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    PATTERNING MOLD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    1.
    发明申请
    PATTERNING MOLD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
    模式及其制造方法

    公开(公告)号：US20120080819A1

    公开(公告)日：2012-04-05

    申请号：US13221395

    申请日：2011-08-30

    申请人： Eui Son Choi ,  Eun Soo Hwang ,  Young Tae Cho ,  Dong Min Kim ,  Jeong Gil Kim ,  Jong Woo Lee ,  Eun Ah Park

    发明人： Eui Son Choi ,  Eun Soo Hwang ,  Young Tae Cho ,  Dong Min Kim ,  Jeong Gil Kim ,  Jong Woo Lee ,  Eun Ah Park

    IPC分类号： B29C59/02

    CPC分类号： B29C45/2632 ,  B29C33/0033 ,  B29C33/306 ,  B29C33/424 ,  B29C39/26 ,  B29K2101/10

    摘要： Disclosed herein is a patterning mold to form a micropattern on a substrate or glass. The disclosed patterning mold includes a body having a patterning part formed at one end of the body. The patterning part may be configured to contact a surface of the substrate, to form a channel. In example embodiments, an ink supply passage communicating with the channel may be formed in the patterning mold, to supply an ink to the channel. In example embodiments, a fixing member is coupled to an exterior of the transfer body, to prevent or reduce deformation of the exterior of the transfer body.

    摘要翻译： 本文公开了一种用于在基板或玻璃上形成微图案的图案化模具。 所公开的图案形成模具包括具有形成在主体一端的图形部分的主体。 图案形成部分可以被配置为接触衬底的表面，以形成沟道。 在示例性实施例中，可以在图案化模具中形成与通道连通的供墨通道，以将墨水供应到通道。 在示例性实施例中，固定构件联接到转印体的外部，以防止或减少转印体外部的变形。

    INK COMPOSITION FOR FLEXO PRINTING
    4.
    发明申请
    INK COMPOSITION FOR FLEXO PRINTING 审中-公开
    用于FLEXO印刷的墨水组合物

    公开(公告)号：US20120108717A1

    公开(公告)日：2012-05-03

    申请号：US13187967

    申请日：2011-07-21

    申请人： Eun Ah Park ,  Jong Woo Lee ,  Eun Soo Hwang ,  Young Tae Cho ,  Jeong Gil Kim

    发明人： Eun Ah Park ,  Jong Woo Lee ,  Eun Soo Hwang ,  Young Tae Cho ,  Jeong Gil Kim

    IPC分类号： C09D11/10

    CPC分类号： C09D11/037 ,  C09D11/03

    摘要： An ink composition for flexo printing contains a dye type colorant in order to precisely print. The ink composition for flexo printing includes about 1 to 40 wt. % of a colorant, about 5 to 40 wt. % of a binder, about 20 to 95 wt. % of a solvent and a remainder of an additive, wherein the wt. % of the colorant, the binder, the solvent and the additive is based on a total weight of the ink composition.

    摘要翻译： 用于柔版印刷的油墨组合物包含染料型着色剂以便精确印刷。 用于柔版印刷的油墨组合物包括约1至40wt。 ％的着色剂，约5至40wt。 ％的粘合剂，约20至95wt。 ％的溶剂和剩余的添加剂，其中wt。 着色剂，粘合剂，溶剂和添加剂的％基于油墨组合物的总重量。

    Roll-to-roll patterning apparatus and patterning system having the same
    6.
    发明授权
    Roll-to-roll patterning apparatus and patterning system having the same 有权
    卷对卷图案装置和具有该图案的图案形成系统

    公开(公告)号：US08424487B2

    公开(公告)日：2013-04-23

    申请号：US12662677

    申请日：2010-04-28

    申请人： Young Tae Cho ,  Sin Kwon ,  Ki Hyun Kim ,  Jung Woo Seo ,  Dong Min Kim ,  Jeong Gil Kim

    发明人： Young Tae Cho ,  Sin Kwon ,  Ki Hyun Kim ,  Jung Woo Seo ,  Dong Min Kim ,  Jeong Gil Kim

    IPC分类号： B05C11/00 ,  B05C1/00 ,  B05C1/06

    CPC分类号： B65H23/038 ,  B05C5/0241 ,  B05D1/40 ,  B05D3/067 ,  B65H2301/5114 ,  B65H2301/5126 ,  B65H2404/15212

    摘要： Disclosed herein is a roll-to-roll patterning apparatus and a patterning system using the same. The patterning system may include a supply roll to supply a film member, a recovery roll to recover the film member, and a roll-to-roll patterning apparatus forming a coating on the film member. The roll-to-roll patterning apparatus may include a pattern roller, a plurality of press rollers, and an alignment roller. The pattern roller may include an outer peripheral surface with a first pattern. The plurality of press rollers may press a film member against the pattern roller to form a second pattern on the film member. The alignment roller may be spaced apart from the pattern roller and may be arranged at an upstream position in a movement direction of the film member. The alignment roller may align the film member entering a region between the pattern roller and the plurality of press rollers.

    摘要翻译： 本文公开了一种卷对卷图案形成装置和使用其的图案形成系统。 图案形成系统可以包括用于供应膜构件的供应辊，用于回收膜构件的回收辊以及在膜构件上形成涂层的卷对卷图案形成装置。 卷对卷图案形成装置可以包括图案辊，多个压辊和对准辊。 图案辊可以包括具有第一图案的外周表面。 多个压辊可以将膜构件压靠在图案辊上，以在膜构件上形成第二图案。 对准辊可以与图案辊间隔开，并且可以布置在膜构件的移动方向上的上游位置处。 对准辊可以将膜构件对准进入图案辊和多个压辊之间的区域。

    Roll-to-roll patterning apparatus and patterning system having the same
    7.
    发明申请
    Roll-to-roll patterning apparatus and patterning system having the same 有权
    卷对卷图案装置和具有该图案的图案形成系统

    公开(公告)号：US20100282162A1

    公开(公告)日：2010-11-11

    申请号：US12662677

    申请日：2010-04-28

    申请人： Young Tae Cho ,  Sin Kwon ,  Ki Hyun Kim ,  Jung Woo Seo ,  Dong Min Kim ,  Jeong Gil Kim

    发明人： Young Tae Cho ,  Sin Kwon ,  Ki Hyun Kim ,  Jung Woo Seo ,  Dong Min Kim ,  Jeong Gil Kim

    IPC分类号： B05C9/08 ,  B05C1/08

    CPC分类号： B65H23/038 ,  B05C5/0241 ,  B05D1/40 ,  B05D3/067 ,  B65H2301/5114 ,  B65H2301/5126 ,  B65H2404/15212

    摘要： Disclosed herein is a roll-to-roll patterning apparatus and a patterning system using the same. The patterning system may include a supply roll to supply a film member, a recovery roll to recover the film member, and a roll-to-roll patterning apparatus forming a coating on the film member. The roll-to-roll patterning apparatus may include a pattern roller, a plurality of press rollers, and an alignment roller. The pattern roller may include an outer peripheral surface with a first pattern. The plurality of press rollers may press a film member against the pattern roller to form a second pattern on the film member. The alignment roller may be spaced apart from the pattern roller and may be arranged at an upstream position in a movement direction of the film member. The alignment roller may align the film member entering a region between the pattern roller and the plurality of press rollers.

    摘要翻译： 本文公开了一种卷对卷图案形成装置和使用其的图案形成系统。 图案形成系统可以包括用于供应膜构件的供应辊，用于回收膜构件的回收辊以及在膜构件上形成涂层的卷对卷图案形成装置。 卷对卷图案形成装置可以包括图案辊，多个压辊和对准辊。 图案辊可以包括具有第一图案的外周表面。 多个压辊可以将膜构件压靠在图案辊上，以在膜构件上形成第二图案。 对准辊可以与图案辊间隔开，并且可以布置在膜构件的移动方向上的上游位置处。 对准辊可以将膜构件对准进入图案辊和多个压辊之间的区域。

    Method for fabrication of mold for nano imprinting and method for production of photonic crystal using the same
    8.
    发明申请
    Method for fabrication of mold for nano imprinting and method for production of photonic crystal using the same 审中-公开
    纳米压印用模具的制造方法及其制造方法

    公开(公告)号：US20100096770A1

    公开(公告)日：2010-04-22

    申请号：US12585874

    申请日：2009-09-28

    申请人： Young Tae Cho ,  Jeong Gil Kim

    发明人： Young Tae Cho ,  Jeong Gil Kim

    IPC分类号： B29C33/42

    CPC分类号： B29C33/3878

    摘要： A manufacturing process using a replica mold for nano imprinting having a grid type pattern by combining a nano imprint with a dry etching process is disclosed. In order to attain such a manufacturing process, a method of fabricating a mold for nano imprinting may include arranging a master mold having first patterns over a substrate having metal patterns so that both the first pattern and the metal pattern cross over each other, applying resin between the master mold and the substrate, applying an imprinting treatment of the substrate as well as the master mold, hardening the resin, and etching the hardened resin after the master mold is released, so as to form a replica mold for nano imprint. The nano imprinting process and the etching process may easily form a pattern in a more complicated structure, and therefore, may improve production yield and reduce processing time thereof.

    摘要翻译： 公开了一种使用复制模具进行纳米压印的制造工艺，其具有通过将纳米压印与干蚀刻工艺组合而具有格栅型图案。 为了实现这种制造工艺，制造用于纳米压印的模具的方法可以包括在具有金属图案的基板上布置具有第一图案的母模，使得第一图案和金属图案彼此交叉，施加树脂 在母模和基板之间，在母模脱模之后，对基板以及母模进行压印处理，硬化树脂，并蚀刻硬化树脂，以形成用于纳米压印的复制模。 纳米压印工艺和蚀刻工艺可以容易地形成更复杂结构的图案，因此可以提高生产成品率并缩短其处理时间。

    Nano-imprint lithography methods
    9.
    发明授权
    Nano-imprint lithography methods 有权
    纳米压印光刻方法

    公开(公告)号：US08557130B2

    公开(公告)日：2013-10-15

    申请号：US12654023

    申请日：2009-12-08

    申请人： Young Tae Cho ,  Suk Won Lee ,  Sin Kwon ,  Jung Woo Seo ,  Jeong Gil Kim

    发明人： Young Tae Cho ,  Suk Won Lee ,  Sin Kwon ,  Jung Woo Seo ,  Jeong Gil Kim

    IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： In forming a pattern on a substrate with reduced pattern error using a mold having an area smaller than an area of the substrate, a first resin pattern is formed on at least a first of a plurality of regions of an etching object layer by imprinting resin applied to the etching object layer using a first mold The etching object layer is then etched using the first resin pattern as an etching mask. A second resin pattern is formed on at least a second of the plurality of regions by imprinting resin applied to the etching object layer using a second mold. The etching object layer is again etched using the second resin pattern as an etching mask.

    摘要翻译： 在使用面积小于基板的面积的模具的基板上形成图案减少图案的情况下，通过印刷树脂施加在蚀刻对象层的多个区域的至少第一区域上形成第一树脂图案 使用第一模具到蚀刻对象层。然后使用第一树脂图案作为蚀刻掩模蚀刻蚀刻对象层。 通过使用第二模具将施加到蚀刻对象层的树脂压印，在多个区域中的至少一个区域上形成第二树脂图案。 使用第二树脂图案作为蚀刻掩模再次蚀刻蚀刻对象层。