公开(公告)号：US20160160083A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：US14905635

申请日：2014-07-08

Applicant: BASF SE

Inventor： Michael LAUTER ,  Yuzhuo Li ,  Bastian Marten NOLLER ,  Roland LANGE ,  Robert REICHARDT ,  Yongqing LAN ,  Volodymyr BOYKO ,  Alexander KRAUS ,  Joachim Von SEYERL ,  Sheik Ansar USMAN IBRAHIM ,  Aax SIEBERT ,  Kristine HARTNAGEL ,  Joachim DENGLER ,  Nina Susanne HILLESHEIM

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/306

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09D5/027 ,  C09D7/65 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: Described is a chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising abrasive particles containing ceria.

Abstract translation: 描述了包含含有二氧化铈的磨料颗粒的化学机械抛光（CMP）组合物。