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    STABLE METAL COMPOUNDS AS HARDMASKS AND FILLING MATERIALS, THEIR COMPOSITIONS AND METHODS OF USE
    2.
    发明申请
    STABLE METAL COMPOUNDS AS HARDMASKS AND FILLING MATERIALS, THEIR COMPOSITIONS AND METHODS OF USE 有权
    稳定的金属化合物作为硬质合金和填充材料，其组成和使用方法

    公开(公告)号：US20150064904A1

    公开(公告)日：2015-03-05

    申请号：US14015222

    申请日：2013-08-30

    申请人： Huirong YAO ,  Salem K. MULLEN ,  Elizabeth WOLFER ,  Douglas MCKENZIE ,  JoonYeon CHO ,  Munirathna PADMANABAN

    发明人： Huirong YAO ,  Salem K. MULLEN ,  Elizabeth WOLFER ,  Douglas MCKENZIE ,  JoonYeon CHO ,  Munirathna PADMANABAN

    IPC分类号： C09D185/00 ,  H01L21/033

    CPC分类号： C09D185/00 ,  C07F7/08 ,  C08G77/58 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338

    摘要： The present invention relates to novel, soluble, multi-ligand-substituted metal oxide compounds to form metal oxide films with improved stability as well as compositions made from them and methods of their use.Specifically, the invention pertains to a compounds having the following structure (I): wherein M is a metal and n is 1 to 20, and wherein at least one of R1, R2, R3, and R4 is i) and at least at least one of R1, R2, R3, and R4 is ii), where i) is a silicon bearing organic moiety having at least 2 carbons, and ii) is an organic moiety.The invention also relates to spin-coatable composition of compounds of structure (I) dissolved into a solvent. The present invention further relates to processes using this spin coatable composition to form a coating on a patterned substrate.

    摘要翻译： 本发明涉及新颖的可溶性多配体取代的金属氧化物化合物，以形成具有改进的稳定性的金属氧化物膜以及由它们制备的组合物及其使用方法。 具体地说，本发明涉及具有以下结构（I）的化合物：其中M为金属，n为1至20，并且其中R 1，R 2，R 3和R 4中的至少一个为i）并且至少至少为 R1，R2，R3和R4之一是ii），其中i）是具有至少2个碳的含硅有机部分，和ii）是有机部分。 本发明还涉及溶解在溶剂中的结构（I）化合物的可旋涂组合物。 本发明还涉及使用该可旋涂组合物在图案化基材上形成涂层的方法。

    ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS AND METHODS OF USING SAME
    5.
    发明申请
    ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS AND METHODS OF USING SAME 有权
    抗反应性组合物及其使用方法

    公开(公告)号：US20130337379A1

    公开(公告)日：2013-12-19

    申请号：US13527156

    申请日：2012-06-19

    申请人： Huirong YAO ,  Guanyang LIN ,  JoonYeon CHO

    发明人： Huirong YAO ,  Guanyang LIN ,  JoonYeon CHO

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/168 ,  G03F7/40

    摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer obtained from a reaction product of at least one amino compound chosen from the group consisting of a polymer with repeat unit of structure (1), structure (2) and mixtures thereof reacted with a hydroxy compound chosen from the group consisting of structure (3), structure (4) and mixtures thereof, and, a thermal acid generator. The invention also relates to a process for using the novel composition in lithography.

    摘要翻译： 本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物，其包含由至少一种氨基化合物的反应产物获得的聚合物，所述反应产物选自具有结构（1）的重复单元的聚合物，结构（2）及其与 选自结构（3），结构（4）及其混合物的羟基化合物，以及热酸产生剂。 本发明还涉及在光刻中使用该新型组合物的方法。