公开(公告)号：US20040148859A1

公开(公告)日：2004-08-05

申请号：US10479009

申请日：2003-11-24

Applicant: Casio Computer Co., LTD.

Inventor： Yoshihiro Kawamura ,  Naotsugu Ogura ,  Akira Igarashi

IPC: B01J007/00 ,  B01J008/00 ,  B01J008/04

CPC classification number: H01M8/0631 ,  B01J19/0093 ,  B01J19/249 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00828 ,  B01J2219/00835 ,  B01J2219/00873 ,  B01J2219/00961 ,  B01J2219/2453 ,  B01J2219/2458 ,  B01J2219/2465 ,  B01J2219/2467 ,  B01J2219/2479 ,  C01B3/323 ,  C01B3/384 ,  C01B2203/0227 ,  C01B2203/066 ,  C01B2203/0811 ,  C01B2203/0822 ,  C01B2203/0827 ,  C01B2203/1288 ,  H01M8/0618 ,  H01M8/0668 ,  H01M16/006 ,  Y02P20/128

Abstract: A chemical reaction apparatus includes a solid body in which a reaction flow path is formed, and a heater having a thin-film heater formed on the body to oppose the reaction flow path and at least partially exposed to the reaction flow path, and which supplies a predetermined heat amount to the reaction flow path by the thin-film heater.

Abstract translation: 化学反应装置包括其中形成有反应流路的固体，以及具有薄膜加热器的加热器，该薄膜加热器形成在主体上以与反应流动路径相对并且至少部分地暴露于反应流动路径，并且其供应 通过薄膜加热器对反应流路的预定热量。

公开(公告)号：US20040025784A1

公开(公告)日：2004-02-12

申请号：US10634380

申请日：2003-08-04

Applicant: Casio Computer Co., Ltd.

Inventor： Yoshihiro Kawamura ,  Naotsugu Ogura

IPC: C30B001/00

CPC classification number: H01M8/0267 ,  B01J19/0093 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00835 ,  B01J2219/00873 ,  C01B3/323 ,  C01B2203/0233 ,  C01B2203/0283 ,  C01B2203/044 ,  C01B2203/047 ,  C01B2203/066 ,  C01B2203/0811 ,  C01B2203/0822 ,  C01B2203/0827 ,  C01B2203/1076 ,  C01B2203/1223 ,  C01B2203/1288 ,  H01M8/0263 ,  H01M8/0271 ,  H01M8/04074 ,  Y02P20/128 ,  Y02P20/52 ,  Y10T117/10

Abstract: The compact chemical reactor includes a first substrate, a second substrate attached to the first substrate. A micro flow path is defined between the first substrate and the second substrate. A thin film heater provided in the flow path.

Abstract translation: 紧凑型化学反应器包括第一基板，附接到第一基板的第二基板。 在第一衬底和第二衬底之间限定微流动路径。 设置在流路中的薄膜加热器。

公开(公告)号：US20040018129A1

公开(公告)日：2004-01-29

申请号：US10628924

申请日：2003-07-28

Applicant: Casio Computer Co., Ltd.

Inventor： Yoshihiro Kawamura ,  Naotsuga Ogura

IPC: B01J008/02

CPC classification number: C01B3/48 ,  B01J19/0093 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00822 ,  B01J2219/00828 ,  B01J2219/00835 ,  B01J2219/0086 ,  C01B3/323 ,  C01B2203/00 ,  C01B2203/0233 ,  C01B2203/0283 ,  C01B2203/044 ,  C01B2203/047 ,  C01B2203/066 ,  C01B2203/0811 ,  C01B2203/085 ,  C01B2203/0866 ,  C01B2203/1035 ,  C01B2203/1041 ,  C01B2203/1076 ,  C01B2203/1205 ,  C01B2203/1223 ,  C01B2203/1288 ,  C01B2203/82 ,  C01B2203/84 ,  H01M8/0618 ,  Y02P70/56

Abstract: A compact chemical reactor has a first substrate. A catalyst layer is provided on an inner surface of a groove formed in a first surface of the first substrate. A second substrate, in which a concave portion to receive a portion of the catalyst layer is formed on a surface opposite to the first surface of the substrate, contacts the first substrate on the opposite surface.

Abstract translation: 紧凑的化学反应器具有第一衬底。 催化剂层设置在形成在第一基板的第一表面中的槽的内表面上。 第二基板，其中，在与基板的第一表面相对的表面上形成有用于接收催化剂层的一部分的凹部与相对表面上的第一基板接触。

公开(公告)号：US20030190508A1

公开(公告)日：2003-10-09

申请号：US10405840

申请日：2003-04-02

Applicant: Casio Computer Co., Ltd.

Inventor： Keishi Takeyama ,  Yoshihiro Kawamura ,  Osamu Nakamura

IPC: H01M008/06

CPC classification number: H01M8/0668 ,  B01J19/0093 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00835 ,  B01J2219/00873 ,  B01J2219/00961 ,  C01B3/38 ,  C01B2203/0233 ,  C01B2203/044 ,  C01B2203/047 ,  C01B2203/085 ,  C01B2203/1294 ,  H01M8/0612 ,  H01M2008/1293

Abstract: A chemical reaction apparatus includes at least one reaction region formed on a solid body and having a continuously formed reaction flow path to which a fluid material is supplied, and a temperature adjusting layer which is provided on the body to correspond to a region including the reaction flow path and portions between adjacent portions of the reaction flow path. The temperature adjusting layer supplies a predetermined heat quantity to the reaction flow path.

Abstract translation: 一种化学反应装置包括形成在固体上并具有连续形成的反应流动路径的至少一个反应区域，流体材料供应到该反应流路;以及温度调节层，其设置在主体上以对应于包括反应的区域 流路和反应流路的相邻部分之间的部分。 温度调节层向反应流路供给规定的热量。