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公开(公告)号：US20090100391A1
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：US12248777
申请日：2008-10-09
申请人： Eddy Cornelis Antonius VAN DER HEIJDEN , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
发明人： Eddy Cornelis Antonius VAN DER HEIJDEN , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/70616 , G03F7/70633
摘要： A method of measuring overlay between a first structure and a second structure on a substrate is provided. The structures include equidistant elements, such as parallel lines, wherein the equidistant elements of the first and second structure alternate. A design width CD1 of the elements of the first structure is different from a design width CD2 of the elements of the second structure. The difference in design width can be used to identify measurement points having incorrectly measured overlay errors.
摘要翻译： 提供了一种测量衬底上的第一结构和第二结构之间的覆盖层的方法。 结构包括等距离元件，例如平行线，其中第一和第二结构的等距元件交替。 第一结构的元件的设计宽度CD1与第二结构的元件的设计宽度CD2不同。 设计宽度的差异可用于识别具有错误测量的重叠误差的测量点。
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公开(公告)号：US08119333B2
公开(公告)日：2012-02-21
申请号：US12186959
申请日：2008-08-06
申请人： Eddy Cornelis Antonius Van Der Heijden , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
发明人： Eddy Cornelis Antonius Van Der Heijden , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： H01L21/3086 , H01L21/0338 , H01L21/3065
摘要： A method for providing a pattern on a substrate is disclosed. The method includes providing a first pattern in a first layer of photoresist and a first layer of bottom anti-reflective coating material on the substrate, etching the first pattern into the substrate, providing a second layer of photoresist and a second layer of bottom anti-reflective coating material on the substrate, providing a second pattern in the second layers of photoresist and bottom anti-reflective coating material, and etching the second pattern into the substrate, the first and second patterns on the substrate together defining the pattern.
摘要翻译： 公开了一种在衬底上提供图案的方法。 该方法包括在第一层光致抗蚀剂中提供第一图案和在基底上提供第一层底部抗反射涂层材料，将第一图案蚀刻到基底中，提供第二层光致抗蚀剂和第二层底部抗反射涂层材料， 反射涂层材料，在第二层光致抗蚀剂和底部抗反射涂层材料上提供第二图案，并将第二图案蚀刻到衬底中，衬底上的第一和第二图案一起限定图案。
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公开(公告)号：US20090148796A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：US12186959
申请日：2008-08-06
申请人： Eddy Cornelis Antonius VAN DER HEIJDEN , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
发明人： Eddy Cornelis Antonius VAN DER HEIJDEN , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01L21/3086 , H01L21/0338 , H01L21/3065
摘要： A method for providing a pattern on a substrate is disclosed. The method includes providing a first pattern in a first layer of photoresist and a first layer of bottom anti-reflective coating material on the substrate, etching the first pattern into the substrate, providing a second layer of photoresist and a second layer of bottom anti-reflective coating material on the substrate, providing a second pattern in the second layers of photoresist and bottom anti-reflective coating material, and etching the second pattern into the substrate, the first and second patterns on the substrate together defining the pattern.
摘要翻译： 公开了一种在衬底上提供图案的方法。 该方法包括在第一层光致抗蚀剂中提供第一图案和在基底上提供第一层底部抗反射涂层材料，将第一图案蚀刻到基底中，提供第二层光致抗蚀剂和第二层底部抗反射涂层材料， 反射涂层材料，在第二层光致抗蚀剂和底部抗反射涂层材料上提供第二图案，并将第二图案蚀刻到衬底中，衬底上的第一和第二图案一起限定图案。
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公开(公告)号：US07992115B2
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：US12248777
申请日：2008-10-09
申请人： Eddy Cornelis Antonius Van Der Heijden , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
发明人： Eddy Cornelis Antonius Van Der Heijden , Johannes Anna Quaedackers , Dorothea Maria Christina Oorschot , Hieronymus Johannus Christiaan Meessen , Yin Fong Choi
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/70616 , G03F7/70633
摘要： A method of measuring overlay between a first structure and a second structure on a substrate is provided. The structures include equidistant elements, such as parallel lines, wherein the equidistant elements of the first and second structure alternate. A design width CD1 of the elements of the first structure is different from a design width CD2 of the elements of the second structure. The difference in design width can be used to identify measurement points having incorrectly measured overlay errors.
摘要翻译： 提供了一种测量衬底上的第一结构和第二结构之间的覆盖层的方法。 结构包括等距离元件，例如平行线，其中第一和第二结构的等距元件交替。 第一结构的元件的设计宽度CD1与第二结构的元件的设计宽度CD2不同。 设计宽度的差异可用于识别具有错误测量的重叠误差的测量点。
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