公开(公告)号：US20180259846A1

公开(公告)日：2018-09-13

申请号：US15974661

申请日：2018-05-08

申请人： ASML NETHERLANDS B.V.

发明人： Andrei Mikhailovich YAKUNIN ,  Vadim Yevgenyevich BANINE ,  Erik Roelof LOOPSTRA ,  Harmen Klaas VAN DER SCHOOT ,  Lucas Henricus Johannes STEVENS ,  Maarten VAN KAMPEN

IPC分类号： G03F1/64 ,  G03B27/54 ,  G02B5/20 ,  G02B27/00 ,  C01B32/20 ,  G03F7/20 ,  H01B1/24 ,  H01B1/04 ,  G21K1/06 ,  G03F1/24 ,  G02B5/08 ,  B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  G03F1/62

CPC分类号： G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

摘要： A pellicle that includes graphene is constructed and arranged for an EUV reticle. A multilayer mirror includes graphene as an outermost layer.

公开(公告)号：US20170052456A1

公开(公告)日：2017-02-23

申请号：US15119100

申请日：2015-01-23

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Jan Bernard Plechelmus VAN SCHOOT ,  Minne CUPERUS ,  Andrei Mikhailovich YAKUNIN

IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC分类号： G03F7/70433 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70483 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

摘要： A lithographic system including a lithographic apparatus with an anamorphic projection system, and a radiation source configured to generate an EUV radiation emitting plasma at a plasma formation location, the EUV radiation emitting plasma having an elongate form in a plane substantially perpendicular to an optical axis of the radiation source.

摘要翻译： 一种光刻系统，包括具有变形投影系统的光刻设备和被配置为在等离子体形成位置处产生EUV辐射等离子体的辐射源，所述EUV辐射发射等离子体在基本垂直于等离子体形成位置的光轴的平面中具有细长形式 辐射源。

公开(公告)号：US20170205704A1

公开(公告)日：2017-07-20

申请号：US15320749

申请日：2015-07-02

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Andrey Alexandrovich NIKIPELOV ,  Vadim Yevgenyevich BANINE ,  Jozef Petrus Henricus BENSCHOP ,  Arjen BOOGAARD ,  Florian Didier Albin DHALLUIN ,  Alexey Sergeevich KUZNETSOV ,  Mária PÉTER ,  Luigi SCACCABAROZZI ,  Willem Joan VAN DER ZANDE ,  Pieter-Jan VAN ZWOL ,  Andrei Mikhailovich YAKUNIN

IPC分类号： G03F1/62 ,  G02B5/20 ,  G03F1/38 ,  G02B5/18 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/62 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/208 ,  G03F1/24 ,  G03F1/38 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

摘要： A membrane transmissive to EUV radiation, which may be used as a pellicle or spectral filter in a lithographic apparatus. The membrane includes one or more high doped regions wherein the membrane is doped with a dopant concentration greater than 1017 cm−3, and one or more regions with low (or no) doping. The membrane may have a main substrate having low doping and one or more additional layers, wherein the high doped regions are comprised within some or all of the additional layers.

公开(公告)号：US20170017150A1

公开(公告)日：2017-01-19

申请号：US15281056

申请日：2016-09-29

申请人： ASML NETHERLANDS B.V.

发明人： Andrei Mikhailovich YAKUNIN ,  Vadim Yevgenyevich BANINE ,  Erik Roelof LOOPSTRA ,  Harmen Klaas VAN DER SCHOOT ,  Lucas Henricus Johannes STEVENS ,  Maarten VAN KAMPEN

IPC分类号： G03F1/64 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

摘要： A pellicle that includes graphene is constructed and arranged for an EUV reticle. A multilayer mirror includes graphene as an outermost layer.

摘要翻译： 包括石墨烯的防护薄膜组件被构造并布置成用于EUV掩模版。 多层反射镜包括石墨烯作为最外层。