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    METHODS OF POLISHING SAPPHIRE SURFACES
    1.
    发明申请
    METHODS OF POLISHING SAPPHIRE SURFACES 有权
    抛光SAPPHIRE表面方法

    公开(公告)号：US20140263170A1

    公开(公告)日：2014-09-18

    申请号：US14206947

    申请日：2014-03-12

    申请人： Ecolab USA Inc.

    发明人： Kim Marie Long ,  Michael A. Kamrath ,  Sean McCue

    IPC分类号： C09G1/02

    CPC分类号： C09G1/02 ,  B24B7/228 ,  B24B37/044 ,  B81C1/00611 ,  B81C2201/0118 ,  C09G1/04 ,  H01L21/02065 ,  H01L21/31051 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/7684

    摘要： Described herein are compositions, kits and methods for polishing sapphire surfaces using compositions having colloidal aluminosilicate particles in an aqueous acidic solution. In some aspects, the methods for polishing a sapphire surface may include abrading a sapphire surface with a rotating polishing pad and a polishing composition. The polishing composition may include an amount of a colloidal aluminosilicate and may have a pH of about 2.0 to about 7.0.

    摘要翻译： 本文描述了使用在酸性水溶液中具有胶体硅铝酸盐颗粒的组合物来抛光蓝宝石表面的组合物，试剂盒和方法。 在一些方面，抛光蓝宝石表面的方法可包括用旋转抛光垫和抛光组合物研磨蓝宝石表面。 抛光组合物可以包括一定量的胶体硅铝酸盐，并且可以具有约2.0至约7.0的pH。

    Kit for polishing sapphire surfaces
    2.
    发明授权
    Kit for polishing sapphire surfaces 有权
    用于抛光蓝宝石表面的套件

    公开(公告)号：US09446493B2

    公开(公告)日：2016-09-20

    申请号：US15014548

    申请日：2016-02-03

    申请人： ECOLAB USA INC.

    发明人： Kim Marie Long ,  Michael A. Kamrath ,  Sean P. McCue

    IPC分类号： B24B7/22 ,  B24B37/04 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  B24B37/24

    CPC分类号： B24B7/228 ,  B24B37/044 ,  B24B37/24 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463

    摘要： Kits for polishing sapphire surfaces are disclosed. The kits have compositions including colloidal silica and the colloidal silica has a broad particle size distribution. The kits also include a polishing pad. The polishing pad may include polyurethane impregnated with polyester and it may have a compressibility of about 1% to about 40% and a Shore D hardness of about 50 to about 60.

    摘要翻译： 公开了用于抛光蓝宝石表面的套件。 试剂盒具有包括胶体二氧化硅的组合物，并且胶体二氧化硅具有宽的粒度分布。 套件还包括抛光垫。 抛光垫可以包括浸渍有聚酯的聚氨酯，并且其可以具有约1％至约40％的压缩率和约50至约60的肖氏D硬度。

    METHODS OF POLISHING SAPPHIRE SURFACES
    6.
    发明申请
    METHODS OF POLISHING SAPPHIRE SURFACES 有权
    抛光SAPPHIRE表面方法

    公开(公告)号：US20160151876A1

    公开(公告)日：2016-06-02

    申请号：US15014548

    申请日：2016-02-03

    申请人： ECOLAB USA INC.

    发明人： Kim Marie Long ,  Michael A. Kamrath ,  Sean P. McCue

    IPC分类号： B24B7/22

    CPC分类号： B24B7/228 ,  B24B37/044 ,  B24B37/24 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463

    摘要： Described herein are methods for polishing sapphire surfaces and compositions for polishing sapphire surfaces. Kits for polishing sapphire surfaces are also disclosed. The kits have compositions including colloidal silica and the colloidal silica has a broad particle size distribution. The kits also include a polishing pad. The polishing pad may include polyurethane impregnated with polyester and it may have a compressibility of about 1% to about 40% and a Shore D hardness of about 50 to about 60.

    摘要翻译： 本文描述了用于抛光蓝宝石表面的方法和用于抛光蓝宝石表面的组合物。 还公开了用于抛光蓝宝石表面的套件。 试剂盒具有包括胶体二氧化硅的组合物，并且胶体二氧化硅具有宽的粒度分布。 套件还包括抛光垫。 抛光垫可以包括浸渍有聚酯的聚氨酯，并且其可以具有约1％至约40％的压缩率和约50至约60的肖氏D硬度。