公开(公告)号：US07288155B2

公开(公告)日：2007-10-30

申请号：US11128022

申请日：2005-05-12

申请人： John P. Simons ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John M. Cotte ,  Keith R. Pope ,  Charles J. Taft ,  Dario Goldfarb

发明人： John P. Simons ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John M. Cotte ,  Keith R. Pope ,  Charles J. Taft ,  Dario Goldfarb

IPC分类号： B08B3/00 ,  B08B7/04

CPC分类号： H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

摘要： A method for cleaning a semiconductor structure including providing a chamber for holding the semiconductor structure and a dense phase fluid, providing a thermal transfer device having a thermal transfer surface, connecting the thermal transfer device to the chamber, placing the semiconductor structure in the chamber in contact with the thermal transfer surface and thermally cycling the thermal transfer surface.

摘要翻译： 一种用于清洁半导体结构的方法，包括提供用于保持半导体结构的腔室和致密相流体，提供具有热转印表面的热转印装置，将热转印装置连接到腔室，将半导体结构放置在腔室中 与热转印表面接触并热循环热转印表面。

公开(公告)号：US20070034605A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：US11161630

申请日：2005-08-10

申请人： Daniel Corliss ,  Dario Goldfarb ,  Steven Holmes ,  Kurt Kimmel ,  Michael Lercel

发明人： Daniel Corliss ,  Dario Goldfarb ,  Steven Holmes ,  Kurt Kimmel ,  Michael Lercel

IPC分类号： B44C1/22 ,  H01L21/306 ,  C23F1/00

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  Y10T428/12542 ,  Y10T428/31663

摘要： A novel arrangement and method for depositing evaporation control agents so as to coat immersion lithographic solutions which are employed on the surface of semiconductor wafers in connection with the etching of the surfaces of the wafer through the intermediary of an immersion lithographic process.

摘要翻译： 一种用于沉积蒸发控制剂的新颖的布置和方法，以便通过介于浸没式光刻工艺的介质蚀刻半导体晶片的表面来涂覆浸没式光刻溶液。

公开(公告)号：US20060275706A1

公开(公告)日：2006-12-07

申请号：US11144857

申请日：2005-06-03

申请人： Daniel Corliss ,  Dario Gil ,  Dario Goldfarb ,  Steven Holmes ,  David Horak ,  Kurt Kimmel ,  Karen Petrillo ,  Dmitriy Shneyder

发明人： Daniel Corliss ,  Dario Gil ,  Dario Goldfarb ,  Steven Holmes ,  David Horak ,  Kurt Kimmel ,  Karen Petrillo ,  Dmitriy Shneyder

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  Y10S430/162

摘要： A method of forming an image in a photoresist layer. The method includes, providing a substrate; forming the photoresist layer over the substrate; forming a contamination gettering topcoat layer over the photoresist layer, the contamination gettering topcoat layer including one or more polymers and one or more cation complexing agents; exposing the photoresist layer to actinic radiation through a photomask having opaque and clear regions, the opaque regions blocking the actinic radiation and the clear regions being transparent to the actinic radiation, the actinic radiation changing the chemical composition of regions of the photoresist layer exposed to the radiation forming exposed and unexposed regions in the photoresist layer; and removing either the exposed regions of the photoresist layer or the unexposed regions of the photoresist layer. The contamination gettering topcoat layer includes one or more polymers, one or more cation complexing agents and a casting solvent.

摘要翻译： 在光致抗蚀剂层中形成图像的方法。 该方法包括提供基板; 在衬底上形成光致抗蚀剂层; 在光致抗蚀剂层上形成污染吸气顶涂层，吸收顶涂层的污染物包括一种或多种聚合物和一种或多种阳离子络合剂; 将光致抗蚀剂层暴露于通过具有不透明和透明区域的光掩模的光化辐射，不透明区域阻挡光化辐射，透明区域对于光化辐射是透明的，光化辐射改变曝光于光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂层的区域的化学组成 在光致抗蚀剂层中形成曝光和未曝光区域的辐射; 以及去除光致抗蚀剂层的曝光区域或光致抗蚀剂层的未曝光区域。 污染吸附顶涂层包括一种或多种聚合物，一种或多种阳离子络合剂和流延溶剂。

公开(公告)号：US20070177124A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：US11307230

申请日：2006-01-27

申请人： Dmitriy Shneyder ,  Raschid Bezama ,  Dario Goldfarb ,  Kafai Lai

发明人： Dmitriy Shneyder ,  Raschid Bezama ,  Dario Goldfarb ,  Kafai Lai

IPC分类号： G03B27/62

CPC分类号： G03D3/02 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70916 ,  H01L21/68735

摘要： An apparatus for reducing contamination in immersion lithography includes a wafer chuck assembly having a wafer chuck configured to hold a semiconductor wafer on a support surface thereof. The wafer chuck has a gap therein, the gap located adjacent an outer edge of the wafer, and the gap containing a volume of immersion lithography fluid therein. A fluid circulation path is configured within the wafer chuck so as to facilitate the radial outward movement of the immersion lithography fluid in the gap, thereby maintaining a meniscus of the immersion lithography fluid at a selected height with respect to a top surface of the semiconductor wafer.

摘要翻译： 一种用于减少浸没式光刻中的污染的装置包括晶片卡盘组件，其具有构造成将半导体晶片保持在其支撑表面上的晶片卡盘。 晶片卡盘在其中具有间隙，间隙位于晶片的外边缘附近，并且该间隙包含一定量的浸没光刻流体。 流体循环路径被配置在晶片卡盘内，以便于浸没式光刻流体在间隙中的径向向外移动，从而将浸没式光刻流体的弯月面相对于半导体晶片的顶表面保持在选定的高度 。

公开(公告)号：US20070148598A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11317089

申请日：2005-12-24

申请人： Matthew Colburn ,  Dario Goldfarb

发明人： Matthew Colburn ,  Dario Goldfarb

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F1/50

摘要： A method for fabricating a dual damascene structure includes providing a multi-layer photoresist stack comprising a first photoresist layer and a second photoresist layer, wherein each photoresist layer has a distinct dose-to-clear value, exposing said photoresist stack to one or more predetermined patterns of light, and developing said photo-resist layers to form a multi-tiered structure in the photo-resist layers.

摘要翻译： 一种用于制造双镶嵌结构的方法包括提供包括第一光致抗蚀剂层和第二光致抗蚀剂层的多层光致抗蚀剂层，其中每个光致抗蚀剂层具有不同的剂量至清除值，将所述光致抗蚀剂层暴露于一个或多个预定的 并且显影所述光致抗蚀剂层以在光致抗蚀剂层中形成多层结构。

公开(公告)号：US20050245094A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：US10709406

申请日：2004-05-03

申请人： Colin Brodsky ,  Scott Bukofsky ,  Dario Goldfarb ,  Scott Halle

发明人： Colin Brodsky ,  Scott Bukofsky ,  Dario Goldfarb ,  Scott Halle

IPC分类号： G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/312 ,  H01L21/469

CPC分类号： G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31127 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/312

摘要： A method is provided for preparing a substrate for photolithographic patterning. The method includes providing a substrate having at least an exposed rough surface layer including a polymeric material. The rough surface layer has surface features characterized by feature step height varying between about two percent and twenty percent of the minimum photolithographic half-pitch. A layer of photoresist material is then provided over the exposed rough surface layer and patterned.

摘要翻译： 提供了一种制备用于光刻图案的衬底的方法。 该方法包括提供具有至少暴露的包含聚合材料的粗糙表面层的基底。 粗糙表面层具有表征特征，其特征在于最小光刻半间距的约百分之二到百分之二的特征步长。 然后在暴露的粗糙表面层上提供一层光致抗蚀剂材料并图案化。

公开(公告)号：US20050211269A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11128022

申请日：2005-05-12

申请人： John Simons ,  Kenneth McCullough ,  Wayne Moreau ,  John Cotte ,  Keith Pope ,  Charles Taft ,  Dario Goldfarb

发明人： John Simons ,  Kenneth McCullough ,  Wayne Moreau ,  John Cotte ,  Keith Pope ,  Charles Taft ,  Dario Goldfarb

IPC分类号： B08B7/00 ,  H01L21/00 ,  C23G1/00

CPC分类号： H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

摘要： A surface cleaning apparatus comprising a chamber, and a thermal transfer device. The chamber is capable of holding a semiconductor structure therein. The thermal transfer device is connected to the chamber. The thermal transfer device has a surface disposed inside the chamber for contacting the semiconducting structure and controlling a temperature of the semiconductor structure in contact with the surface. The thermal transfer device has a thermal control module connected to the surface for heating and cooling the surface to thermally cycle the surface. The thermal control module effects a substantially immediate thermal response of the surface when thermally recycling the surface.

摘要翻译： 一种表面清洁装置，包括腔室和热转印装置。 该室能够在其中保持半导体结构。 热传递装置连接到腔室。 热传递装置具有设置在室内的表面，用于接触半导体结构并控制与表面接触的半导体结构的温度。 热转印装置具有连接到表面的热控制模块，用于加热和冷却表面以使表面热循环。 当热再循环表面时，热控制模块会对表面产生实质上即时的热响应。

公开(公告)号：US20070254237A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380782

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  SEAN BURNS ,  DARIO GOLDFARB ,  DAVID MEDEIROS ,  DIRK PFEIFFER ,  MATT PINNOW ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  SEAN BURNS ,  DARIO GOLDFARB ,  DAVID MEDEIROS ,  DIRK PFEIFFER ,  MATT PINNOW ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a topcoat composition comprising a polymer having a dissolution rate of at least 1500 Å/second in an aqueous alkaline developer, and at least one solvent. The topcoat composition can be used to coat a photoresist layer on a material layer on a substrate, for example, a semiconductor chip. Also disclosed is a method of forming a pattern in the material layer of the coated substrate.

摘要翻译： 公开了一种面漆组合物，其包含在含水碱性显影剂中溶解速率至少为1500埃的聚合物和至少一种溶剂。 面漆组合物可用于在基板上的材料层上涂覆光致抗蚀剂层，例如半导体芯片。 还公开了在涂覆的基材的材料层中形成图案的方法。

公开(公告)号：US20070188731A1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：US11307669

申请日：2006-02-16

申请人： Raschid Bezama ,  Dario Goldfarb ,  Kafai Lai ,  Xiao Liu ,  Dmitriy Shneyder

发明人： Raschid Bezama ,  Dario Goldfarb ,  Kafai Lai ,  Xiao Liu ,  Dmitriy Shneyder

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707

摘要： An apparatus for reducing contamination in immersion lithography includes a wafer chuck assembly including a wafer chuck configured to hold a semiconductor wafer on a support surface thereof. An O-ring assembly has a deformable O-ring attached to movable support sections arranged in a generally circular configuration so as to surround the wafer.

摘要翻译： 一种用于减少浸没式光刻中的污染的装置包括晶片卡盘组件，其包括构造成将半导体晶片保持在其支撑表面上的晶片卡盘。 O形环组件具有可变形的O形环，其可连接到以大致圆形构造布置的可移动支撑部分，以便围绕晶片。

公开(公告)号：US20050224748A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：US10966301

申请日：2004-10-15

申请人： John Cotte ,  Dario Goldfarb ,  Pamela Jones ,  Kenneth McCullough ,  Wayne Moreau ,  Keith Pope ,  John Simons ,  Charles Taft

发明人： John Cotte ,  Dario Goldfarb ,  Pamela Jones ,  Kenneth McCullough ,  Wayne Moreau ,  Keith Pope ,  John Simons ,  Charles Taft

IPC分类号： B08B7/00 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/28 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  C23G1/00

CPC分类号： H01L21/02071 ,  B08B7/0021 ,  C11D7/08 ,  C11D7/265 ,  C11D7/28 ,  C11D7/50 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/31116

摘要： A composition which includes liquid or supercritical carbon dioxide and an acid having a pKa of less than about 4. The composition is employed in a process of removing residue from a precision surface, such as a semiconductor sample, in which the precision surface is contacted with the composition under thermodynamic conditions consistent with the retention of the liquid or supercritical carbon dioxide in the liquid or supercritical state.

摘要翻译： 包括液体或超临界二氧化碳和pKa小于约4的酸的组合物。该组合物用于从精密表面与精密表面接触的精密表面（例如半导体样品）中除去残余物的方法 在热力学条件下的组成与液体或超临界二氧化碳在液体或超临界状态下的保留一致。