利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

5 条记录 (耗时 0.02 秒)

    Immersion lithography contamination gettering layer
    2.
    发明申请
    Immersion lithography contamination gettering layer 失效
    浸没光刻污染吸气层

    公开(公告)号：US20060275706A1

    公开(公告)日：2006-12-07

    申请号：US11144857

    申请日：2005-06-03

    申请人： Daniel Corliss ,  Dario Gil ,  Dario Goldfarb ,  Steven Holmes ,  David Horak ,  Kurt Kimmel ,  Karen Petrillo ,  Dmitriy Shneyder

    发明人： Daniel Corliss ,  Dario Gil ,  Dario Goldfarb ,  Steven Holmes ,  David Horak ,  Kurt Kimmel ,  Karen Petrillo ,  Dmitriy Shneyder

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  Y10S430/162

    摘要： A method of forming an image in a photoresist layer. The method includes, providing a substrate; forming the photoresist layer over the substrate; forming a contamination gettering topcoat layer over the photoresist layer, the contamination gettering topcoat layer including one or more polymers and one or more cation complexing agents; exposing the photoresist layer to actinic radiation through a photomask having opaque and clear regions, the opaque regions blocking the actinic radiation and the clear regions being transparent to the actinic radiation, the actinic radiation changing the chemical composition of regions of the photoresist layer exposed to the radiation forming exposed and unexposed regions in the photoresist layer; and removing either the exposed regions of the photoresist layer or the unexposed regions of the photoresist layer. The contamination gettering topcoat layer includes one or more polymers, one or more cation complexing agents and a casting solvent.

    摘要翻译： 在光致抗蚀剂层中形成图像的方法。 该方法包括提供基板; 在衬底上形成光致抗蚀剂层; 在光致抗蚀剂层上形成污染吸气顶涂层，吸收顶涂层的污染物包括一种或多种聚合物和一种或多种阳离子络合剂; 将光致抗蚀剂层暴露于通过具有不透明和透明区域的光掩模的光化辐射，不透明区域阻挡光化辐射，透明区域对于光化辐射是透明的，光化辐射改变曝光于光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂层的区域的化学组成 在光致抗蚀剂层中形成曝光和未曝光区域的辐射; 以及去除光致抗蚀剂层的曝光区域或光致抗蚀剂层的未曝光区域。 污染吸附顶涂层包括一种或多种聚合物，一种或多种阳离子络合剂和流延溶剂。

    METHOD AND APPARATUS FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
    4.
    发明申请
    METHOD AND APPARATUS FOR IMMERSION LITHOGRAPHY 失效
    用于倾斜图的方法和装置

    公开(公告)号：US20060103830A1

    公开(公告)日：2006-05-18

    申请号：US10904599

    申请日：2004-11-18

    申请人： Steven Holmes ,  Toshiharu Furukawa ,  Mark Hakey ,  Daniel Corliss ,  David Horak ,  Charles Koburger

    发明人： Steven Holmes ,  Toshiharu Furukawa ,  Mark Hakey ,  Daniel Corliss ,  David Horak ,  Charles Koburger

    IPC分类号： G03B27/58

    CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

    摘要： An apparatus for holding a wafer and a method for immersion lithography. The apparatus, including a wafer chuck having a central circular vacuum platen, an outer region, and a circular groove centered on the vacuum platen, a top surface of the vacuum platen recessed below a top surface of the outer region and a bottom surface of the groove recessed below the top surface of the vacuum platen; one or more suction ports in the bottom surface of the groove; and a hollow toroidal inflatable and deflatable bladder positioned within the groove.

    摘要翻译： 一种用于保持晶片的装置和浸没式光刻方法。 该装置包括具有中心圆形真空压板的圆盘卡盘，外部区域和以真空压板为中心的圆形槽，真空压板的顶表面凹入到外部区域的顶表面之下，底部表面 凹槽凹陷在真空压板的顶表面下方; 在槽的底表面中的一个或多个吸入口; 以及定位在槽内的空心环形充气和可放气的囊。

    Focus blur measurement and control method
    5.
    发明申请
    Focus blur measurement and control method 失效
    聚焦模糊测量和控制方法

    公开(公告)号：US20070041003A1

    公开(公告)日：2007-02-22

    申请号：US11206326

    申请日：2005-08-18

    申请人： Christopher Ausschnitt ,  Timothy Brunner ,  Shahid Butt ,  Daniel Corliss

    发明人： Christopher Ausschnitt ,  Timothy Brunner ,  Shahid Butt ,  Daniel Corliss

    IPC分类号： G03B27/52

    CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70625

    摘要： A method for optimizing imaging and process parameter settings in a lithographic pattern imaging and processing system. The method includes correlating the dimensions of a first set of at least one control pattern printed in a lithographic resist layer, measured at three or more locations on or within the pattern which correspond to differing dose, defocus and blur sensitivity. The method then includes measuring the dimensions on subsequent sets of control patterns, printed in a lithographic resist layer, at three or more locations on or within each pattern, of which a minimum of three locations match those measured in the first set, and determining the effective dose, defocus and blur values associated with forming the subsequent sets of control patterns by comparing the dimensions at the matching locations with the correlated dependencies.

    摘要翻译： 一种用于优化光刻图案成像和处理系统中的成像和工艺参数设置的方法。 该方法包括将印刷在光刻抗蚀剂层中的至少一个控制图案的第一组的尺寸相关联，在对应于不同剂量，散焦和模糊灵敏度的图案之上或之内的三个或更多个位置处测量。 该方法然后包括测量印刷在光刻抗蚀剂层中的随后的一组控制图案上的尺寸，位于每个图案上或每个图案上的三个或更多个位置，其中最少三个位置与在第一组中测量的位置匹配，并且确定 通过将匹配位置处的尺寸与相关依赖关系进行比较来形成随后的控制模式组相关联的有效剂量，散焦和模糊值。