1/111 , G03F7/038 , G03F7/30
摘要： The present invention relates to novel antireflective coating compositions and their use in image processing. The compositions self-segregate to form hydrophobic surfaces of the novel antireflective coating compositions, the composition being situated between a reflective substrate and a photoresist coating. Such compositions are particularly useful in the fabrication of semiconductor devices by photolithographic techniques. The present invention also related to self-segregating polymers useful in image processing and processes of their use.
摘要翻译： 本发明涉及新颖的抗反射涂料组合物及其在图像处理中的应用。 组合物自分离以形成新型抗反射涂料组合物的疏水表面，该组合物位于反射基底和光刻胶涂层之间。 这种组合物通过光刻技术制造半导体器件特别有用。 本发明还涉及可用于图像处理的自分离聚合物及其使用方法。
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公开(公告)号：US08568958B2
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：US13164869
申请日：2011-06-21
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Zachary Bogusz , PingHung Lu , WooKyu Kim , Mark Neisser
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Zachary Bogusz , PingHung Lu , WooKyu Kim , Mark Neisser
CPC分类号： C08K5/0091 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08L33/16 , C08L101/06
摘要： The present invention relates to an underlayer composition comprising a polymer, an organic titanate compound and optionally a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one fluoroalcohol group and at least one epoxy group. The invention also relates to a process for using this underlayer material as an antireflective coating composition and/or a hard mask for pattern transfer.
摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，有机钛酸盐化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中聚合物包含至少一个氟代醇基团和至少一个环氧基团。 本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或用于图案转印的硬掩模的方法。
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公开(公告)号：US20120202155A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：US13023291
申请日：2011-02-08
申请人： Huirong Yao , Zachary Bogusz , Guanyang Lin , Mark Neisser
发明人： Huirong Yao , Zachary Bogusz , Guanyang Lin , Mark Neisser
IPC分类号： G03F7/20 , C08L67/00 , C08L61/24 , C09D179/00 , C08L79/04
CPC分类号： G03F7/091 , C09D161/24 , G03F7/0046 , G03F7/11 , C08L67/00
摘要： The invention relates to an underlayer coating composition comprising a polymer, where the polymer comprises at least one hydroxyaromatic unit in the backbone of the polymer phenol which has a pendant group comprising a fluoro or iodo moiety, and at least one unit comprising an aminoplast. The invention further relates to a process for forming an image using the composition, especially for EUV.
摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物的底层涂料组合物，其中聚合物包含聚合物苯酚的主链中至少一个羟基芳族单元，其具有包含氟或碘部分的侧基和至少一个包含氨基塑料的单元。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法，特别是用于EUV。
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