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    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
    1.
    发明申请
    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films 有权
    用于沉积亲水涂层的方法和设备，以及用于薄膜的沉积技术

    公开(公告)号：US20060118408A1

    公开(公告)日：2006-06-08

    申请号：US11129820

    申请日：2005-05-16

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/00

    CPC分类号： C23C14/568 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/36 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/352

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
    2.
    发明申请
    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films 有权
    亲水性涂料，沉积亲水性涂料的方法和改进的薄膜沉积技术

    公开(公告)号：US20060121315A1

    公开(公告)日：2006-06-08

    申请号：US11293032

    申请日：2005-12-02

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B18/00 ,  B32B19/00

    CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/3464 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/266

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
    4.
    发明授权
    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films 有权
    用于沉积亲水涂层的方法和设备，以及用于薄膜的沉积技术

    公开(公告)号：US08092660B2

    公开(公告)日：2012-01-10

    申请号：US11129820

    申请日：2005-05-16

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： C23C14/00

    CPC分类号： C23C14/568 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/36 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/352

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
    6.
    发明授权
    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films 有权
    亲水性涂料，沉积亲水性涂料的方法和改进的薄膜沉积技术

    公开(公告)号：US07923114B2

    公开(公告)日：2011-04-12

    申请号：US11293032

    申请日：2005-12-02

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B9/00

    CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/3464 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/266

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    TWO-PIECE CABLE TIE SUITABLE FOR USE IN AN AUTOMATED CABLE TIE INSTALLATION TOOL
    9.
    发明申请
    TWO-PIECE CABLE TIE SUITABLE FOR USE IN AN AUTOMATED CABLE TIE INSTALLATION TOOL 有权
    适用于自动电缆安装工具的双层电缆

    公开(公告)号：US20060254031A1

    公开(公告)日：2006-11-16

    申请号：US11382508

    申请日：2006-05-10

    申请人： Jonathan DeMik ,  James Brownlee ,  William Bernard ,  Jerry Leanna

    发明人： Jonathan DeMik ,  James Brownlee ,  William Bernard ,  Jerry Leanna

    IPC分类号： B65D67/02 ,  B65D63/00

    CPC分类号： B65D63/1036 ,  Y10T24/1498

    摘要： A two-piece cable tie is provided that is capable of usage with an automated cable tie installation tool. The two-piece cable tie accommodates improved gripping of large or small bundles. By including a cored-out region near the neck, the cable tie can secure a near zero bundle size. By including a transverse pad on the bottom side of the cable tie strap near the cable tie head, the cable tie can be prevented from rotation relative to the bundle to which is it secured. A preferred cable tie strap has a wide recessed center section and high side rails that increase lateral clamping force. To resist barb inversion, the cable tie preferably includes a reinforcement area underneath the metal locking device when used with a strap having a recessed area. By maintaining relatively high side rails and a thin web section in the tip, the cable tie can achieve zero insertion force while maintaining sufficient strap rigidity and size to enable feeding of the strap through an automated cable tie installation tool.

    摘要翻译： 提供两件式电缆扎带，可以使用自动电缆扎带安装工具。 两片式电缆扎带可以改善大束或小束的夹持。 通过在颈部附近包括一个核心区域，电缆扎带可以保持接近零束尺寸。 通过在电缆扎带头附近的电缆扎带的底侧上包括横向垫片，可以防止电缆扎带相对于固定到其上的束头旋转。 优选的电缆扎带具有宽的凹入中心部分和增加横向夹紧力的高侧轨道。 为了防止倒钩反转，当与具有凹陷区域的带一起使用时，电缆扎带优选地包括金属锁定装置下方的加强区域。 通过在尖端保持相对较高的侧轨和薄的腹板部分，电缆扎带可以实现零插入力，同时保持足够的带子刚度和尺寸，以使得能够通过自动电缆扎带安装工具进给皮带。