公开(公告)号：US20140193754A1

公开(公告)日：2014-07-10

申请号：US14180848

申请日：2014-02-14

申请人： Hengpeng WU ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark O. NEISSER ,  Guanyang LIN

发明人： Hengpeng WU ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark O. NEISSER ,  Guanyang LIN

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/32 ,  C08F220/14 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/14 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2037

摘要： The present invention relates to novel neutral layer compositions and methods for using the neutral layer compositions for aligning microdomains of directed self-assembling block copolymers (BCP). The compositions and processes are useful for fabrication of electronic devices. The neutral layer composition comprises at least one random copolymer having at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3) where R1 is selected from the group consisting of a C1-C8 alkyl, C1-C8 fluoroalkyl moiety, C1-C8 partially fluorinated alkyl, C4-C8 cycloalkyl, C4-C8 cyclofluoroalkyl, C4-C8 partially fluorinated cycloalkyl, and a C2-C8 hydroxyalkyl; R2, R3 and R5 are independently selected from a group consisting of H, C1-C4 alkyl, CF3 and F; R4 is selected from the group consisting of H, C1-C8 alkyl, C1-C8 partially fluorinated alkyl and C1-C8 fluoroalkyl, n ranges from 1 to 5, R6 is selected from the group consisting of H, F, C1-C8 alkyl and a C1-C8 fluoroalkyl and m ranges from 1 to 3.

摘要翻译： 本发明涉及新型中性层组合物和使用中性层组合物对准定向自组装嵌段共聚物（BCP）的微区的方法。 组合物和方法可用于制造电子装置。 中性层组合物包含至少一种具有至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）和至少一个结构单元（3）的无规共聚物，其中R1选自 C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8氟烷基部分，C 1 -C 8部分氟化烷基，C 4 -C 8环烷基，C 4 -C 8环氟烷基，C 4 -C 8部分氟化环烷基和C 2 -C 8羟烷基; R2，R3和R5独立地选自H，C1-C4烷基，CF3和F; R 4选自H，C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8部分氟化烷基和C 1 -C 8氟代烷基，n为1至5，R 6选自H，F，C 1 -C 8烷基 和C 1 -C 8氟烷基，m为1至3。

公开(公告)号：US20130078576A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：US13243640

申请日：2011-09-23

申请人： Hengpeng WU ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark O. NEISSER ,  Guanyang LIN

发明人： Hengpeng WU ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark O. NEISSER ,  Guanyang LIN

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L33/12

CPC分类号： G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/32 ,  C08F220/14 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/14 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2037

摘要： The present invention relates to novel neutral layer compositions and methods for using the compositions. The neutral layer composition comprises at least one random copolymer having at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3) where R1 is selected from the group consisting of a C1-C8 alkyl, C1-C8 fluoroalkyl moiety, C1-C8 partially fluorinated alkyl, C4-C8 cycloalkyl, C4-C8 cyclofluoroalkyl, C4-C8 partially fluorinated cycloalkyl, and a C2-C8 hydroxyalkyl; R2, R3 and R5 are independently selected from a group consisting of H, C1-C4 alkyl, CF3 and F; R4 is selected from the group consisting of H, C1-C8 alkyl, C1-C8 partially fluorinated alkyl and C1-C8 fluoroalkyl, n ranges from 1 to 5, R6 is selected from the group consisting of H, F, C1-C8 alkyl and a C1-C8 fluoroalkyl and m ranges from 1 to 3.

摘要翻译： 本发明涉及新型中性层组合物和使用该组合物的方法。 中性层组合物包含至少一种具有至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）和至少一个结构单元（3）的无规共聚物，其中R1选自 C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8氟烷基部分，C 1 -C 8部分氟化烷基，C 4 -C 8环烷基，C 4 -C 8环氟烷基，C 4 -C 8部分氟化环烷基和C 2 -C 8羟烷基; R2，R3和R5独立地选自H，C1-C4烷基，CF3和F; R 4选自H，C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8部分氟化烷基和C 1 -C 8氟代烷基，n为1至5，R 6选自H，F，C 1 -C 8烷基 和C 1 -C 8氟烷基，m为1至3。

公开(公告)号：US20130330668A1

公开(公告)日：2013-12-12

申请号：US13492125

申请日：2012-06-08

申请人： Hengpeng WU ,  Orest POLISHCHUK ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark NEISSER

发明人： Hengpeng WU ,  Orest POLISHCHUK ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark NEISSER

IPC分类号： C08F220/10 ,  C07C245/04 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F4/04 ,  C07C245/04 ,  C08F8/12 ,  C08F212/08 ,  C08F2800/20 ,  C08F2810/40 ,  G03F7/0002 ,  C08F220/14

摘要： The present invention relates to a novel polymeric composition comprising a novel polymer having two or more repeat units and a terminus having the structure (1): wherein R1 represents a C1-C20 substituted or unsubstituted alkyl group, w is a number from 1-8, X is oxygen (O) or nitrogen (N), and Rd is a reactive group. The invention also relates to a process for forming a pattern using the novel polymeric composition. The invention further relates to a process of making the novel polymer.

摘要翻译： 本发明涉及包含具有两个或多个重复单元的新型聚合物和具有结构（1）的末端的新型聚合物组合物：其中R1表示C1-C20取代或未取代的烷基，w为1-8 ，X是氧（O）或氮（N），Rd是反应性基团。 本发明还涉及使用新型聚合物组合物形成图案的方法。 本发明还涉及制备该新型聚合物的方法。

公开(公告)号：US20140342290A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：US13896936

申请日：2013-05-17

申请人： Hengpeng WU ,  SungEun HONG ,  Yi CAO ,  Jian YIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Muthiah THIYAGARAJAN

发明人： Hengpeng WU ,  SungEun HONG ,  Yi CAO ,  Jian YIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Muthiah THIYAGARAJAN

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/16

CPC分类号： G03F7/405 ,  C08F8/44 ,  C08F220/34 ,  C08F226/10 ,  C08L2201/54 ,  C09D133/14 ,  C09D139/06 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273

摘要： The present invention relates a novel aqueous composition comprising polymeric thermal acid generator and a process of coating the novel composition onto photoresist pattern, thereby forming a layer of the polymeric thermal acid generator over the photoresist pattern. The polymeric thermal acid generator comprises a polymer having at least one repeating unit of structure 2; where R1 to R5 are independently chosen from the group consisting of H and C1-C6 alkyl; R6 is chosen from the group consisting of unsubstituted aryl, substituted aryl, alkyl (C1-C8) and fluoroalkyl (C1-C8) and W is a C2-C6 alkylene spacer.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物热酸发生剂的新型含水组合物和将该新组合物涂覆在光致抗蚀剂图案上的方法，由此在光致抗蚀剂图案上形成聚合物热酸发生剂层。 聚合物热酸产生剂包括具有至少一个结构2的重复单元的聚合物; 其中R 1至R 5独立地选自H和C 1 -C 6烷基; R6选自未取代的芳基，取代的芳基，（C1-C8）烷基和氟烷基（C1-C8），W是C2-C6亚烷基间隔基。