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    Device and method for determining an optical property of a mask
    3.
    发明授权
    Device and method for determining an optical property of a mask 有权
    用于确定掩模的光学特性的装置和方法

    公开(公告)号：US07864319B2

    公开(公告)日：2011-01-04

    申请号：US12229087

    申请日：2008-08-20

    申请人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Klaus Rinn ,  Frank Laske

    发明人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Klaus Rinn ,  Frank Laske

    IPC分类号： G01B11/00

    CPC分类号： G01B11/03 ,  G01M11/0257 ,  G03F1/84

    摘要： A coordinate measuring machine (1) including a plane (25a) in which there is arranged a movable measurement table (20) moving the mask (2) correspondingly in the plane (25a), at least one objective (9) and a detector (11), an incident light source (14) arranged to provide incident light and/or a transmitted light source (6) arranged to provide transmitted light, wherein the mask (2) has at least a first area (41) and a second area (42), wherein the first area (41) and the second area (42) comprise different materials differing in their transmission or reflection properties.

    摘要翻译： 一种坐标测量机（1），包括平面（25a），其中布置有在平面（25a）中相应地移动掩模（2）的可移动测量台（20），至少一个物镜（9）和检测器 布置成提供入射光的入射光源（14）和/或布置成提供透射光的透射光源（6），其中所述掩模（2）至少具有第一区域（41）和第二区域 （42），其中所述第一区域（41）和所述第二区域（42）包括其透射或反射特性不同的不同材料。

    Device and method for determining an optical property of a mask
    4.
    发明申请
    Device and method for determining an optical property of a mask 有权
    用于确定掩模的光学特性的装置和方法

    公开(公告)号：US20090066955A1

    公开(公告)日：2009-03-12

    申请号：US12229087

    申请日：2008-08-20

    申请人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Klaus Rinn ,  Frank Laske

    发明人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Klaus Rinn ,  Frank Laske

    IPC分类号： G01B11/00

    CPC分类号： G01B11/03 ,  G01M11/0257 ,  G03F1/84

    摘要： A coordinate measuring machine (1) including a plane (25a) in which there is arranged a movable measurement table (20) moving the mask (2) correspondingly in the plane (25a), at least one objective (9) and a detector (11), an incident light source (14) arranged to provide incident light and/or a transmitted light source (6) arranged to provide transmitted light, wherein the mask (2) has at least a first area (41) and a second area (42), wherein the first area (41) and the second area (42) comprise different materials differing in their transmission or reflection properties.

    摘要翻译： 一种坐标测量机（1），包括平面（25a），其中布置有在平面（25a）中相应地移动掩模（2）的可移动测量台（20），至少一个物镜（9）和检测器 布置成提供入射光的入射光源（14）和/或布置成提供透射光的透射光源（6），其中所述掩模（2）至少具有第一区域（41）和第二区域 （42），其中所述第一区域（41）和所述第二区域（42）包括其透射或反射特性不同的不同材料。

    Method for the reproducible determination of the position of structures on a mask with a pellicle frame
    5.
    发明授权
    Method for the reproducible determination of the position of structures on a mask with a pellicle frame 有权
    用于在具有防护薄膜组件框架的掩模上重新确定结构位置的方法

    公开(公告)号：US08352886B2

    公开(公告)日：2013-01-08

    申请号：US13030665

    申请日：2011-02-18

    申请人： Frank Laske ,  Christian Enkrich ,  Eric Cotte

    发明人： Frank Laske ,  Christian Enkrich ,  Eric Cotte

    IPC分类号： G06F17/50 ,  G06G11/22 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/64 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7034

    摘要： A method for the reproducible determination of the positions of structures (3) on a mask (2) is disclosed. A pellicle frame (30) is firmly attached to the mask (2). A theoretical model of the bending of the mask (2) with the firmly attached pellicle frame (30) is calculated, wherein material properties of the mask (2), of the pellicle frame (30), and of the attaching means between the pellicle frame (30) and the mask (2) are taken into account in the calculation of the bending of the mask (2). For the calculation of the bending of the mask (2) its contact with three support points is considered. The positions of the structures (3) on the mask (2) are measured with a metrology tool (1). The measured positions of each structure are corrected with the theoretical model of the bending of the mask at the position of the respectively measured structure.

    摘要翻译： 公开了一种用于可再现地确定掩模（2）上的结构（3）的位置的方法。 防护膜框架（30）牢固地附接到掩模（2）。 计算具有牢固附着的防护薄膜框架（30）的掩模（2）的弯曲的理论模型，其中防护薄膜组件框架（30）的掩模（2），防护薄膜组件（30）中的附着装置的材料特性 在计算掩模（2）的弯曲时，考虑框架（30）和掩模（2）。 为了计算掩模（2）的弯曲度，考虑与三个支撑点的接触。 用计量工具（1）测量掩模（2）上的结构（3）的位置。 每个结构的测量位置用分别测量结构位置上的掩模弯曲的理论模型进行校正。

    Method for the Reproducible Determination of the Position of Structures on a Mask with a Pellicle Frame
    6.
    发明申请
    Method for the Reproducible Determination of the Position of Structures on a Mask with a Pellicle Frame 有权
    在具有防护薄膜框架的面罩上重复测定结构位置的方法

    公开(公告)号：US20110225554A1

    公开(公告)日：2011-09-15

    申请号：US13030665

    申请日：2011-02-18

    申请人： Frank Laske ,  Christian Enkrich ,  Eric Cotte

    发明人： Frank Laske ,  Christian Enkrich ,  Eric Cotte

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/64 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7034

    摘要： A method for the reproducible determination of the positions of structures (3) on a mask (2) is disclosed. A pellicle frame (30) is firmly attached to the mask (2). A theoretical model of the bending of the mask (2) with the firmly attached pellicle frame (30) is calculated, wherein material properties of the mask (2), of the pellicle frame (30), and of the attaching means between the pellicle frame (30) and the mask (2) are taken into account in the calculation of the bending of the mask (2). For the calculation of the bending of the mask (2) its contact with three support points is considered. The positions of the structures (3) on the mask (2) are measured with a metrology tool (1). The measured positions of each structure are corrected with the theoretical model of the bending of the mask at the position of the respectively measured structure.

    摘要翻译： 公开了一种用于可再现地确定掩模（2）上的结构（3）的位置的方法。 防护膜框架（30）牢固地附接到掩模（2）。 计算具有牢固附着的防护薄膜框架（30）的掩模（2）的弯曲的理论模型，其中防护薄膜组件框架（30）的掩模（2），防护薄膜组件（30）中的附着装置的材料特性 在计算掩模（2）的弯曲时，考虑框架（30）和掩模（2）。 为了计算掩模（2）的弯曲度，考虑与三个支撑点的接触。 用计量工具（1）测量掩模（2）上的结构（3）的位置。 每个结构的测量位置用分别测量结构位置上的掩模弯曲的理论模型进行校正。