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    LITHOGRAPHIC APPARATUS IMMERSION DAMAGE CONTROL
    6.
    发明申请
    LITHOGRAPHIC APPARATUS IMMERSION DAMAGE CONTROL 有权

    公开(公告)号：US20070002294A1

    公开(公告)日：2007-01-04

    申请号：US11169298

    申请日：2005-06-29

    申请人： Frits Van Der Meulen ,  Henrikus Cox ,  Martijn Houkes ,  Robertus Van Vliet ,  Stoyan Nihtianov ,  Petrus Wilhelmus Kemper ,  Roland Hanegraaf

    发明人： Frits Van Der Meulen ,  Henrikus Cox ,  Martijn Houkes ,  Robertus Van Vliet ,  Stoyan Nihtianov ,  Petrus Wilhelmus Kemper ,  Roland Hanegraaf

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70341

    摘要： A lithographic apparatus includes a substrate table to hold a substrate; a substrate table position measurement system to measure a position quantity of the substrate table, a projection system to project a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, a fluid supply system to supply an immersion fluid in a space between a downstream lens of the projection system and the substrate, and a fluid supply system position measurement system to measure a position quantity of the fluid supply system. To prevent a collision between the fluid supply system and the substrate table, a damage control system of the lithographic apparatus may include a calculator to calculate a dimensional quantity of a gap between the fluid supply system and the substrate table from the positioned quantity of the substrate table and the position quantity of the fluid supply system. The damage control system may generate a warning signal when the dimensional quantity goes beyond a predetermined safety level.

    摘要翻译： 光刻设备包括用于保持衬底的衬底台; 用于测量衬底台的位置量的衬底台位置测量系统，将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，用于将浸没流体提供在下游透镜之间的空间中的流体供应系统 投影系统和基板，以及用于测量流体供应系统的位置量的流体供应系统位置测量系统。 为了防止流体供给系统和基板台之间的碰撞，光刻设备的损坏控制系统可以包括计算器，用于从基板的定位量计算流体供应系统和基板台之间的间隙的尺寸量 表和流体供应系统的位置数量。 当尺寸量超过预定的安全级别时，损坏控制系统可以产生警告信号。