公开(公告)号：US06238741B1

公开(公告)日：2001-05-29

申请号：US09206159

申请日：1998-12-07

申请人： James M. Blazick ,  Michael E. Cropp ,  James N. Humenik ,  Gerald H. Leino ,  Jawahar P. Nayak ,  Frank V. Ranalli ,  Deborah A. Sylvester ,  John A. Trumpetto ,  James C. Utter ,  Rao V. Vallabhaneni ,  Renee L. Weisman

发明人： James M. Blazick ,  Michael E. Cropp ,  James N. Humenik ,  Gerald H. Leino ,  Jawahar P. Nayak ,  Frank V. Ranalli ,  Deborah A. Sylvester ,  John A. Trumpetto ,  James C. Utter ,  Rao V. Vallabhaneni ,  Renee L. Weisman

IPC分类号： B05D500

CPC分类号： H05K3/1233 ,  H01L51/0004 ,  H05K3/245 ,  H05K2201/035 ,  H05K2203/0139

摘要： A process of forming a multi-layer feature on a ceramic or organic article in which first and second layers of paste are sequentially screened through a screening mask wherein the screening mask has not been moved between screening steps. A structure produced by this process is also disclosed.

摘要翻译： 在陶瓷或有机制品上形成多层特征的方法，其中第一和第二层浆料通过筛选掩模被顺序地筛选，其中筛选掩模在筛选步骤之间没有移动。 还公开了通过该方法生产的结构。

公开(公告)号：US07615850B2

公开(公告)日：2009-11-10

申请号：US12104103

申请日：2008-04-16

申请人： Rehan Choudhary ,  Benjamin V. Fasano ,  Sushumna Iruvanti ,  Daniel D. Reinhardt ,  Deborah A. Sylvester

发明人： Rehan Choudhary ,  Benjamin V. Fasano ,  Sushumna Iruvanti ,  Daniel D. Reinhardt ,  Deborah A. Sylvester

IPC分类号： H01L23/556

CPC分类号： H01L21/563 ,  C08G2650/40 ,  C08L71/00 ,  H01L23/556 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/8388 ,  H01L2224/83885 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01084 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/3512 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05599

摘要： A method and device comprising an easily reworkable alpha particle barrier is provided. The easily reworkable alpha particle barrier is applied in the space between the surface of the chip and the surface of the substrate, and reduces soft error rate (SER). Further, the easily reworkable alpha particle barrier material is chosen from the group of an organic material, a hydrocarbon, more specifically a polyalphaolefin (PAO) oil, and a polymer or filled polymer; wherein the polyalphaolefin oil has a viscosity below 1000 cSt (at 100° C.). The easily reworkable alpha particle barrier material can be used with multichip modules (MCM's) allowing easy device rework of one or more dies without affecting other dies on the same substrate.

摘要翻译： 提供了一种包括易于再加工的α粒子屏障的方法和装置。 在芯片的表面和基板的表面之间的空间中施加易于再加工的α粒子屏障，并且降低软错误率（SER）。 此外，易于再加工的α粒子阻挡材料选自有机材料，烃，更具体地是聚α-烯烃（PAO）油和聚合物或填充聚合物的组; 其中所述聚α-烯烃油的粘度低于1000cSt（在100℃）。 易于再加工的α粒子阻挡材料可以与多芯片模块（MCM）一起使用，允许一个或多个模具的简单的器件返工，而不会影响同一基板上的其他裸片。

公开(公告)号：US07381590B2

公开(公告)日：2008-06-03

申请号：US11308167

申请日：2006-03-09

申请人： Rehan Choudhary ,  Benjamin V. Fasano ,  Sushumna Iruvanti ,  Daniel D. Reinhardt ,  Deborah A. Sylvester

发明人： Rehan Choudhary ,  Benjamin V. Fasano ,  Sushumna Iruvanti ,  Daniel D. Reinhardt ,  Deborah A. Sylvester

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L23/48

CPC分类号： H01L21/563 ,  C08G2650/40 ,  C08L71/00 ,  H01L23/556 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/8388 ,  H01L2224/83885 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01084 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/3512 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05599

摘要： A method and device comprising an easily reworkable alpha particle barrier is provided. The easily reworkable alpha particle barrier is applied in the space between the surface of the chip and the surface of the substrate, and reduces soft error rate (SER). Further, the easily reworkable alpha particle barrier material is chosen from the group of an organic material, a hydrocarbon, more specifically a polyalphaolefin (PAO) oil, and a polymer or filled polymer; wherein the polyalphaolefin oil has a viscosity below 1000 cSt (at 100° C.). The easily reworkable alpha particle barrier material can be used with multichip modules (MCM's) allowing easy device rework of one or more dies without affecting other dies on the same substrate.

摘要翻译： 提供了一种包括易于再加工的α粒子屏障的方法和装置。 在芯片的表面和基板的表面之间的空间中施加易于再加工的α粒子屏障，并且降低软错误率（SER）。 此外，易于再加工的α粒子阻挡材料选自有机材料，烃，更具体地是聚α-烯烃（PAO）油和聚合物或填充聚合物的组; 其中所述聚α-烯烃油的粘度低于1000cSt（在100℃）。 易于再加工的α粒子阻挡材料可以与多芯片模块（MCM）一起使用，允许一个或多个模具的简单的器件返工，而不会影响同一基板上的其他裸片。

公开(公告)号：US20080217793A1

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：US12104103

申请日：2008-04-16

申请人： Rehan CHOUDHARY ,  Benjamin V. Fasano ,  Sushumna Iruvanti ,  Daniel D. Reinhardt ,  Deborah A. Sylvester

发明人： Rehan CHOUDHARY ,  Benjamin V. Fasano ,  Sushumna Iruvanti ,  Daniel D. Reinhardt ,  Deborah A. Sylvester

IPC分类号： H01L23/29

CPC分类号： H01L21/563 ,  C08G2650/40 ,  C08L71/00 ,  H01L23/556 ,  H01L24/13 ,  H01L24/16 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/8388 ,  H01L2224/83885 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01084 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/3512 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/05599

摘要： A method and device comprising an easily reworkable alpha particle barrier is provided. The easily reworkable alpha particle barrier is applied in the space between the surface of the chip and the surface of the substrate, and reduces soft error rate (SER). Further, the easily reworkable alpha particle barrier material is chosen from the group of an organic material, a hydrocarbon, more specifically a polyalphaolefin (PAO) oil, and a polymer or filled polymer; wherein the polyalphaolefin oil has a viscosity below 1000 cSt (at 100° C.). The easily reworkable alpha particle barrier material can be used with multichip modules (MCM's) allowing easy device rework of one or more dies without affecting other dies on the same substrate.

摘要翻译： 提供了一种包括易于再加工的α粒子屏障的方法和装置。 在芯片的表面和基板的表面之间的空间中施加易于再加工的α粒子屏障，并且降低软错误率（SER）。 此外，易于再加工的α粒子阻挡材料选自有机材料，烃，更具体地是聚α-烯烃（PAO）油和聚合物或填充聚合物的组; 其中所述聚α-烯烃油的粘度低于1000cSt（在100℃）。 易于再加工的α粒子阻挡材料可以与多芯片模块（MCM）一起使用，允许一个或多个模具的简单的器件返工，而不会影响同一基板上的其他裸片。