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    METHOD AND SYSTEM FOR TOOL CONDITION MONITORING
    7.
    发明申请
    METHOD AND SYSTEM FOR TOOL CONDITION MONITORING 审中-公开
    工具条件监测方法与系统

    公开(公告)号：US20130150997A1

    公开(公告)日：2013-06-13

    申请号：US13314850

    申请日：2011-12-08

    申请人： Po-Feng Tsai ,  Chia-Tong Ho ,  Sunny Wu ,  Jo Fei Wang ,  Jong-I Mou ,  Chin-Hsiang Lin

    发明人： Po-Feng Tsai ,  Chia-Tong Ho ,  Sunny Wu ,  Jo Fei Wang ,  Jong-I Mou ,  Chin-Hsiang Lin

    IPC分类号： G06F19/00

    CPC分类号： C23C16/52 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

    摘要： A method and system for removing control action effects from inline measurement data for tool condition monitoring is disclosed. An exemplary method includes determining a control action effect that contributes to an inline measurement, wherein the inline measurement indicates a wafer characteristic of a wafer processed by a process tool; and evaluating the inline measurement without the control action effect contribution to determine a condition of the process tool.

    摘要翻译： 公开了一种用于从刀具状态监测的在线测量数据中去除控制动作效果的方法和系统。 一种示例性方法包括确定有助于在线测量的控制动作效果，其中在线测量指示由处理工具处理的晶片的晶片特性; 并且在没有控制动作效应贡献的情况下评估在线测量来确定过程工具的状况。

    Method for bin-based control
    8.
    发明授权
    Method for bin-based control 有权
    基于bin的控制方法

    公开(公告)号：US08041451B2

    公开(公告)日：2011-10-18

    申请号：US12427154

    申请日：2009-04-21

    申请人： Sunny Wu ,  Chih-Sheng Shih ,  Andy Tsen ,  Jo Fei Wang ,  Jong-I Mou ,  Hsin Kuan

    发明人： Sunny Wu ,  Chih-Sheng Shih ,  Andy Tsen ,  Jo Fei Wang ,  Jong-I Mou ,  Hsin Kuan

    IPC分类号： G06F7/00 ,  G06F19/00 ,  G06F17/00 ,  G06Q10/00

    CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32097 ,  G05B2219/32256 ,  G05B2219/32324 ,  G05B2219/45031 ,  G06Q10/087 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/20

    摘要： A method for providing bin-based control when manufacturing integrated circuit devices is disclosed. The method comprises performing a plurality of processes on a plurality of wafer lots; determining a required bin quantity, an actual bin quantity, and a projected bin quantity; comparing the determined required bin quantity with the determined actual bin quantity and determined projected bin quantity; and modifying at least one of the plurality of processes on the plurality of wafer lots if the determined actual bin quantity and determined projected bin quantity fail to satisfy the determined required bin quantity.

    摘要翻译： 公开了一种在制造集成电路器件时提供基于bin的控制的方法。 该方法包括在多个晶片批次上执行多个处理; 确定所需的仓数量，实际箱数量和投影箱数量; 将确定的所需仓量与确定的实际箱数量和确定的预计仓量进行比较; 以及如果所确定的实际仓量和确定的投影箱数量不能满足所确定的所需仓量，则修改多个晶片批次上的多个处理中的至少一个。

    METHOD FOR BIN-BASED CONTROL
    9.
    发明申请
    METHOD FOR BIN-BASED CONTROL 有权
    基于BIN的控制方法

    公开(公告)号：US20100268367A1

    公开(公告)日：2010-10-21

    申请号：US12427154

    申请日：2009-04-21

    申请人： Sunny Wu ,  Chih-Sheng Shih ,  Andy Tsen ,  Jo Fei Wang ,  Jong-I Mou ,  Hsin Kuan

    发明人： Sunny Wu ,  Chih-Sheng Shih ,  Andy Tsen ,  Jo Fei Wang ,  Jong-I Mou ,  Hsin Kuan

    IPC分类号： G06F17/00

    CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32097 ,  G05B2219/32256 ,  G05B2219/32324 ,  G05B2219/45031 ,  G06Q10/087 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/20

    摘要： A method for providing bin-based control when manufacturing integrated circuit devices is disclosed. The method comprises performing a plurality of processes on a plurality of wafer lots; determining a required bin quantity, an actual bin quantity, and a projected bin quantity; comparing the determined required bin quantity with the determined actual bin quantity and determined projected bin quantity; and modifying at least one of the plurality of processes on the plurality of wafer lots if the determined actual bin quantity and determined projected bin quantity fail to satisfy the determined required bin quantity.

    摘要翻译： 公开了一种在制造集成电路器件时提供基于bin的控制的方法。 该方法包括在多个晶片批次上执行多个处理; 确定所需的仓数量，实际箱数量和投影箱数量; 将确定的所需仓量与确定的实际箱数量和确定的预计仓量进行比较; 以及如果所确定的实际仓量和确定的投影箱数量不能满足所确定的所需仓量，则修改多个晶片批次上的多个处理中的至少一个。

    E-CHUCK WITH AUTOMATED CLAMPED FORCE ADJUSTMENT AND CALIBRATION
    10.
    发明申请
    E-CHUCK WITH AUTOMATED CLAMPED FORCE ADJUSTMENT AND CALIBRATION 有权
    具有自动钳位力调整和校准的电动自行车

    公开(公告)号：US20110042006A1

    公开(公告)日：2011-02-24

    申请号：US12938610

    申请日：2010-11-03

    申请人： Jo Fei Wang ,  Sunny Wu ,  Jong-I Mou

    发明人： Jo Fei Wang ,  Sunny Wu ,  Jong-I Mou

    IPC分类号： H01L21/46 ,  G06F19/00 ,  H01L21/465

    CPC分类号： H01L21/6831 ,  H01L22/20 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S438/909 ,  H01L2924/00

    摘要： The present disclosure describes a semiconductor manufacturing apparatus. The apparatus includes a processing chamber designed to perform a process to a wafer; an electrostatic chuck (E-chuck) configured in the processing chamber and designed to secure the wafer, wherein the E-chuck includes an electrode and a dielectric feature formed on the electrode; a tuning structure designed to hold the E-chuck to the processing chamber by clamping forces, wherein the tuning structure is operable to dynamically adjust the clamping forces; a sensor integrated with the E-chuck and sensitive to the clamping forces; and a process control module for controlling the tuning structure to adjust the clamping forces based on pre-measurement data from the wafer and sensor data from the sensor.

    摘要翻译： 本公开描述了一种半导体制造装置。 该设备包括设计成对晶片执行处理的处理室; 配置在所述处理室中并设计成固定所述晶片的静电卡盘（E卡盘），其中所述E卡盘包括形成在所述电极上的电极和电介质特征; 调谐结构，其被设计成通过夹紧力将所述E卡盘保持在所述处理室中，其中所述调谐结构可操作以动态地调节所述夹紧力; 与E型卡盘集成并对夹紧力敏感的传感器; 以及过程控制模块，用于基于来自晶片的预测量数据和来自传感器的传感器数据来控制调谐结构以调整夹紧力。