公开(公告)号：US20130330668A1

公开(公告)日：2013-12-12

申请号：US13492125

申请日：2012-06-08

申请人： Hengpeng WU ,  Orest POLISHCHUK ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark NEISSER

发明人： Hengpeng WU ,  Orest POLISHCHUK ,  Yi CAO ,  SungEun HONG ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  Margareta PAUNESCU ,  Mark NEISSER

IPC分类号： C08F220/10 ,  C07C245/04 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F4/04 ,  C07C245/04 ,  C08F8/12 ,  C08F212/08 ,  C08F2800/20 ,  C08F2810/40 ,  G03F7/0002 ,  C08F220/14

摘要： The present invention relates to a novel polymeric composition comprising a novel polymer having two or more repeat units and a terminus having the structure (1): wherein R1 represents a C1-C20 substituted or unsubstituted alkyl group, w is a number from 1-8, X is oxygen (O) or nitrogen (N), and Rd is a reactive group. The invention also relates to a process for forming a pattern using the novel polymeric composition. The invention further relates to a process of making the novel polymer.

摘要翻译： 本发明涉及包含具有两个或多个重复单元的新型聚合物和具有结构（1）的末端的新型聚合物组合物：其中R1表示C1-C20取代或未取代的烷基，w为1-8 ，X是氧（O）或氮（N），Rd是反应性基团。 本发明还涉及使用新型聚合物组合物形成图案的方法。 本发明还涉及制备该新型聚合物的方法。

公开(公告)号：US20130233827A1

公开(公告)日：2013-09-12

申请号：US13416669

申请日：2012-03-09

申请人： Jian YIN ,  Hengpeng WU ,  Muthiah THIYAGARAJAN ,  SungEun HONG ,  Mark NEISSER ,  Yi CAO

发明人： Jian YIN ,  Hengpeng WU ,  Muthiah THIYAGARAJAN ,  SungEun HONG ,  Mark NEISSER ,  Yi CAO

IPC分类号： C08F6/04 ,  B05D3/10 ,  B05D5/00

CPC分类号： B05D5/00 ,  B01D15/361 ,  B01J39/05 ,  B01J41/07 ,  B01J45/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/00 ,  C08F6/02 ,  C08J3/00 ,  C08L53/00

摘要： The present invention relates to a method for treating a block copolymer solution, wherein the method comprises: providing a solution comprising a block copolymer in a non aqueous solvent; and, treating the solution to remove metals using an ion exchange resin. The invention also relates to a method of forming patterns using the treated block copolymer.

摘要翻译： 本发明涉及一种处理嵌段共聚物溶液的方法，其中该方法包括：在非水溶剂中提供包含嵌段共聚物的溶液; 并使用离子交换树脂处理该溶液以除去金属。 本发明还涉及使用经处理的嵌段共聚物形成图案的方法。

公开(公告)号：US20140151330A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：US14175203

申请日：2014-02-07

申请人： Jian YIN ,  Hengpeng WU ,  Muthiah THIYAGARAJAN ,  SungEun HONG ,  Mark NEISSER ,  Yi CAO

发明人： Jian YIN ,  Hengpeng WU ,  Muthiah THIYAGARAJAN ,  SungEun HONG ,  Mark NEISSER ,  Yi CAO

IPC分类号： B05D5/00 ,  B05D3/00 ,  B05D1/00

CPC分类号： B05D5/00 ,  B01D15/361 ,  B01J39/05 ,  B01J41/07 ,  B01J45/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/00 ,  C08F6/02 ,  C08J3/00 ,  C08L53/00

摘要： The present invention relates to a method for treating a block copolymer solution, wherein the method comprises: providing a solution comprising a block copolymer in a non aqueous solvent; and, treating the solution to remove metals using an ion exchange resin. The invention also relates to a method of forming patterns using the treated block copolymer.

摘要翻译： 本发明涉及一种处理嵌段共聚物溶液的方法，其中该方法包括：在非水溶剂中提供包含嵌段共聚物的溶液; 并使用离子交换树脂处理该溶液以除去金属。 本发明还涉及使用经处理的嵌段共聚物形成图案的方法。

公开(公告)号：US20120328990A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13164869

申请日：2011-06-21

申请人： Huirong YAO ,  Guanyang LIN ,  Zachary BOGUSZ ,  PingHung LU ,  WooKyu KIM ,  Mark NEISSER

发明人： Huirong YAO ,  Guanyang LIN ,  Zachary BOGUSZ ,  PingHung LU ,  WooKyu KIM ,  Mark NEISSER

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08K5/04

CPC分类号： C08K5/0091 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  C08L33/16 ,  C08L101/06

摘要： The present invention relates to an underlayer composition comprising a polymer, an organic titanate compound and optionally a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one fluoroalcohol group and at least one epoxy group. The invention also relates to a process for using this underlayer material as an antireflective coating composition and/or a hard mask for pattern transfer.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，有机钛酸盐化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中聚合物包含至少一个氟代醇基团和至少一个环氧基团。 本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或用于图案转印的硬掩模的方法。