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    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
    1.
    发明申请
    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films 有权
    用于沉积亲水涂层的方法和设备，以及用于薄膜的沉积技术

    公开(公告)号：US20060118408A1

    公开(公告)日：2006-06-08

    申请号：US11129820

    申请日：2005-05-16

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/00

    CPC分类号： C23C14/568 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/36 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/352

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
    2.
    发明授权
    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films 有权
    用于沉积亲水涂层的方法和设备，以及用于薄膜的沉积技术

    公开(公告)号：US08092660B2

    公开(公告)日：2012-01-10

    申请号：US11129820

    申请日：2005-05-16

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： C23C14/00

    CPC分类号： C23C14/568 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/36 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/352

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
    3.
    发明申请
    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films 有权
    亲水性涂料，沉积亲水性涂料的方法和改进的薄膜沉积技术

    公开(公告)号：US20060121315A1

    公开(公告)日：2006-06-08

    申请号：US11293032

    申请日：2005-12-02

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B18/00 ,  B32B19/00

    CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/3464 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/266

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
    4.
    发明授权
    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films 有权
    亲水性涂料，沉积亲水性涂料的方法和改进的薄膜沉积技术

    公开(公告)号：US07923114B2

    公开(公告)日：2011-04-12

    申请号：US11293032

    申请日：2005-12-02

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B9/00

    CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/3464 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/266

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Presence indicator for removable transparent film
    5.
    发明授权
    Presence indicator for removable transparent film 有权
    可拆卸透明胶片的存在指示

    公开(公告)号：US07267880B2

    公开(公告)日：2007-09-11

    申请号：US10866936

    申请日：2004-06-14

    申请人： Leah Miller ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig ,  Roger O'Shaughnessy ,  Gary Pfaff

    发明人： Leah Miller ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig ,  Roger O'Shaughnessy ,  Gary Pfaff

    IPC分类号： B32B17/06

    CPC分类号： C03C17/34 ,  C03C17/3417 ,  C03C17/3423 ,  C03C2218/355 ,  C23C14/0005 ,  Y10T428/24802

    摘要： A substrate having a surface carrying a removable transparent film that can be removed by the surface by a desired washing process, and removable presence indicator associated with the removable transparent film, the presence indicator being removable by the same desired washing process as the removable transparent film. A method of producing a substrate having a presence indicator in contact with a removable transparent film a method of washing a substrate having a presence indicator in contact with a removable transparent film are also disclosed.

    摘要翻译： 具有表面的基底，其具有可移除的透明膜，其可以通过所需的洗涤过程被表面除去，以及与可移除的透明膜相关联的可移除存在指示器，该存在指示器可通过与可移除的透明膜相同的所需洗涤过程来移除 。 还公开了一种制造具有与可去除的透明膜接触的存在指示器的基板的方法，其中洗涤具有与可移除透明膜接触的存在指示器的基板的方法。

    Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces
    8.
    发明申请
    Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces 审中-公开
    低辐射率，玻璃表面的防污涂层

    公开(公告)号：US20060115655A1

    公开(公告)日：2006-06-01

    申请号：US11281237

    申请日：2005-11-16

    申请人： Annette Krisko ,  Bob Bond ,  Roger Stanek ,  Gary Pfaff ,  Klaus Hartig

    发明人： Annette Krisko ,  Bob Bond ,  Roger Stanek ,  Gary Pfaff ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B17/06

    CPC分类号： C03C17/366 ,  B32B17/10036 ,  B32B17/10174 ,  B32B17/10761 ,  C03C17/3417 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3681 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/77 ,  C03C2218/15 ,  C03C2218/152 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  Y10T428/31616

    摘要： A glass article that has a water-sheeting coating and methods of applying coating to a substrate are described. In certain embodiments, a water-sheeting coating 20 comprising silica is sputtered directly over a pyrolytic dielectric film over a glass sheet. In some cases, the exterior face of this water-sheeting coating is substantially non-porous but has an irregular surface. The water-sheeting coating causes water applied to the coated surface to sheet, making the glass article easier to clean and helping the glass stay clean longer. One embodiment provides an IG unit having a low-emissivity coating on its #2 surface, and having on its #4 surface a sputtered silica film over a pyrolytic dielectric layer.

    摘要翻译： 描述了具有水膜涂层的玻璃制品和将涂层施加到基底的方法。 在某些实施方案中，将包含二氧化硅的水涂层20直接溅射在玻璃板上的热解电介质膜上。 在一些情况下，该水涂层的外表面基本上是无孔的，但具有不规则的表面。 水涂层将涂布表面的水施加到片材上，使得玻璃制品更容易清洁，并帮助玻璃保持更长的清洁时间。 一个实施例提供了在其＃2表面上具有低发射率涂层的IG单元，并且在其＃4表面上在热解介电层上方具有溅射二氧化硅膜。