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    Device to generate excited/ionized particles in a plasma
    3.
    发明授权
    Device to generate excited/ionized particles in a plasma 有权
    在等离子体中产生激发/电离粒子的装置

    公开(公告)号：US06706141B1

    公开(公告)日：2004-03-16

    申请号：US09625200

    申请日：2000-07-21

    申请人： Heinz Steinhardt ,  Alexander Gschwandtner ,  Josef Mathuni

    发明人： Heinz Steinhardt ,  Alexander Gschwandtner ,  Josef Mathuni

    IPC分类号： H05H100

    CPC分类号： H01J37/32229 ,  H01J37/32357 ,  H05H1/46

    摘要： A device to generate excited and/or ionized particles in plasma with a generator to generate an electromagnetic wave and at least one plasma zone, in which the excited and/or ionized particles are formed by the electromagnetic wave. The plasma zone is formed in an interior chamber of a conductor for the electromagnetic wave.

    摘要翻译： 一种用发生器产生等离子体中的激发和/或电离粒子以产生电磁波和至少一个等离子体区域的装置，其中激发和/或离子化的颗粒由电磁波形成。 等离子体区域形成在用于电磁波的同轴导体的内部室中。

    Method for generating excited neutral particles for etching and deposition processes in semiconductor technology with a plasma discharge fed by microwave energy
    4.
    发明授权
    Method for generating excited neutral particles for etching and deposition processes in semiconductor technology with a plasma discharge fed by microwave energy 失效
    用于通过微波能量馈送的等离子体放电在半导体技术中产生用于蚀刻和沉积工艺的激发中性粒子的方法

    公开(公告)号：US5489362A

    公开(公告)日：1996-02-06

    申请号：US211472

    申请日：1994-08-29

    申请人： Heinz Steinhardt ,  Josef Mathuni

    发明人： Heinz Steinhardt ,  Josef Mathuni

    IPC分类号： E05D7/086 ,  A45C13/00 ,  B62D25/12 ,  E05D11/08 ,  E05F1/12 ,  E05F5/00 ,  F16C11/04 ,  F16F1/14 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/00

    CPC分类号： H01J37/32357 ,  H01J37/32229 ,  E05Y2900/20

    摘要： A plasma discharge tube (5) having a diameter that corresponds to a quarter wavelength of the standing wave is selected and the waveguide system (2) is dimensioned and tuned such that the standing wave forms a first voltage maximum at a first side of the plasma discharge tube (5) and the standing wave is also supplied reflected, so that it forms a second, anti-phase voltage maximum at a second side of the plasma discharge tube (5) that lies opposite the first side and faces toward an end termination (12) of the waveguide system (2). A controlled magnetic field is applied in order to achieve an especially low working pressure.

    摘要翻译： PCT No.PCT / EP92 / 02268 Sec。 371日期：1994年8月29日 102（e）日期1994年8月29日PCT提交1992年9月30日PCT公布。 公开号WO93 / 07639 日期为1993年4月15日。选择具有对应于驻波的四分之一波长的直径的等离子体放电管（5），并且对波导系统（2）进行尺寸调整，使得驻波形成第一电压最大值 在等离子体放电管（5）的第一侧，并且驻波也被反射，从而在等离子体放电管（5）的与第一相对的第二侧处形成第二反相电压最大值 并朝向波导系统（2）的端部终端（12）。 施加受控磁场以实现特别低的工作压力。