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    Composition for Coating over a Photoresist Pattern Comprising a Lactam
    3.
    发明申请
    Composition for Coating over a Photoresist Pattern Comprising a Lactam 审中-公开
    用于在包含内酰胺的光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物

    公开(公告)号：US20120219919A1

    公开(公告)日：2012-08-30

    申请号：US13033912

    申请日：2011-02-24

    申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

    发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/405

    摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern comprising a polymer containing a lactam group of structure (1) where R1 is independently selected hydrogen, C1-C4 alkyl, C1-C6 alkyl alcohol, hydroxy (OH), amine (NH2), carboxylic acid, and amide (CONH2), represents the attachment to the polymer, m=1-6, and n=1-4.The present invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device comprising providing a substrate with a photoresist pattern, coating the photoresist pattern with the novel coating material reacting a portion of the coating material in contact with the photoresist pattern, and removing a portion of the coating material which is not reacted with a removal solution.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有结构（1）的内酰胺基团的聚合物，其中R 1独立地选自氢，C 1 -C 4烷基，C 1 -C 6烷基醇，羟基（OH） （NH 2），羧酸和酰胺（CONH 2）表示与聚合物的连接，m = 1-6，n = 1-4。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法，包括提供具有光致抗蚀剂图案的基底，用新颖的涂层材料涂覆光致抗蚀剂图案，使一部分涂料与光致抗蚀剂图案接触，并且将一部分 不与去除溶液反应的涂料。

    Composition for coating over a photoresist pattern comprising a lactam
    4.
    发明授权
    Composition for coating over a photoresist pattern comprising a lactam 有权
    用于在包含内酰胺的光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物

    公开(公告)号：US07923200B2

    公开(公告)日：2011-04-12

    申请号：US11697804

    申请日：2007-04-09

    申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

    发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

    IPC分类号： G03F7/40

    CPC分类号： G03F7/40 ,  C09D139/00

    摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern comprising a polymer containing a lactam group of structure (1) where R1 is independently selected hydrogen, C1-C4 alkyl, C1-C6 alkyl alcohol, hydroxy (OH), amine (NH2), carboxylic acid, and amide (CONH2),  represents the attachment to the polymer, m=1-6, and n=1-4. The present invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device comprising providing a substrate with a photoresist pattern, coating the photoresist pattern with the novel coating material reacting a portion of the coating material in contact with the photoresist pattern, and removing a portion of the coating material which is not reacted with a removal solution.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有结构（1）的内酰胺基团的聚合物，其中R 1独立地选自氢，C 1 -C 4烷基，C 1 -C 6烷基醇，羟基（OH） （NH 2），羧酸和酰胺（CONH 2）表示与聚合物的连接，m = 1-6，n = 1-4。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法，包括提供具有光致抗蚀剂图案的基底，用新颖的涂层材料涂覆光致抗蚀剂图案，使一部分涂料与光致抗蚀剂图案接触，并且将一部分 不与去除溶液反应的涂料。

    Composition for Coating over a Photoresist Pattern
    6.
    发明申请
    Composition for Coating over a Photoresist Pattern 有权
    用于在光刻胶图案上涂覆的组合物

    公开(公告)号：US20090317739A1

    公开(公告)日：2009-12-24

    申请号：US12141307

    申请日：2008-06-18

    申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Yi Cao ,  Sung Eun Hong ,  Ralph R. Dammel

    发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Yi Cao ,  Sung Eun Hong ,  Ralph R. Dammel

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F26/02 ,  C08K5/17 ,  C08K5/05

    CPC分类号： C09D133/14 ,  C09D133/066 ,  C09D139/00 ,  G03F7/40

    摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern, comprising a polymer comprising at least one unit with an alkylamino group, where the unit has a structure (1), where, R1 to R5 are independently selected from hydrogen and C1 to C6 alkyl, and W is C1 to C6 alkyl. The invention also relates to a process for imaging a photoresist layer using the present composition.

    摘要翻译： 本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有至少一个具有烷基氨基的单元的聚合物，其中该单元具有结构（1），其中R 1至R 5独立地选自氢和C 1 至C6烷基，W为C1至C6烷基。 本发明还涉及使用本发明组合物对光致抗蚀剂层进行成像的方法。